CN204303754U - 半导体晶片清洗槽 - Google Patents
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Abstract
一种半导体晶片清洗槽,包括清洗槽本体,其特殊之处是:所述清洗槽本体侧面下部固设有支撑块,在清洗槽本体内部位于支撑块上设有镂空隔板,所述镂空隔板上设有晶片花篮,所述清洗槽本体内部位于镂空隔板下面设有搅拌轴,所述清洗槽本体上对应支撑块位置设置定位块。该半导体晶片清洗槽结构简单、成本低、使用方便,将晶片花篮放在镂空隔板上,利用搅拌轴上的搅拌杆使液体流动,整个清洗过程中晶片花篮静止,防止清洗过程晶片损坏,从而提高晶片的成品率,避免晶片二次污染。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种半导体晶片清洗槽。
背景技术
现有的半导体晶片清洗槽在清洗时,晶片花篮静止会造成晶片表面反应不均匀,且清洗掉的沾污物质会重新附着到晶片表面,产生二次沾污的问题。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种结构简单、使用方便、成本低,防止清洗过程晶片损坏,提高成品率,避免二次污染的半导体晶片清洗槽。
本实用新型的技术解决方案是:
半导体晶片清洗槽,包括清洗槽本体,其特殊之处是:所述清洗槽本体侧面下部固设有支撑块,在清洗槽本体内部位于支撑块上设有镂空隔板,所述镂空隔板上设有晶片花篮,所述清洗槽本体内部位于镂空隔板下面设有搅拌轴,所述清洗槽本体上对应支撑块位置设置定位块。
该半导体晶片清洗槽结构简单、成本低、使用方便,将晶片花篮放在镂空隔板上,利用搅拌轴上的搅拌杆使液体流动,整个清洗过程中晶片花篮静止,防止清洗过程晶片损坏,从而提高晶片的成品率,避免晶片二次污染。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中:1-洗槽本体,101-销孔,2-支撑块,3-镂空隔板,4-晶片花篮,5-搅拌轴,6-定位块,7-搅拌杆。
具体实施方式
如图所示,一种半导体晶片清洗槽,包括清洗槽本体1,所述清洗槽本体1侧面下部固设有支撑块2,在清洗槽本体1内部位于支撑块2上设有镂空隔板3,所述镂空隔板3上设有晶片花篮4,所述清洗槽本体1侧壁位于镂空隔板3下面设有销孔101,在销孔101内放置搅拌轴5,所述搅拌轴5两侧设有由镂空隔板3穿出的搅拌杆7,所述清洗槽本体1上对应支撑块2位置设置定位块6,将镂空隔板3卡住。
操作时,将晶片放入晶片花篮中,用手摇摆,搅拌杆7晃动后开始搅拌,通过清洗液流动清洗晶片。
Claims (1)
1.半导体晶片清洗槽,包括清洗槽本体,其特征是:所述清洗槽本体侧面下部固设有支撑块,在清洗槽本体内部位于支撑块上设有镂空隔板,所述镂空隔板上设有晶片花篮,所述清洗槽本体内部位于镂空隔板下面设有搅拌轴,所述清洗槽本体上对应支撑块位置设置定位块。
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