CN204235316U - 一种配置多转速磨头的抛光机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种配置多转速磨头的抛光机,包括:粗抛阶段抛光机、中抛阶段抛光机和精抛阶段抛光机;所述粗抛阶段抛光机包括第一磨头,所述中抛阶段抛光机包括第二磨头,所述精抛阶段抛光机包括第三磨头;所述第一磨头、第二磨头、第三磨头中至少有两个主轴转速不相同。采用本实用新型,通过配置多转速磨头的抛光机,并根据磨具的材质设置磨头的最佳磨削速度范围,可使抛光机在粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均能达到磨具的最佳磨削速度,提高砖坯平整度,节约电能,使抛光机工作效率提高10%~20%。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷制品加工机械设计领域,尤其涉及一种配置多转速磨头的抛光机。
背景技术
现有的瓷质砖抛光机通常由粗抛阶段抛光机、中抛阶段抛光机和精抛阶段抛光机三组抛光机组成。其中,粗抛机主要作用是去除砖坯表面多余材料,使砖坯表面达到应有的平整度要求;中抛机的主要作用是去除粗抛工序留下的刀痕;精抛机的主要作用是去除砖面的细小刀痕,使砖坯表面达到应有的光泽度。
目前,抛光过程中,粗、中、精抛三个阶段的抛光磨头转速均为相同。
但是,在粗抛、中抛、精抛三个阶段所使用的磨具种类、目数均不相同,并且各种磨具的最佳磨削速度不相同,因此,粗抛、中抛、精抛三个阶段的抛光磨头转速相同,会造成部分磨具没有达到最佳磨削速度,降低了磨削效率。
另外,在粗抛阶段去除砖面高点部分材料,使砖面平整,由于磨头直径尺寸比砖面尺寸小,其磨削转速要设定在一个合理范围,否则,磨头在凹点磨削过量,会增大平整度误差。中抛阶段主要是去除刀痕,速度不宜过高,能够刚好磨去刀痕即可,磨削量过多会造成浪费,而且中抛阶段磨具与砖面之间的摩擦力较大,速度过大会增加磨头电机的功率消耗。精抛阶段主要是增加表面光泽度,此阶段的磨具切削力较弱,只去除极少量材料,速度要比粗、中抛高,否则光泽度会降低。所以,粗抛、中抛、精抛三个阶段均采用相同的转速存在平整度误差大、电能消耗大及光泽度低等缺陷。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种配置多转速磨头的抛光机,结构简单,可使抛光机在粗、中、精抛三个阶段均能达到磨具的最佳磨削速度,提高抛光效率。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种配置多转速磨头的抛光机,包括:粗抛阶段抛光机、中抛阶段抛光机和精抛阶段抛光机;所述粗抛阶段抛光机包括第一磨头,所述中抛阶段抛光机包括第二磨头,所述精抛阶段抛光机包括第三磨头;所述第一磨头、第二磨头、第三磨头中至少有两个主轴转速不相同。
作为上述方案的改进,所述第一磨头的主轴转速大于第二磨头的主轴转速,所述第三磨头的主轴转速大于第二磨头的主轴转速。
作为上述方案的改进,所述第一磨头包括第一磨具,所述第一磨具由金刚石制成。
作为上述方案的改进,所述第一磨头的主轴转速为540rpm~900rpm。
作为上述方案的改进,所述第二磨头包括第二磨具,所述第二磨具由金刚石或碳化硅制成。
作为上述方案的改进,所述第二磨头的主轴转速为470rpm~540rpm。
作为上述方案的改进,所述第三磨头包括第三磨具,所述第三磨具由碳化硅制成。
作为上述方案的改进,所述第三磨头的主轴转速为540rpm~900rpm。
作为上述方案的改进,所述粗抛阶段抛光机至少包括一个第一磨头;所述中抛阶段抛光机至少包括一个第二磨头;所述精抛阶段抛光机至少包括一个第三磨头。
作为上述方案的改进,所述粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均至少设有一台抛光机。
实施本实用新型的有益效果在于:
本发明提供了一种配置多转速磨头的抛光机,使抛光机在粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段具有不同的磨削转速,达到最佳磨削速度。
瓷砖由主传动皮带传送到配置多转速磨头的抛光机内,瓷砖依次经过粗抛阶段抛光机、中抛阶段抛光机和精抛阶段抛光机,实现连续磨削抛光,并在第一磨头、第二磨头、第三磨头的作用下获得平整光滑的加工表面。具体地,不同的磨削转速,可使抛光机在粗抛阶段提高砖坯平整度,在中抛阶段节约电能,在精抛阶段提高抛光表面泽度,使抛光机工作效率提高10%~20%。
附图说明
图1是本实用新型配置多转速磨头的抛光机的结构示意图;
图2是图1中A处的局部放大图;
图3是图1中B处的局部放大图;
图4是图1中C处的局部放大图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述。
如图1~4所示,配置多转速磨头的抛光机包括:粗抛阶段抛光机1、中抛阶段抛光机2和精抛阶段抛光机3。
具体地,所述粗抛阶段抛光机1包括第一磨头4,所述中抛阶段抛光机2包括第二磨头5,所述精抛阶段抛光机3包括第三磨头6。所述第一磨头4、第二磨头5、第三磨头6中至少有两个主轴转速不相同。
需要说明的是,粗抛阶段抛光机1主要作用是去除砖坯表面多余材料,使砖坯表面达到应有的平整度要求;中抛阶段抛光机2的主要作用是去除粗抛工序留下的刀痕;精抛阶段抛光机3的主要作用是去除砖面的细小刀痕,使砖坯表面达到应有的光泽度。因此,针对第一磨头4、第二磨头5、第三磨头6的作用,可使第一磨头4、第二磨头5、第三磨头6的主轴转速不一致,即使第一磨头4、第二磨头5、第三磨头6中至少有两个主轴转速不相同,以增强各抛光阶段的灵活性,提高抛光机的工作效率。
抛光时,瓷砖由主传动皮带7送到多转速磨头的抛光机内,当砖检测装置检出有瓷砖进入时,磨头上的气缸动作,使旋转的磨头缓慢下降,磨头对瓷砖表面进行磨削抛光。瓷砖依次经过第一磨头4、第二磨头5、第三磨头6抛光后,在转速不同的磨头的作用下,获得平整光滑的加工表面,连续进砖可实现连续磨削抛光。
进一步,第一磨头4的主轴转速大于第二磨头5的主轴转速,所述第三磨头6的主轴转速大于第二磨头5的主轴转速。
需要说明的是,粗抛阶段抛光机1主要作用是去除砖坯表面多余材料,使砖坯表面达到应有的平整度要求,由于第一磨头4的直径尺寸比砖面尺寸小,其磨削转速要设定在一个合理范围,否则,磨头在凹点磨削过量,会增大平整度误差;中抛阶段抛光机2的主要作用是去除粗抛工序留下的刀痕,速度不宜过高,能够刚好磨去刀痕即可,磨削量过多会造成浪费,而且第二磨5与砖面之间的摩擦力较大,转速过大会增加第二磨头5电机的功率消耗,因此第二磨头5的转速要比粗抛阶段1第一磨头4的转速低;精抛阶段抛光机3的主要作用是去除砖面的细小刀痕,使砖坯表面达到应有的光泽度,此阶段的第三磨头6切削力较弱,只去除极少量材料,转速要比粗抛阶段1、中抛阶段2高,否则光泽度会降低。
进一步,所述第一磨头4包括第一磨具,所述第一磨具由金刚石制成。粗抛阶段使用粗粒度的金刚石,其磨料刀刃比较锋利,磨削力较低,可有效去除砖坯表面多余材料,并扩可防止磨削过量。
相应地,所述第一磨头4的主轴转速为540rpm~900rpm。将第一磨头的主轴转速设置在540rpm~900rpm范围内,可有效防止第一磨头在凹点磨削过量。
进一步,所述第二磨头5包括第二磨具,所述第二磨具由金刚石或碳化硅制成。中抛阶段使用细粒度的金刚石或者碳化硅,磨削力较大,可有效去除粗抛工序留下的刀痕。
相应地,所述第二磨头5的主轴转速为470rpm~540rpm。将第二磨头的主轴转速设置在470rpm~540rpm范围内,可有效减少第二磨头电机的功率消耗。
进一步,所述第三磨头6包括第三磨具,所述第三磨具由碳化硅制成。精抛阶段使用较细粒度的碳化硅,其磨削力比较小,可有效去除砖面的细小刀痕,使砖坯表面达到应有的光泽度。
相应地,所述第三磨头6的主轴转速为540rpm~900rpm。将第三磨头的主轴转速设置在540rpm~900rpm范围内,可有效去除砖面的细小刀痕。
需要说明的是,根据磨具材质(如,金刚石、碳化硅)的不同,可设置磨头的最佳磨削速度范围,具有更好的针对性。另外,根据磨具的材质设置磨头的最佳磨削速度范围时,第一磨头4的转速可以在540rpm~900rpm以外的范围选取、第二磨头5的转速可以在470rpm~540rpm以为的范围选取、第三磨头6的转速可以在540rpm~900rpm以外的范围选取。
进一步,所述粗抛阶段抛光机1至少包括一个第一磨头4;所述中抛阶段抛光机2至少包括一个第二磨头5;所述精抛阶段抛光机3至少包括一个第三磨头6。
需要说明的是,所述粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均可设置多个磨头,实现对瓷砖进行连续的打磨抛光,在转速不同的磨头的作用下,获得平整光滑的加工表面,连续进砖可实现连续磨削抛光。
进一步,所述粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均至少设有一台抛光机。
需要说明的是,所述粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均可设置多台抛光机,连续对瓷砖进行打磨抛光,加快工作效率,实现流水线生产。
由上可知,通过配置多转速磨头的抛光机,并根据磨具的材质设置磨头的最佳磨削速度范围,可使抛光机在粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均能达到磨具的最佳磨削速度,具体地,在粗抛阶段可以提高砖坯平整度,在中抛阶段可以节约电能,在精抛阶段可以提高抛光表面泽度,使抛光机工作效率提高10%~20%。
以上所述是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,包括:粗抛阶段抛光机、中抛阶段抛光机和精抛阶段抛光机;
所述粗抛阶段抛光机包括第一磨头,所述中抛阶段抛光机包括第二磨头,所述精抛阶段抛光机包括第三磨头;
所述第一磨头、第二磨头、第三磨头中至少有两个主轴转速不相同。
2.如权利要求1所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第一磨头的主轴转速大于第二磨头的主轴转速,所述第三磨头的主轴转速大于第二磨头的主轴转速。
3.如权利要求1所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第一磨头包括第一磨具,所述第一磨具由金刚石制成。
4.如权利要求3所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第一磨头的主轴转速为540rpm~900rpm。
5.如权利要求1所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第二磨头包括第二磨具,所述第二磨具由金刚石或碳化硅制成。
6.如权利要求5所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第二磨头的主轴转速为470rpm~540rpm。
7.如权利要求1所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第三磨头包括第三磨具,所述第三磨具由碳化硅制成。
8.如权利要求7所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述第三磨头的主轴转速为540rpm~900rpm。
9.如权利要求1所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,
所述粗抛阶段抛光机至少包括一个第一磨头;
所述中抛阶段抛光机至少包括一个第二磨头;
所述精抛阶段抛光机至少包括一个第三磨头。
10.如权利要求1~9任一项所述的配置多转速磨头的抛光机,其特征在于,所述粗抛阶段、中抛阶段、精抛阶段均至少设有一台抛光机。
Priority Applications (1)
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CN201420668852.3U CN204235316U (zh) | 2014-11-11 | 2014-11-11 | 一种配置多转速磨头的抛光机 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108356663A (zh) * | 2018-02-26 | 2018-08-03 | 重庆大学 | 一种含台阶方轴的细长杆多磨头集成的无心外圆砂带磨床 |
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2014
- 2014-11-11 CN CN201420668852.3U patent/CN204235316U/zh active Active
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