CN204222314U - 一种高透光率的金色类双银low-e玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,包括有玻璃基片,其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层,其中第一膜层即最内层为SSTZrOX层,第二层为AZO层,第三层为Si层,第四层为AZO层,第五层为Cu层,第六层为CrNxOy层,第七层为SnO2层,第八层为AZO层,第九层为Si层,第十层为AZO层,第十一层为Ag层,第十二层为CrNxOy层,最外层为Si3N4层。本实用新型目的是克服了现有技术的不足,提供一种透过率高,色泽鲜艳,辐射率低,节能效果显著,生产成本低的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃。
【背景技术】
镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效。而金色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种,深受人们喜爱。但由于市场上现有的金色镀膜玻璃产品,色调暗淡且生产成本高,且大多数为阳光控制镀膜玻璃。
【发明内容】
本发明目的是克服了现有技术的不足,提供一种透过率高,色泽鲜艳,辐射率低,节能效果显著,生产成本低的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,包括有玻璃基片1,其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层,其中第一膜层即最内层为SSTZrOX层21,第二层为AZO层22,第三层为Si层23,第四层为AZO层24,第五层为Cu层25,第六层为CrNxOy层26,第七层为SnO2层27,第八层为AZO层28,第九层为Si层29,第十层为AZO层210,第十一层为Ag层211,第十二层为CrNxOy层212,最外层为Si3N4层213。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第一膜层SSTZrOX层21的厚度为30~40nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第二层AZO层22的厚度为10~15nm,第四层AZO层24的厚度10~20nm,第八层AZO层28的厚度为8~12nm,第十层为AZO210的厚度为10~20nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第三层Si层23的厚度为3~5nm,第九层Si层295~8nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第五层Cu层25的厚度为10~15nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第六层CrNxOy层26和第十二层CrNxOy层212的厚度均为3nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第七层SnO2层27的厚度为60nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第十一层Ag层211的厚度为10~15nm。
如上所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述最外层Si3N4层213的厚度为50nm。
与现有技术相比,本发明有如下优点:
1、本发明特殊膜系的金色类双银LOW-E玻璃,色泽鲜艳,而且透光率高,达到70%以上;。
2、本发明与采用金作为功能层生产的金色相比较,Si作为功能层的成本不到用金的千分之一,且产品的辐射率仅0.02,节能效果显著。
3、本发明采用铜替代一层银,在保证了金色效果的同时比普通的双银LOW-E玻璃成本更低。
【附图说明】
图1是本发明结构示意图。
【具体实施方式】
一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,包括有玻璃基片1,在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层,其中第一膜层即最内层为SSTZrOX层21,第二层为AZO层22,第三层为Si层23,第四层为AZO层24,第五层为Cu层25,第六层为CrNxOy层26,第七层为SnO2层27,第八层为AZO层28,第九层为Si层29,第十层为AZO层210,第十一层为Ag层211,第十二层为CrNxOy层212,最外层为Si3N4层213。
所述第一膜层即最内层为SSTZrOX层21,即掺锆氧化不锈钢层,通过在不锈钢内掺锆,在反应溅射时提高膜层的折射率,达到2.0左右,从而提升复合膜系的透过率。作调节金色颜色层,可得到较黄的金色效果。SSTZrOX层21的厚度为30~40nm,优选35nm,nm是纳米,1m=109nm。
所述第二层AZO层22,即铝掺杂的氧化锌层,平整层,平滑Si层,为Si、Cu层作铺垫,降低辐射率。AZO层的厚度为10~15nm。优选12nm。
所述第三层Si层23,即硅层,为功能层,用来作为金色提供层。Si层的厚度为3~5nm,优选4nm。
所述第四层AZO层24,即铝掺杂的氧化锌层,平整层,由于Si溅射后成簇状结构,通过用AZO层平滑Si层,为下层镀Cu起打底作用。为Cu层作铺垫,降低辐射率。AZO层的厚度为10~20nm。优选15nm。
所述第五层Cu层25,即金属铜层,为功能层,降低成本,色泽鲜艳。Cu层的厚度为10~15nm,优选12nm。
所述第六层CrNxOy层26,即氮氧化铬层,提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。CrNxOy层26的厚度为3nm。
所述第七层SnO2层27,即氧化锌层,为中间介质层,保护层。SnO2层27的厚度为60nm。
所述第八层为AZO层28,即铝掺杂的氧化锌层,平整层,平滑Si层,为Si、Ag层作铺垫,降低辐射率。AZO层28的厚度为10nm。
所述第九层为Si层29,即硅层,为功能层,用来作为金色提供层。Si层29的厚度为5~8nm,
所述第十层为AZO210,即铝掺杂的氧化锌层,平整层,由于Si溅射后成簇状结构,通过用AZO层平滑Si层,为下层镀Ag起打底作用,为Ag层作铺垫,降低辐射率。AZO层210的厚度为10~20nm,优选15nm。
所述第十一层为Ag层211,即金属银层,为功能层,金属银层提供了较低的辐射率,起环保节能的作用。
第十二层为CrNxOy层212,即氮氧化铬层,提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。CrNxOy层212的厚度为3nm。
所述最外层Si3N4层213,即氮化硅层;顶层介质层,Si3N4是一种非常坚硬的材料,提高膜层的物理性能和抗氧化性能,它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性,设置在最外层作为保护整个膜层的第一道壁垒。用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料Si:Al=92:8,密度96%,提高膜层的物理性能和抗氧化性能。Si3N4层的厚度为50nm。
Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃。
制备所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃的方法,包括如下步骤:
(1)磁控溅射SSTZrOX层,用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的不锈钢靶Fe:Zr=80:20,氩氧比为400SCCM~420SCCM:450SCCM~500SCCM,本步骤中氩氧比决定了成膜的质量;
(2)磁控溅射氧AZO层,用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶,即AZO靶,用氩气作为溅射气体,掺入少量O2,氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20~40SCCM,为Si、Cu层作铺垫;
(3)磁控溅射Si层,交流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量500~550SCCM;
(4)磁控溅射AZO层,用中频交流电源溅射陶瓷ZnAZO靶,用氩气作为溅射气体,掺入少量O2,氩氧比为400SCCM-420SCCM:20~40SCCM,为Cu层作铺垫;
(5)磁控溅射Cu层,直流电源溅射,用氩气作为工艺气体,体流量500~550SCCM;
(6)磁控溅射CrNxOy层,用直流电源溅射,用氮气做反应气体,渗少量氧气;
(7)磁控溅射SnO2层,用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶,氩氧比为400SCCM~420SCCM:450SCCM~500SCCM,本步骤中氩氧比决定了成膜的质量;
(8)磁控溅射AZO层,用中频交流电源溅射陶瓷Zn,即AZO靶,用氩气作为溅射气体,掺入少量O2,氩氧比为400SCCM-420SCCM:20~40SCCM,为Si、Ag层作铺垫;
(9)磁控溅射Si层,交流电源溅射,用Ar气作为溅射气体,气体流量500~550SCCM;
(10)磁控溅射AZO层,用中频交流电源溅射陶瓷Zn,即AZO靶,用氩气作为溅射气体,掺入少量O2,氩氧比为400SCCM~420SCCM:20~40SCCM,为Ag层作铺垫;
(11)磁控溅射Ag层,直流电源溅射,气体流量500~550SCCM。
(12)磁控溅射CrNxOy层,用直流电源溅射,用氮气做反应气体,渗少量氧气;
(13)磁控溅射Si3N4层,用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶,硅铝质量百分比92:8,氩氮比为400SCCM~420SCCM:450SCCM~500SCCM,本步骤中氩氮比决定了成膜的质量。磁控溅射Si3N4层,用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比Si:Al=92:8;此处得到的是Si3N4,而金属Al是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能,金属Al并不参与反应,由于非金属半导体Si的导电性能极差,如不采用金属Al混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射Si3N4层。
Claims (9)
1.一种高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,包括有玻璃基片(1),其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十三个膜层,其中第一膜层即最内层为SSTZrOX层(21),第二层为AZO层(22),第三层为Si层(23),第四层为AZO层(24),第五层为Cu层(25),第六层为CrNxOy层(26),第七层为SnO2层(27),第八层为AZO层(28),第九层为Si层(29),第十层为AZO层(210),第十一层为Ag层(211),第十二层为CrNxOy层(212),最外层为Si3N4层(213)。
2.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第一膜层SSTZrOX层(21)的厚度为30~40nm。
3.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第二层AZO层(22)的厚度为10~15nm,第四层AZO层(24)的厚度10~20nm,第八层AZO层(28)的厚度为8~12nm,第十层为AZO(210)的厚度为10~20nm。
4.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第三层Si层(23)的厚度为3~5nm,第九层Si层(29)5~8nm。
5.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第五层Cu层(25)的厚度为10~15nm。
6.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第六层CrNxOy层(26)和第十二层CrNxOy层(212)的厚度均为3nm。
7.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第七层SnO2层(27)的厚度为60nm。
8.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述第十一层Ag层(211)的厚度为10~15nm。
9.根据权利要求1所述的高透光率的金色类双银LOW-E玻璃,其特征在于所述最外层Si3N4层(213)的厚度为50nm。
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