CN204222313U - 一种高透光率的金色三银low-e玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层，第二层为TiOx层，第三层为AZO层，第四层为Si层，第五层为AZO层，第六层为Ag层，第七层为NiCrOx层，第八层为ZnSnO2层，第九层为AZO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCrOx层，第十二层为ZnSnO2层，第十三层为AZO层，第十四层为Ag层，第十五层为NiCrOx层，第十六层为ZnSnO2层，最外层为Si3N4层。本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，生产成本低的高透光率的金色三银LOW-E玻璃。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃。
【背景技术】
镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效。而金色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种，深受人们喜爱。随着节能指标要求越来越高，在很多城市现有的双银LOW-E玻璃都已无法满足客户需求，再加上金色玻璃产品深受人们的热宠，金色三银LOW-E玻璃的市场需求宠大，但由于三银LOW-E玻璃本身制备复杂，且使用金作为溅射靶材成本高昂，一直以来未出现金色三银LOW-E玻璃。
【发明内容】
本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，生产成本低的高透光率的金色三银LOW-E玻璃。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层21，第二层为TiOx层22，第三层为AZO层23，第四层为Si层24，第五层为AZO层25，第六层为Ag层26，第七层为NiCrOx层27，第八层为ZnSnO2层28，第九层为AZO层29，第十层为Ag层210，第十一层为NiCrOx层211，第十二层为ZnSnO2层212，第十三层为AZO层213，第十四层为Ag层214，第十五层为NiCrOx层215，第十六层为ZnSnO2层216，最外层为Si3N4层217。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SiZrOX层21的厚度为30～35nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于第二层TiOx层22的厚度为11～12nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层AZO层23的厚度为9～11nm，第五层AZO层25的厚度10～20nm，第九层AZO层29的厚度为28～30nm，第十三层AZO213的厚度为30～35nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层Si层24的厚度为3～5nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层Ag层26的厚度为8～9nm，所述第十层Ag层210的厚度为7～8nm，所述第十四层Ag层210的厚度为7～8nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第七层NiCrOx层27的厚度为1～2nm，所述第十一层NiCrOx层211的厚度为1～2nm，所述第十五层NiCrOx层215的厚度为1～2nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第八层ZnSnO2层28的厚度为24～25nm，所述第十二层ZnSnO2层212的厚度为58～62nm，所述第十六层ZnSnO2层216的厚度为18～20nm。
如上所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层Si3N4层217的厚度为15～17nm。
与现有技术相比，本发明有如下优点：
1、本发明通过用掺锆的氧化硅作为底层介质层材料，提高其折射率，从而提高其透过率，复合产品的透过率可达到65％以上。克服了金色三银LOW-E玻璃由于三银玻璃本身膜层结构增多，透光率急剧下降的难题。
2、本发明与采用金作为功能层生产的金色相比较，Si作为功能层的成本不到用金的千分之一，且产品的辐射率仅0.02，节能效果显著。
3、本发明透过色及反射色更鲜艳，金色效果更好。
【附图说明】
图1是本发明结构示意图。
【具体实施方式】
一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层21，第二层为TiOx层22，第三层为AZO层23，第四层为Si层24，第五层为AZO层25，第六层为Ag层26，第七层为NiCrOx层27，第八层为ZnSnO2层28，第九层为AZO层29，第十层为Ag层210，第十一层为NiCrOx层211，第十二层为ZnSnO2层212，第十三层为AZO层213，第十四层为Ag层214，第十五层为NiCrOx层215，第十六层为ZnSnO2层216，最外层为Si3N4层217。
所述第一膜层即最内层为SiZrOX层21，即氧化锆硅层，掺锆的氧化硅作为底层介质层材料，提高其折射率，从而提高其透过率，复合产品的透过率可达到65％以上。SiZrOX层21的厚度为30～35nm，优选32nm，nm是纳米，1m＝109nm。
所述第二层TiOx层22，即钛的氧化物。采用高折射率n＝2.5的TiOx是为了提高玻璃的透光率，降低银层的面电阻，减少银的消耗，又可以减少LOW-E热处理后产生光散射，而且玻璃呈中性颜色，TiOx膜表面非常光滑，因而改善了银膜的导电率。所述第二层TiOx层22的厚度为11～12nm，优选11.4nm。
所述第三层AZO层23，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，为Si、Ag层作铺垫，降低辐射率。所述第三层AZO层的厚度为9～11nm。优选10nm。
所述第四层Si层23，即硅层，为功能层，用来作为金色提供层。Si层的厚度为3～5nm，优选4nm。
所述第五层AZO层25，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，由于Si溅射后成簇状结构，通过用AZO层平滑Si层，为下层镀Ag起打底作用。为Ag层作铺垫，降低辐射率。所述第五层AZO层的厚度为10～20nm。优选15nm。
所述第六层Ag层26，即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。所述第六层Ag层26的厚度为8～9nm，优选8.9nm。
所述第七层NiCrOx层27，即氧化镍铬层，为阻挡层，还能提高膜层耐磨性、透光率、以及钢化时抗高温氧化性。NiCrOx层27的厚度为1～2nm，优选为1.2nm。
所述第八层ZnSnO2层28，即氧化锌锡层，为中间介质层，保护层，增加玻璃的透过率，ZnSnO2的厚度为24～25nm，优选24.9nm。
所述第九层为AZO层29，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，平滑Ag层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。AZO层28的厚度为28～30nm，优选29.4nm。
所述第十层Ag层210，即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。所述第六层Ag层210的厚度为7～8nm，优选7.8nm。
所述第十一层NiCrOx层211，即氧化镍铬层，为阻挡层，还能提高膜层耐磨性、透光率、以及钢化时抗高温氧化性。NiCrOx层211的厚度为1～2nm，优选为1nm。
所述第十二层ZnSnO2层212，即氧化锌锡层，为中间介质层，保护层，增加玻璃的透过率，ZnSnO2层212的厚度为58～62nm，优选60nm。
所述第十三层为AZO层213，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，平滑Ag层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。AZO层213的厚度为30～35nm，优选32nm。
所述第十四层Ag层214，即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。所述第十四层Ag层214的厚度为7～8nm，优选7.4nm。
所述第十五层NiCrOx层215，即氧化镍铬层，为阻挡层，还能提高膜层耐磨性、透光率、以及钢化时抗高温氧化性。NiCrOx层215的厚度为1～2nm，优选为1nm。
所述第十六层ZnSnO2层216，即氧化锌锡层，为中间介质层，保护层，增加玻璃的透过率，ZnSnO2层216的厚度为18～20nm，优选19nm。
所述最外层Si3N4层217，即氮化硅层；顶层介质层，Si3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层的物理性能和抗氧化性能，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性，设置在最外层作为保护整个膜层的第一道壁垒。用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料Si:Al＝92:8，密度96％，提高膜层的物理性能和抗氧化性能。Si3N4层的厚度为15～17nm，优选16nm。
Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃。
制备高透光率的金色三银LOW-E玻璃的方法，包括如下步骤：
(1)磁控溅射SiZrOx层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的硅铝靶硅铝锆比为82:8:10，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM，氩氧比决定了成膜的质量；
(2)磁控溅射TiOx层，用中频交流电源溅射陶瓷陶瓷钛靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(3)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(4)磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM；
(5)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(6)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500～550SCCM；
(7)磁控溅射NiCrOx，用直流电源溅射，用氩气做反应气体，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2，氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(8)磁控溅射ZnSnO2层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM；氩氧比决定了成膜的质量；
(9)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(10)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体气体流量500～550SCCM；
(11)磁控溅射NiCrOx层，用直流电源溅射，用氩气做反应气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(12)磁控溅射ZnSnO2层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM；氩氧比决定了成膜的质量；
(13)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(14)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体气体流量500～550SCCM；
(15)磁控溅射NiCrOx层，用直流电源溅射，用氩气做反应气体，掺入少量O2,氩氧比为：400SCCM-420SCCM：20～40SCCM；
(16)磁控溅射ZnSnO2层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM；氩氧比决定了成膜的质量；
(17)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶硅铝质量百分比92：8，氩氮比为400SCCM～420SCCM：450SCCM～500SCCM。氩氧比决定了成膜的质量。本步骤中氩氮比决定了成膜的质量。磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比Si:Al＝92:8；此处得到的是Si3N4，而金属Al是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能，金属Al并不参与反应，由于非金属半导体Si的导电性能极差，如不采用金属Al混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射Si3N4层。
Claims (9)
1.一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层(21)，第二层为TiOx层(22)，第三层为AZO层(23)，第四层为Si层(24)，第五层为AZO层(25)，第六层为Ag层(26)，第七层为NiCrOx层(27)，第八层为ZnSnO2层(28)，第九层为AZO层(29)，第十层为Ag层(210)，第十一层为NiCrOx层(211)，第十二层为ZnSnO2层(212)，第十三层为AZO层(213)，第十四层为Ag层(214)，第十五层为NiCrOx层(215)，第十六层为ZnSnO2层(216)，最外层为Si3N4层(217)。
2.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SiZrOX层(21)的厚度为30～35nm。
3.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于第二层TiOx层(22)的厚度为11～12nm。
4.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层AZO层(23)的厚度为9～11nm，第五层AZO层(25)的厚度10～20nm，第九层AZO层(29)的厚度为28～30nm，第十三层AZO(213)的厚度为30～35nm。
5.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层Si层(24)的厚度为3～5nm。
6.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层Ag层(26)的厚度为8～9nm，所述第十层Ag层(210)的厚度为7～8nm，所述第十四层Ag层(210)的厚度为7～8nm。
7.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第七层NiCrOx层(27)的厚度为1～2nm，所述第十一层NiCrOx层(211)的厚度为1～2nm，所述第十五层NiCrOx层(215)的厚度为1～2nm。
8.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述第八层ZnSnO2层(28)的厚度为24～25nm，所述第十二层ZnSnO2层(212)的厚度为58～62nm，所述第十六层ZnSnO2层(216)的厚度为18～20nm。
9.根据权利要求1所述的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层Si3N4层(217)的厚度为15～17nm。
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