CN203864104U - 一种金色low-e玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种金色LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有六个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层，第二层为氧化不锈钢层，第三层为NiCr层，第四层为Ag层，第五层为NiCr层，最外层为SiO2层。本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀的金色LOW-E玻璃。
Description
【技术领域】
本实用新型涉及一种金色LOW-E玻璃。
【背景技术】
现有的金色LOW-E玻璃的镀膜层与玻璃基材的结合力弱、镀膜层疏松、不均匀。膜层之间的粘结力差，膜层容易脱落。
【实用新型内容】
本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀的金色LOW-E玻璃。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
一种金色LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有六个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层21，第二层为氧化不锈钢层22，第三层为NiCr层23，第四层为Ag层24，第五层为NiCr层25，最外层为SiO2层26。
所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SiO2层21的厚度为10～40nm。所述第二层氧化不锈钢层层22的厚度为20～50nm。所述第三层NiCr层23的厚度为5～15nm。所述第四层Ag层24的厚度为15～30nm。其特征在于所述第五层NiCr层25的厚度为5～15nm。所述最外层SiO2层26的厚度为25～50nm。
与现有技术相比，本实用新型有如下优点：
1、本实用新型膜层最内层和最外层采用SiO2层，增强膜层与玻璃的粘结，改善膜层性能及玻璃面的反射效果，膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀。
2、本实用新型色泽均匀，更显明呈现金黄色，具有较高的可见光透过率。
【附图说明】
图1是本实用新型结构示意图。
【具体实施方式】
一种金色LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有六个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层21，第二层为氧化不锈钢层22，第三层为NiCr层23，第四层为Ag层24，第五层为NiCr层25，最外层为SiO2层26。
所述第一膜层SiO2层21，即二氧化硅层，通过与氧气反应结合提高玻璃的折射率，SiO2层的厚度为10～40nm，nm是纳米，1m＝109nm。增强膜层与玻璃的粘结，改善膜层性能及玻璃面的反射效果。
第二层氧化不锈钢层层22，作调节金色颜色层，可得到较黄的金色效果。氧化不锈钢层层22的厚度为20～50nm。
第三层NiCr层23，即镍铬金属层，作为Ag层的保护层及平整层，提高耐氧化性能防止Ag层的氧化。NiCr层23的厚度为5～15nm。
第四层Ag层24，即金属银层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用；Ag层厚度为的15～30nm，
第五层NiCr层25，即镍铬金属层，作为Ag层的保护层及平整层，提高耐氧化性能防止Ag层的氧化。NiCr层23的厚度为5～15nm。
最外层SiO2层26，即二氧化硅层，有较好机械性能，使膜层有较好的耐划伤、耐磨性，起较好的保护性，SiO2层26的厚度为25～50nm。
本实用新型金色LOW-E玻璃的制备方法，包括如下步骤：
(1)磁控溅射SiO2层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比Si:Al＝90～98:2～10；
(2)磁控溅射氧化不锈钢层，用直流电源、氧气作主反应气体的反应溅射；
(3)磁控溅射NiCr层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；
(4)磁控溅射Ag层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；
(5)磁控溅射NiCr层，用直流电源、氩气作主反应气体的金属溅射；
(6)磁控溅射SiO2层，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射半导体材料重量比Si:Al＝90～98:2～10。
磁控溅射SiO2层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比Si:Al＝90～98:2～10”；此处得到的是SiO2，而金属Al是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能，金属Al并不参与反应，由于非金属半导体Si的导电性能极差，如不采用金属Al混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射SiO2层。
本实用新型的优选方案：
所述第一膜层SiO2层21的厚度为25nm，第二层氧化不锈钢层层22的厚度为35nm，第三层NiCr层23的厚度为10nm，第四层Ag层24的厚度为20nm，第五层NiCr层25的厚度为10nm，最外层SiO2层26的厚度为40nm。
步骤(1)和步骤(6)中半导体材料的配比均为Si:Al＝90:10。
Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃。
本实用新型采用磁控溅射法将镀膜层溅射在玻璃基材上，镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀。
Claims (7)
1.一种金色LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有六个膜层，其中第一膜层即最内层为SiO2层(21)，第二层为氧化不锈钢层(22)，第三层为NiCr层(23)，第四层为Ag层(24)，第五层为NiCr层(25)，最外层为SiO2层(26)。
2.根据权利要求1所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SiO2层(21)的厚度为10～40nm。
3.根据权利要求1所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第二层氧化不锈钢层层(22)的厚度为20～50nm。
4.根据权利要求1所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层NiCr层(23)的厚度为5～15nm。
5.根据权利要求1所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层Ag层(24)的厚度为15～30nm。
6.根据权利要求1所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层NiCr层(25)的厚度为5～15nm。
7.根据权利要求1所述的金色LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层SiO2层(26)的厚度为25～50nm。
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| CN104309220A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-01-28 | 中山市亨立达机械有限公司 | 一种特殊膜系的金色单银low-e玻璃 |
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