CN204215957U - 一种真空灭弧室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空灭弧室,包括静端均压罩,所述静端封接环设于静导电杆的底部,端部过渡环设于静端封接环和瓷壳之间,静端均压罩设于静端封接环上部的静导电杆上,触头组件设于静导电杆的上部,所述静导电杆、静端封接环、端部过渡环、静端均压罩以及触头组件的静触头构成静触头组件;屏蔽筒设置于中间封接环上,瓷壳、中间封接环和屏蔽筒组成瓷壳套件;动端封接环设于动导电杆的外围,端部过渡环设于动端封接环和瓷壳之间,动导电杆、动端封接环、端部过渡环、触头组件的动触头、波纹管和保护罩形成动触头组件。本真空灭弧室提升了产品的耐压水平,减少了物料使用量和拥有更小的回路电阻。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种真空灭弧室,尤其涉及一种耐压水平高的真空灭弧室,属于真空灭弧室技术领域。
背景技术
真空灭弧室又名真空开关管,是中高压电力开关的核心部件,其主要作用是:通过管内真空优良的绝缘性,使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流,避免事故和意外的发生。具有节能、节材、防火、防爆、体积小、寿命长、维护费用低、运行可靠和无污染等特点。因此,真空灭弧室被广泛的应用于电力的输配电控制系统,还应用于冶金、矿山、石油、化工、铁路、广播、通讯、工业高频加热等配电系统。
真空灭弧室利用高真空工作绝缘灭弧介质,靠密封在真空中的一对触头来实现电力电路的通断功能。当其断开一定数值的电流时,动静触头在分离的瞬间,电流收缩到触头刚分离的一点上,出现电极间电阻剧烈增大和温度迅速提高,直至发生电极金属的蒸发,同时形成极高的电场强度,导致极强烈的发射和间隙击穿,产生真空电弧。当工频电流接近零时,同时也是触头开距的增大,真空电弧的等离子体很快向四周扩散,电弧电流过零后,触头间隙的介质迅速由导电体变为绝缘体,于是电流被分断。
真空灭弧室的内部结构,决定着其耐压水准、使用寿命、物料成本等产品核心竞争力。在小型化产品趋势的今天,依靠增大绝对内部空间以及增大触头直径来提升灭弧室的开断能力、耐压水平已经不符合先进的设计理念以及企业发展的趋势。
如图1所示,在现有真空灭弧室中,静导电杆101和静端封接环102、均压罩103以及触头组件104的静触头自下而上构成静触头组件。在静端封接环102上,依次堆叠端部过渡环105、瓷壳106、中间封接环107、屏蔽筒108、瓷壳106组成瓷壳套件。触头组件104的动触头、动导电杆111、保护罩112、波纹管113、动端均压罩110、端部过渡环105、动端封接环109从下而上堆叠最终组成整管,各零件之间用焊料封接。该现有真空灭弧室的内部结构没有充分发挥在已有的内部空间所能达到的理论性能,而且由于触头直径、开距、屏蔽筒的形状、屏蔽筒的相对位置、辅助均压装置的相对位置设计不合理,耐压水平达不到预期要求,并且还存在击穿现象。
发明内容
本实用新型的目的在于:针对上述存在的问题,提供一种真空灭弧室,在绝对内部空间很小的情况下,通过调整触头直径、开距、屏蔽筒的形状、屏蔽筒的相对位置、辅助均压装置的相对位置来最大限度提升真空灭弧室的耐压水平,并减少了物料使用量和拥有更小的回路电阻。有效的解决了现有真空灭弧室由于结构设计不合理,耐压水平达不到预期要求的技术问题。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种真空灭弧室,包括动导电杆、动端封接环、静端封接环、端部过渡环、瓷壳、中间封接环、屏蔽筒、波纹管、保护罩、触头组件和静导电杆,还包括静端均压罩,所述静端封接环设于静导电杆的底部,静端均压罩设于静端封接环上部的静导电杆上,触头组件设于静导电杆的上部,所述静导电杆、静端封接环、端部过渡环、静端均压罩以及触头组件的静触头构成静触头组件;屏蔽筒设置于中间封接环上,瓷壳、中间封接环和屏蔽筒组成瓷壳套件;动端封接环设于动导电杆的外围,位于上部的端部过渡环设于动端封接环和瓷壳之间,动导电杆、动端封接环、端部过渡环、波纹管和保护罩、触头组件的动触头形成动触头组件。
通过上述结构组成的真空灭弧室,相比现有的真空灭弧室的直径不变,高度减小,以达到在减小内部空间的情况下,可缩小触头直径、减小开距。屏蔽筒的相对位置,能够起到保护瓷壳、更好熄弧、冷却的作用。
本实用新型所述的真空灭弧室,其所述屏蔽筒的边缘往内卷曲形成卷边。
该形状的屏蔽筒能够拥有更好的均压效果。
本实用新型所述的真空灭弧室,触头拉开时,所述静端均压罩、保护罩和屏蔽筒以两触头表面的中间平面平面上下对称。
本实用新型所述的真空灭弧室,其所述波纹管设于动导电杆上,保护罩设于波纹管的外围。
本实用新型所述的真空灭弧室,其所述动导电杆、动端封接环、静端封接环、端部过渡环、瓷壳、中间封接环、屏蔽筒、波纹管、保护罩、触头组件、静导电杆和静端均压罩焊接连接。
本实用新型的有益效果:本实用新型所述真空灭弧室,通过直径不变,高度减小来减小内部空间,缩小触头直径、减小开距、合理设计屏蔽筒的形状以拥有更好的均压效果、合理设置屏蔽筒的相对位置、辅助均压装置的相对位置来最大限度提升产品的耐压水平,减少了物料使用量和拥有更小的回路电阻。
附图说明
图1是现有真空灭弧室的结构示意图;
图2是本实用新型真空灭弧室的结构示意图。
图1中标记:静导电杆-101, 静端封接环-102, 均压罩-103, 触头组件-104, 端部过渡环-105, 瓷壳 -106, 中间封接环-107, 屏蔽筒-108, 动端封接环-109, 动端均压罩 -110, 动导电杆-111, 保护罩-112, 波纹管-113。
图2中标记:动导电杆-1, 动端封接环-2, 静端封接环-3,端部过渡环-4,瓷壳-5, 中间封接环-6, 屏蔽筒-7, 波纹管-8, 保护罩-9, 触头组件-10, 静导电杆-11, 静端均压罩-12。
具体实施方式
下面结合附图,对本实用新型作详细的说明。
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图2所示,实施例1:
一种真空灭弧室,包括动导电杆1、动端封接环2、静端封接环3、端部过渡环4、瓷壳5、中间封接环6、屏蔽筒7、波纹管8、保护罩9、触头组件10、静导电杆11和静端均压罩12,且,在本真空灭弧室中,所述动导电杆1、动端封接环2、静端封接环3、端部过渡环4、瓷壳5、中间封接环6、屏蔽筒7、波纹管8、保护罩9、触头组件10、静导电杆11和静端均压罩12焊接连接,通过焊料封接成封闭的灭弧室空间。
其中,所述静端封接环3设于静导电杆11的底部,静端均压罩12设于静端封接环3上部的静导电杆11上,触头组件10设于静导电杆11的上部,所述静导电杆11、静端封接环3、端部过渡环4、静端均压罩12以及触头组件10的静触头构成静触头组件。屏蔽筒7设置于中间封接环6上,瓷壳5、中间封接环6和屏蔽筒7组成瓷壳套件。动端封接环2设于动导电杆1的外围,位于上部的端部过渡环4设于动端封接环2和瓷壳5之间,波纹管8设于动导电杆1上,保护罩9设于波纹管8的外围;动导电杆1、动端封接环2、端部过渡环4、波纹管8和保护罩9、触头组件的动触头形成动触头组件。
所述屏蔽筒7的边缘往内卷曲形成卷边,能够极好的达到均压电场的作用,提高了耐压水平。
触头拉开时,所述静端均压罩12、保护罩9和屏蔽筒7以两触头表面的中间平面上下对称。从而进一步保证了在现有的空间体积下,其耐压水平。
工作原理:在真空灭弧室内部结构中,屏蔽筒是均压结构,起到均压电场、保护瓷壳、冷却电弧的作用。在灭弧室处于开断状态时,这种新结构的屏蔽筒,配合保护罩和静端均压罩,使内部结构在保护罩以下部分以两触头表面的中间平面对称。此种内部结构可以最大限度均压电场,而屏蔽筒口部的卷边,减少了尖端的存在,可以有效保护瓷壳。
现有真空灭弧室中,触头的直径较大,需要的内部空间也大,由此本实用新型真空灭弧室相比同等级产品降低了高度,减少了成本;触头直径减小,回路电阻也降低。由此,本实用新型所述真空灭弧室达到了减小体积、缩减成本、增强耐压水平,减少回路电阻的效果。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种真空灭弧室,包括动导电杆(1)、动端封接环(2)、静端封接环(3)、端部过渡环(4)、瓷壳(5)、中间封接环(6)、屏蔽筒(7)、波纹管(8)、保护罩(9)、触头组件(10)和静导电杆(11),其特征在于:还包括静端均压罩(12),所述静端封接环(3)设于静导电杆(11)的底部,静端均压罩(12)设于静端封接环(3)上部的静导电杆(11)上,触头组件(10)设于静导电杆(11)的上部,所述静导电杆(11)、静端封接环(3)、端部过渡环(4)、静端均压罩(12)以及触头组件(10)的静触头构成静触头组件;屏蔽筒(7)设置于中间封接环(6)上,瓷壳(5)、中间封接环(6)和屏蔽筒(7)组成瓷壳套件;动端封接环(2)设于动导电杆(1)的外围,位于上部的端部过渡环(4)设于动端封接环(2)和瓷壳(5)之间,动导电杆(1)、动端封接环(2)、端部过渡环(4)、波纹管(8)、保护罩(9)和触头组件(10)的动触头形成动触头组件。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于:所述屏蔽筒(7)的边缘往内卷曲形成卷边。
3.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于:触头拉开时,所述静端均压罩(12)、保护罩(9)和屏蔽筒(7)以两触头表面的中间平面上下对称。
4.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于:波纹管(8)设于动导电杆(1)上,保护罩(9)设于波纹管(8)的外围。
5.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于:所述动导电杆(1)、动端封接环(2)、静端封接环(3)、端部过渡环(4)、瓷壳(5)、中间封接环(6)、屏蔽筒(7)、波纹管(8)、保护罩(9)、触头组件(10)、静导电杆(11)和静端均压罩(12)焊接连接。
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