CN204289247U - 一种真空灭弧室用触头 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空灭弧室用触头，包括位于上部的触头盘和位于下部且与之配合的触头座，所述触头盘和触头座配合后形成一个圆弧表面的盘状，所述触头座的侧壁上等距开设有数条斜槽，触头座内设有凸台，所述凸台与触头盘之间存在间隙；触头盘上开设有与斜槽数量对应的直槽。触头比现有杯状触头座产生的磁场更强，更有利于故障电流的开断，并使得真空灭弧室小型化；装配到整机后触头座的凸台与触头盘直接接触，回路电阻更小；由于该触头结构的缓冲作用，装配到整机后的合闸弹跳更小。

Description

一种真空灭弧室用触头

技术领域

本实用新型涉及一种真空灭弧室用触头，属于真空灭弧室技术领域。

背景技术

真空灭弧室又名真空开关管，是中高压电力开关的核心部件，其主要作用是：通过管内真空优良的绝缘性，使中高压电路切断电源后能迅速熄弧并抑制电流，避免事故和意外的发生。具有节能、节材、防火、防爆、体积小、寿命长、维护费用低、运行可靠和无污染等特点。因此，真空灭弧室被广泛的应用于电力的输配电控制系统，还应用于冶金、矿山、石油、化工、铁路、广播、通讯、工业高频加热等配电系统。

真空灭弧室利用高真空作为绝缘灭弧介质,靠密封在真空中的一对触头来实现电力电路的通断功能。当其断开一定数值的电流时,动静触头在分离的瞬间,电流收缩到触头刚分离的一点上,出现电极间电阻剧烈增大和温度迅速提高,直至发生电极金属的蒸发，同时形成极高的电场强度,导致极强烈的发射和间隙击穿,产生真空电弧。当工频电流接近零时,同时随着触头开距的增大,真空电弧的等离子体很快向四周扩散,电弧电流过零后，触头间隙的介质迅速由导电体变为绝缘体,于是电流被分断。

真空灭弧室是真空开关的核心元件，能够实现高压电力线路工作电流的承载、开断、关合，也能实现线路故障电流的短时耐受、开断、关合。而触头是真空灭弧室的核心部件，真空灭弧室就是依靠触头产生的磁场来实现故障电流的开断和关合的。

目前，常见的杯状纵磁触头的高度尺寸较大，回路电阻大，产生的纵向磁场分布不够均匀，影响到真空灭弧室对故障电流的开断和关合性能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：针对上述存在的问题，提供一种真空灭弧室用触头，其高度尺寸小，回路电阻小，能够产生相对均匀的纵向磁场，大大提升了真空灭弧室的使用性能，从而能够有效的克服现有触头的不足。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种真空灭弧室用触头，包括位于上部的触头盘和位于下部且与之配合的触头座，所述触头盘和触头座配合后形成一个圆弧表面的盘状，所述触头座的侧壁上等距开设有数条斜槽，触头座内设有凸台，所述凸台与触头盘之间存在间隙；触头盘上开设有与斜槽数量对应的直槽。

作为优选，本实用新型所述的真空灭弧室用触头，其所述斜槽为六条，六条斜槽的开口在触头座的圆周上均布，相邻斜槽平行等距。

作为优选，本实用新型所述的真空灭弧室用触头，其所述斜槽的宽度为0.8-1.0mm，斜槽与水平面的倾斜角度为8-10度。

作为优选，本实用新型所述的真空灭弧室用触头，其所述直槽为六条，以触头盘的中心为圆心，成发散形均匀设置于触头盘上。

作为优选，本实用新型所述的真空灭弧室用触头，其所述凸台与触头盘之间的间隙小于等于0.5mm，且凸台与触头盘在压力作用下接触。

作为优选，本实用新型所述的真空灭弧室用触头，其所述触头盘和触头座钎焊形成外缘为圆弧的一个整体。

与现有技术相比，本实用新型具备如下的有益效果：

1、比现有杯状触头座产生的磁场更强更均匀，更有利于故障电流的开断，并使得真空灭弧室小型化；

2、本实用新型触头结构能够实现更小触头开距下的故障电流开断能力，从而延长整机的机械寿命；

3、触头座轴向尺寸小，使得真空灭弧室轴向尺寸结构更为紧凑；

4、装配到整机后触头座的凸台与触头盘直接接触，回路电阻更小；

5、由于该触头结构的缓冲作用，装配到整机后的合闸弹跳更小。

附图说明

图1是本实用新型实施例1的俯面结构示意图。

图2是本实用新型实施例1的侧面结构示意图。

图3是图2的剖面示意图。

图中标记：1-触头盘，    2-触头座，    3-斜槽，    4-凸台，    5-间隙，    6-直槽。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型作详细的说明。

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1、2、3所示，实施例1：

一种真空灭弧室用触头，包括位于上部的触头盘1和位于下部且与之配合的触头座2，所述触头盘1和触头座2配合后形成一个圆弧表面的盘状，使得整个触头的表面更加圆滑。所述触头座2的侧壁等距开设有从外径到内壁的数条斜槽3，斜槽间距等宽。触头座2为无氧铜材料，为圆盘状的下半部分，触头座2内设有略低于端面的凸台4，所述凸台4与触头盘1之间存在间隙5；所述凸台4与触头盘1之间的间隙5为0.5mm，且凸台4与触头盘1在压力作用下接触，即是说，当将整个触头装配到灭弧室，再将灭弧室装配到整机后在合闸状态下触头座的凸台与触头盘直接接触，回路电阻更小。

触头盘1为铜铬材料，呈圆片状，为盘状的上半部分。触头盘的外径为圆弧形，与触头座2外径的圆弧相接。

所述触头盘1和触头座2通过银铜焊料钎焊形成一体，装配于真空灭弧室中。与现有触头相比，其轴向尺寸缩小约50%，径向尺寸缩小约10%，使得真空灭弧室结构更为紧凑。

所述触头盘1上开设有与斜槽3数量对应的直槽6。具体在本实施例中：所述斜槽3为六条，六个斜槽开口在触头座的圆周上均布，相邻斜槽平行等距；所述斜槽3的宽度为1.0mm，斜槽3与水平面的倾斜角度为9度。所述直槽6为与斜槽对应的六条，并且以触头盘1的中心为圆心，成发散形均匀设置于触头盘上。

本实用新型的触头经电磁场分析，比常规杯状触头座产生的磁场更强更均匀，更有利于故障电流的开断，并使得真空灭弧室径向尺寸小型化；该触头结构能够实现更小触头开距下的故障电流开断能力，从而延长整机的机械寿命；触头座轴向尺寸小，使得真空灭弧室轴向尺寸结构更为紧凑；装配到整机后触头座的凸台与触头盘直接接触，回路电阻更小； 由于该触头结构的缓冲作用，装配到整机后的合闸弹跳更小。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种真空灭弧室用触头，包括位于上部的触头盘（1）和位于下部且与之配合的触头座（2），其特征在于：所述触头盘（1）和触头座（2）配合后形成一个圆弧表面的盘状，所述触头座（2）的侧壁上等距开设有数条斜槽（3），触头座（2）内设有凸台（4），所述凸台（4）与触头盘（1）之间存在间隙（5）；触头盘（1）上开设有与斜槽（3）数量对应的直槽（6）。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室用触头，其特征在于：所述斜槽（3）为六条，六条斜槽（3）的开口在触头座的圆周上均布，相邻斜槽平行等距。

3.根据权利要求2所述的真空灭弧室用触头，其特征在于：所述斜槽（3）的宽度为0.8-1.0mm，斜槽（3）与水平面的倾斜角度为8-10度。

4.根据权利要求1所述的真空灭弧室用触头，其特征在于：所述直槽（6）为六条，以触头盘（1）的中心为圆心，成发散形均匀设置于触头盘（1）上。

5.根据权利要求1所述的真空灭弧室用触头，其特征在于：所述凸台（4）与触头盘（1）之间的间隙（5）小于等于0.5mm，且凸台（4）与触头盘（1）在压力作用下接触。

6.根据权利要求1所述的真空灭弧室用触头，其特征在于：所述触头盘（1）和触头座（2）钎焊形成外缘为圆弧的一个整体。