CN204162609U - 一种具有真空吸附载具的浸釉机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及浸釉机的技术领域,公开了一种具有真空吸附载具的浸釉机,它包括机身和工作台,工作台由一连接有旋转动力源的定位装置、多个设于定位装置上的真空吸附装置以及一与旋转动力源相连接的底座组成,该底座通过一提升或降低定位装置的升降装置与机身相连接,在工作台前方的机身上设有一提供浸釉所需釉水的釉水池,本实用新型实现了浸釉工序的自动化,有效减少人工,缩短浸釉时间,显著节约能源,提高产品质量和数量,降低生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及浸釉机的技术领域,特指一种具有真空吸附作用的载具吸住坯体实现浸釉操作,以实现浸釉工序自动化的浸釉机。
背景技术
浸釉是陶瓷施釉技法之一,又称“蘸釉”。将坯体浸入釉中片刻后取出,利用坯的吸水性使釉浆附着于坯上,釉层厚度由坯的吸水性、釉浆浓度、浸渍时间进行控制,适用于厚胎坯体及杯碗类制品施外釉。
目前,大多数日用陶瓷生产厂家均采用人工上釉的方式,即工人用手拿着陶瓷坯体往釉浆里浸,坯体在釉浆里停留一定时间后,取出坯体,釉浆就覆盖在坯体表面上,反复操作直至完成。产品的质量受人工因素的影响较大,因浸釉时间不稳定,造成产品质量不稳定,而且工序为手工操作,工作效率低下,加之,随着人工成本的提高、生产规模的不断扩大,这种手工上釉模式严重制约了企业的发展。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足之处而提供一种具有真空吸附载具的浸釉机,该浸釉机实现了浸釉工序的自动化,有效减少人工,缩短浸釉时间,显著节约能源,提高产品质量和数量,降低生产成本。
为实现上述目的,本实用新型采用如下的技术方案:
一种具有真空吸附载具的浸釉机,它包括机身和工作台,所述工作台由一连接有旋转动力源的定位装置、多个设于定位装置上的真空吸附装置以及一与旋转动力源相连接的底座组成,该底座通过一提升或降低定位装置的升降机构与机身相连接,在工作台前方的机身上设有一提供浸釉所需釉水的釉水池。
所述机身两边设有支撑柱,于各支撑柱上分别安装了具有导轨的支撑部,与机身相连接的底座通过一两端横向滑动连接在两导轨之间的连接背板和机身相连接,设置在底座上的定位装置一端延伸至两边支撑柱的支撑部上,于定位装置的上表面形成水平面。
所述连接背板两端设有滑块,该连接背板通过各滑块连接在对应一边的导轨上,该连接背板通过一传动杆与减速机相连接,该减速机设于机身的底部,减速机、传动杆以及连接背板共同构成上述之升降机构。
所述真空吸附装置由与真空室相连通的真空管以及设于真空管顶端的载具组成,各真空吸附装置连接在提供真空吸附动力的同一真空室上,各真空吸附装置等距设置,各载具设置在同一直线上,该直线与定位装置表面相互平行。
所述真空室连接有抽风机,该抽风机设于机身外部。
所述釉水池底面设有过滤网。
所述各真空吸附装置对应设有移动完成浸釉作业之坯体的气缸手臂。
所述各真空吸附装置对应设有清洁载具的海绵转头。
本实用新型的有益效果在于:其通过具有真空吸附作用的载具吸住坯体,以代替人工浸釉,实现了浸釉工序的自动化,有效减少人工,缩短浸釉时间,显著节约能源,提高产品质量和数量,使得坯体的浸釉效果更为均匀,而且降低了生产成本。
附图说明
图1 是本实用新型的结构示意图之主视图。
图2 是本实用新型的使用状态示意图之一。
图3 是本实用新型的使用状态示意图之二。
图4 是本实用新型的结构示意图之俯视图。
具体实施方式
以下结合说明书附图对本实用新型作进一步说明:如图1-4所示,本实用新型关于一种具有真空吸附载具的浸釉机,它包括机身1和工作台2。
如图1-3所示,工作台2由一连接有旋转动力源22的定位装置21、多个设于定位装置21上的真空吸附装置23以及一与旋转动力源22相连接的底座24组成,该底座24通过一提升或降低定位装置21的升降机构11与机身1相连接,在工作台2前方的机身1上设有一提供浸釉所需釉水的釉水池3,该釉水池3底面设有过滤网,形成网状过滤槽,每隔一定时间进行自动倒出,防止产品脱落导至釉水池3堵塞或溢出。
如图1-3所示,机身1两边设有支撑柱12,于各支撑柱12上分别安装了具有导轨的支撑部13,与机身1相连接的底座24通过一两端横向滑动连接在两导轨之间的连接背板111和机身1相连接,设置在底座24上的定位装置21一端延伸至两边支撑柱12的支撑部13上,于定位装置21的上表面形成水平面。
如图1-3所示,进一步地,连接背板111两端设有滑块a,该连接背板111通过各滑块a连接在对应一边的导轨上,该连接背板111通过一传动杆112与减速机113相连接,该减速机113设于机身1的底部,减速机113、传动杆112以及连接背板111共同构成上述之升降机构11,通过升降机构11将定位装置21提升到一定的高度,保证浸釉的坯体4浸入釉水池3中时,即浸入到釉水中又不触及釉水池3底面被过滤网过滤之杂质。
如图1-3所示,真空吸附装置23由与真空室25相连通的真空管231以及设于真空管231顶端的载具232组成,各真空吸附装置23连接在提供真空吸附动力的同一真空室25上,各真空吸附装置23等距设置,保证浸釉时,各坯体4不相互影响,各载具232设置在同一直线上,该直线与定位装置21表面相互平行,通过真空吸住产品人工化动作,缓慢旋转进人釉水池3,同时进行产品的内外面和底部同时施釉,以提高浸釉效果,使得坯体4表面釉层更为均匀,其中,真空室25一般与能提供真空吸附动力的装置相连接,于本实用新型中,该提供真空吸附动力的装置优选抽风机,该抽风机设于机身1外部。
如图1-3所示,各真空吸附装置23对应设有移动完成浸釉作业之坯体4的气缸手臂(其中,气缸手臂是与其他生产线连接的,如果没有连接生产线,就需要人工放坯),以及清洁各载具232的海绵转头,各海绵转头与各载具232对应设置,气缸手臂、以及海绵转头的设置,提高了本实用新型的自动化程度,以提高生产效率,节省人力物力。
此外,如图4所示,本实用新型所揭示的一种具有真空吸附载具的浸釉机,可将本实用新型设置于不同方位进行组合,既能同时对多台机床进行操作,进一步提高生产效率,而且节约了空间。
本实用新型所揭示的一种具有真空吸附载具的浸釉机,其工作原理如下:
1)通过人工定位连接自动线自动将坯体4放置于载具232上,开始工作;
2)载具232通过连接抽风机(或和抽风机达到同等效果之装置)抽真空的方式吸住坯体4,通过机械的线定位方式,使坯体4自动定位,开始旋转;
3)载具232模拟人为动作,将坯体4缓冲旋转向下进入釉水池3,使坯体4内外表面和底部同时均匀浸釉;
4)浸泡一定时间后,载具232将坯体4缓慢平稳上升,由气缸手臂吸住坯体4,底部真空停止工作,坯体4离开载具232移动至运输带;
5)倒掉载具232里面剩余釉水(被真空管231吸进的釉水)进入循环池,再由海绵转头自动清洗载具232。
本实用新型所揭示的一种具有真空吸附载具的浸釉机,其实现了浸釉工序的自动化,有效减少人工,缩短浸釉时间,显著节约能源,提高产品质量和数量,降低生产成本。
以上所述仅是对本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型的范围进行限定,故在不脱离本实用新型设计精神的前提下,本领域普通工程技术人员对本实用新型所述的构造、特征及原理所做的等效变化或装饰,均应落入本实用新型申请专利的保护范围内。
Claims (8)
1.一种具有真空吸附载具的浸釉机,它包括机身和工作台,其特征在于:所述工作台由一连接有旋转动力源的定位装置、多个设于定位装置上的真空吸附装置以及一与旋转动力源相连接的底座组成,该底座通过一提升或降低定位装置的升降机构与机身相连接,在工作台前方的机身上设有一提供浸釉所需釉水的釉水池。
2.根据权利要求1所述的浸釉机,其特征在于:所述机身两边设有支撑柱,于各支撑柱上分别安装了具有导轨的支撑部,与机身相连接的底座通过一两端横向滑动连接在两导轨之间的连接背板和机身相连接,设置在底座上的定位装置一端延伸至两边支撑柱的支撑部上,于定位装置的上表面形成水平面。
3.根据权利要求1或2所述的浸釉机,其特征在于:所述连接背板两端设有滑块,该连接背板通过各滑块连接在对应一边的导轨上,该连接背板通过一传动杆与减速机相连接,该减速机设于机身的底部,减速机、传动杆以及连接背板共同构成上述之升降机构。
4.根据权利要求1所述的浸釉机,其特征在于:所述真空吸附装置由与真空室相连通的真空管以及设于真空管顶端的载具组成,各真空吸附装置连接在提供真空吸附动力的同一真空室上,各真空吸附装置等距设置,各载具设置在同一直线上,该直线与定位装置表面相互平行。
5.根据权利要求4所述的浸釉机,其特征在于:所述真空室连接有抽风机,该抽风机设于机身外部。
6.根据权利要求1所述的浸釉机,其特征在于:所述釉水池底面设有过滤网。
7.根据权利要求1所述的浸釉机,其特征在于:所述各真空吸附装置对应设有移动完成浸釉作业之坯体的气缸手臂。
8.根据权利要求1所述的浸釉机,其特征在于:所述各真空吸附装置对应设有清洁载具的海绵转头。
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CN106007807A (zh) * | 2016-07-19 | 2016-10-12 | 醴陵市科迅自动化陶瓷机械有限公司 | 一种陶瓷杯坯的自动坯底清洗装置及陶瓷杯坯的全自动加工生产线 |
CN106738245A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-05-31 | 衡东县中兴陶瓷有限公司 | 全自动高精度外釉装置 |
CN113276251A (zh) * | 2021-04-15 | 2021-08-20 | 慈溪市越窑青瓷有限公司 | 一种抗菌强化秘色釉瓷器的生产工艺及其加工设备 |
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