CN204134970U - 一种培养皿自动清洁装置 - Google Patents

Abstract

一种培养皿自动清洁装置，它包括底座和转盘，在底座周向均匀的布置有毛刷清洁区、超声波清洁区、清水清洁区和烘干区，且在毛刷清洁区中安装有可转动的毛刷，超声波清洁区中安装有超声波发生器并在所在的凹槽中灌装超声波清理介质；清水清洁区中安装有若干朝向培养皿进行喷水的高压喷嘴，并在清水清洁区所在的凹槽中设有出水孔；烘干区中安装有红外线发生器，转盘包括托盘、转轴和顶升机构，镂空的托盘通过转折臂安装在转轴的顶部，转轴在底端齿轮传动和驱动电机的带动下每次转动90度。本装置具有四个工位，自清洁至烘干，都可以在此装置中实现，可以实现清洁、清洗的基本功能，比传统的手工清洗效果好，且清洗和清洁更均匀。

Description

一种培养皿自动清洁装置

技术领域

该方案涉及组织培养中经常使用的培养皿的清洗、清洁设备技术领域，具体地说是一种培养皿自动清洁装置。 

背景技术

目前，培养皿的清洗主要是人工清洗，费工费时。市场上还没有针对培养皿清洗的自动化设备，针对实验室培养皿使用实际情况，设计一款简单高效的培养皿清洗装置是十分必要的。 

要解决以下问题：对使用过的培养皿进行培养基去除，进行彻底的清洗，防止清洗后出现斑斑点点的痕迹，可以进行自动烘干，不必洗净后再晾干。 

实用新型内容

为了解决现有技术的不足，本实用新型提供一种培养皿自动清洁装置，可以实现高效率的清洗和清洁，带有烘干功能，且清洁效果比传统的手洗效果更好，清洗后无斑点。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案为：一种培养皿自动清洁装置，包括底座和转盘，其特征在于， 

在圆盘状的所述底座周向均匀的布置有四个扇形凹槽，分别为毛刷清洁区、超声波清洁区、清水清洁区和烘干区，且 

在所述毛刷清洁区中安装有若干朝上设置的可转动的毛刷，所述毛刷所在轴的低端通过同步带传动由一个电机驱动，可以对培养皿内壁上粘付的培养基进行初步的清理； 

所述超声波清洁区中安装有超声波发生器并在所在的凹槽中灌装超声波清理介质，利用超声波原理对培养皿的内外壁进行清洁； 

所述清水清洁区中安装有若干朝向培养皿进行喷水的高压喷嘴，并在所述清水清洁区所在的凹槽中设有出水孔； 

所述烘干区中安装有红外线发生器， 

转盘，所述转盘包括托盘、转轴和顶升机构，镂空的所述托盘通过转折臂安装在转轴的顶部，且所述转轴可转动的安装在底座的中央处，在所述转轴中安装一顶升机构，所述转轴在底端齿轮传动和驱动电机的带动下每次转动90度。 

进一步地，在所述托盘上设有用于固定培养皿的弹力卡。 

进一步地，所述顶升机构为气缸。 

进一步地，所述顶升机构为电动直线推杆。 

进一步地，所述毛刷清洁区所在的凹槽底面为斜面，且在底面的低点设有培养基清理漏斗，以方便的对其进行清理。 

本实用新型的有益效果是： 

1、具有四个工位，自清洁至烘干，都可以在此装置中实现，可以实现清洁、清洗的基本功能。 

2、清洁效果好，比传统的手工清洗效果好，且清洗和清洁更均匀。 

3、通过配备自动化程序，可以实现自动化的清洁，仅仅需要取放即可，实现高效清洗。 

4、可以满足一般实验室中对培养皿清洗和清洁的需要。 

5、结构简单，易于生产，具有成本低的优势。 

附图说明

图1为原理图。 

图2为毛刷清洁区的示意图。 

图3为超声波清洁区的示意图。 

图4为清水清洁区的示意图。 

图5为烘干区的示意图。 

图6为装置的原理图。 

图7为底座的立体示意图。 

图8为转盘的立体示意图。 

图中：1底座，11毛刷清洁区，12超声波清洁区，13清水清洁区，14烘干区，2毛刷，21同步带传动，22电机，23垃圾清理漏斗，3超声波发生器，5高压喷嘴，6红外线发生器，7培养皿，8转盘，81托盘，82转轴，83顶升机构，84弹力卡，85驱动电机。 

具体实施方式

如图1至图8所示，一种培养皿自动清洁装置，包括底座和转盘。 

底座1为圆盘状，采用不锈钢制作，形成一个容器状，在所述底座的周向均匀的布置有四个扇形凹槽，内部可以盛水，形成水槽，按功能划分，分别为毛刷清洁区11、超声波清洁区12、清水清洁区13和烘干区14，下面分别对其结构进行详细的介绍。 

其中，在毛刷清洁区中安装有若干朝上设置的可转动的毛刷2，毛刷为棒状，毛刷所在的毛刷轴的低端通过同步带传动21由一个电机22驱动，这样通过一个电机就可以驱动多个毛刷同步转动。在培养皿到下降位后，电机启动，毛刷高速旋转，对培养皿的内表面进行清洁，可以将大部分的培养基清理下来，并且该凹槽底部设计成斜面，并设置垃圾清理漏斗23，在漏斗的下面外接一个培养基收集袋。 

超声波清洁区12中安装有超声波发生器3。超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质--清洗溶剂中，超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射，使液体流动而产生数以万计的直径为50-500μm的微小气泡，存在于液体中的微小气泡在声场的作用下振动。这些气泡在超声波 纵向传播的负压区形成、生长，而在正压区，当声压达到一定值时，气泡迅速增大,然后突然闭合。并在气泡闭合时产生冲击波,在其周围产生上千个大气压，破坏不溶性污物而使他们分散于清洗液中，当团体粒子被油污裹着而黏附在清洗件表面是,油被乳化,固体粒子及脱离，从而达到清洗件净化的目的。在这种被称之为“空化”效应的过程中，气泡闭合可形成几百度的高温和超过1000个气压的瞬间高压，连续不断地产生瞬间高压就像一连串小“爆炸”不断地冲击物件表面，使物件的表面及缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到物件表面清洗净化的目的。 

清水清洁区13中安装有若干朝向培养皿7进行喷水的高压喷嘴5，高压喷嘴的水源由水泵提供，高压喷嘴的设置可以参考图4，并在清水清洁区所在的水槽底部设有出水孔，产生的水可以及时的被清理掉，通过高压水向培养皿进行冲洗，可以对其进行进一步地清洁。 

烘干区中安装有红外线发生器6。红外线发生器可以进行采购，红外线对许多物质，包括罩光膜在内，具有一定的透过能力。用红外线干燥时，热射线穿透罩光膜层到达工件的表面，使工件表面发热，热量先传到罩光涂料的底层，然后再传到膜的表面，所以这种干燥过程是由内向外的，溶剂蒸气逸出自然稳当，罩光膜质量优良。又因红外线是一种光，穿行速度快，直接加热罩光膜，干燥速度快。 

此处使用的红外线发生器6为250～500W的钨丝红外线灯泡，这种灯泡的外形与普通的电灯泡差不多，只不过红外线灯泡的基部有一个反射面，里面涂有一层银膜，可以反射红外线。 

转盘部分，如图8所示。转盘8包括托盘81、转轴82和顶升机构83，托盘81采用不锈钢细丝进行焊接形成，为网格状或者格栅状，并在托盘上设有用于固定培养皿的弹力卡84，此处的弹力卡84是指，采用弹性片制作的L形的钢卡，通过掰动变形使之可以固定住培养皿，培养皿7倒置放置，便于清洗和沥 水。镂空的所述托盘81通过转折臂安装在转轴的顶部，并在托盘上设有间隔，形成四个扇形，对应的分别与四个凹槽对应，并可陷入凹槽中，如图7和图8所示。该转轴的转动方式有两种，一种是手动模式，即每次通过手动操作使之转动90度，二是自动模式，依靠位置传感器或者是说角度传感器来控制其转动90度，转动控制结构为啮合的齿轮传动。转轴82可转动的安装在底座的中央处，并在其下端齿轮传动和驱动电机85的驱动下可以进行转动，所述转轴在顶升机构的驱动下可升降。该顶升机构83可以为气缸或者为电动直线推杆。可以使得其进行直线升降运动，形成上升或者下降。 

工作过程如下： 

将培养皿7放置在托盘的固定工位上，并用弹力卡84固定，然后通过顶升机构将托盘至于毛刷清洁区11所在的水槽中，毛刷转动并对培养皿中的残留物进行清除，然后托盘上升并转动90度后进入超声波清洁区12的清洗凹槽中，对表面的污物利用超声波进行清洁，然后托盘上升并转动90度后进入清水清洁区13进行清洗，最后在烘干区14进行烘干。共四个工位，同时以此进行，可以实现高效的清洁，比传统的人工清洗效率提高数倍，且清洗的效果也更好。 

上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域相关技术人员对本实用新型的各种变形和改进，均应扩如本实用新型权利要求书所确定的保护范围内。 

Claims (5)

1.一种培养皿自动清洁装置，包括底座和转盘，其特征在于， 

在圆盘状的所述底座周向均匀的布置有四个扇形凹槽，分别为毛刷清洁区、超声波清洁区、清水清洁区和烘干区，且 

在所述毛刷清洁区中安装有若干朝上设置的可转动的毛刷，所述毛刷所在轴的低端通过同步带传动由一个电机驱动； 

所述超声波清洁区中安装有超声波发生器并在所在的凹槽中灌装超声波清理介质； 

所述清水清洁区中安装有若干朝向培养皿进行喷水的高压喷嘴，并在所述清水清洁区所在的凹槽中设有出水孔； 

所述烘干区中安装有红外线发生器， 

转盘，所述转盘包括托盘、转轴和顶升机构，镂空的所述托盘通过转折臂安装在转轴的顶部，且所述转轴可转动的安装在底座的中央处，在所述转轴中安装一顶升机构，所述转轴在底端齿轮传动和驱动电机的带动下每次转动90度。 

2.根据权利要求1所述的一种培养皿自动清洁装置，其特征是，在所述托盘上设有用于固定培养皿的弹力卡。 

3.根据权利要求1所述的一种培养皿自动清洁装置，其特征是，所述顶升机构为气缸。 

4.根据权利要求1所述的一种培养皿自动清洁装置，其特征是，所述顶升机构为电动直线推杆。 

5.根据权利要求1所述的一种培养皿自动清洁装置，其特征是，所述毛刷清洁区所在的凹槽底面为斜面，且在底面的低点设有培养基清理漏斗。