CN204075904U - 一种石板水磨抛光装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种石板水磨抛光装置,包括水磨箱,所述水磨箱下方设有沉淀池,所述沉淀池中间通过设置上挡板和下挡板将沉淀池分为清水区和稳流沉淀区,清水区通过水泵连接水磨箱左侧的加水管,而水磨箱右侧设有出水管,出水管的端口连接挡盘,而挡盘的正下方设置有集水盘,同时集水盘底部通过管道连接沉淀池的稳流沉淀区。通过在水磨箱内设置工作台进行石板的抛光,不仅不会产生粉尘污染,同时可以保证石板在低温下磨削,防止高温磨削受热不均导致的开裂,且通过水泵和沉淀池使得水磨箱内的水源可以得到循环,保证水磨箱内的清澈,同时水循环的产生的水流可以带走石渣和石粉,避免了抛光轮粘附石渣造成的刮花的现象。

Description

一种石板水磨抛光装置
技术领域
本实用新型涉及一种抛光装置,具体是一种石板水磨抛光装置。
背景技术
石材的抛光可以增加石材的观赏性,同时使得一些材料更加具有触感,但是现有的抛光工艺中,多采用干式抛光的方法,这个在干燥环境下抛光的方式,容易使得石材表面受热不均,最终导致石板表面开裂,而采用清水冷却,却又造成水资源的浪费。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种石板水磨抛光装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种石板水磨抛光装置,包括集水盘、筛网、挡盘、工作台、罩子、电机、Y轴、Z轴、X轴、石板、水磨箱、水泵、沉淀池、上挡板、下挡板、抛光轮和底盘,所述水磨箱下方设有沉淀池,所述沉淀池中间通过设置上挡板和下挡板将沉淀池分为清水区和稳流沉淀区,清水区通过水泵连接水磨箱左侧的加水管,而水磨箱右侧设有出水管,出水管的端口连接挡盘,而挡盘的正下方设置有集水盘,同时集水盘底部通过管道连接沉淀池的稳流沉淀区;所述水磨箱内固设有工作台,工作台上放置石板,所述水磨箱的侧面设有底盘,底盘上设有沿X方向活动的X轴,X轴上设有上下活动的Z轴,Z轴上设有沿着Y方向活动的Y轴,且Y轴的一端固连电机,电机的输出轴上固连有抛光轮。
作为本实用新型进一步的方案:所述集水盘的中部设有筛网。
作为本实用新型再进一步的方案:所述抛光轮外部设有罩子。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过在水磨箱内设置工作台进行石板的抛光,不仅不会产生粉尘污染,同时可以保证石板在低温下磨削,防止高温磨削受热不均导致的开裂,且通过水泵和沉淀池使得水磨箱内的水源可以得到循环,保证水磨箱内的清澈,有效的防止水浪费,同时水循环的产生的水流可以带走石渣和石粉,避免了抛光轮粘附石渣造成的刮花的现象。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为水磨箱的俯视示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1~2,本实用新型实施例中,一种石板水磨抛光装置,包括集水盘1、筛网2、挡盘3、工作台4、罩子5、电机6、Y轴7、Z轴8、X轴9、石板10、水磨箱11、水泵12、沉淀池13、上挡板14、下挡板15、抛光轮16和底盘17,所述水磨箱11下方设有沉淀池13,利用沉淀池13对水磨箱11内产生的污水进行沉淀,所述沉淀池13中间通过设置上挡板14和下挡板15将沉淀池13分为清水区和稳流沉淀区,清水区通过水泵12连接水磨箱11左侧的加水管,而水磨箱11右侧设有出水管,出水管的端口连接挡盘3以防止碎屑和污水飞溅,而挡盘3的正下方设置有集水盘1,集水盘1的中部设有筛网2,利用筛网2对水磨抛光产生的大颗粒石屑进行过滤,同时集水盘1底部通过管道连接沉淀池13的稳流沉淀区;
所述水磨箱11内固设有工作台4,工作台4上放置石板10,所述水磨箱11的侧面设有底盘17,底盘17上设有沿X方向活动的X轴9,X轴9上设有上下活动的Z轴8,Z轴8上设有沿着Y方向活动的Y轴7,且Y轴7的一端固连电机6,电机6的输出轴上固连有抛光轮16,利用Y轴7、Z轴8和X轴9可以实现抛光轮16在空间上的自由移动,满足抛光不同厚度和面积石板的需求,且抛光轮16外部设有罩子5用来防止磨削产生的石屑飞溅出来伤害人和物。
本实用新型的工作原理是:通过在水磨箱11内设置工作台4进行石板的抛光,不仅不会产生粉尘污染,同时可以保证石板在低温下磨削,防止高温磨削受热不均导致的开裂,且通过水泵12和沉淀池13使得水磨箱11内的水源可以得到循环,保证水磨箱11内的清澈,有效的防止水浪费,同时水循环的产生的水流可以带走石渣和石粉,避免了抛光轮16粘附石渣造成的刮花的现象。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。 
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (3)

1.一种石板水磨抛光装置,包括集水盘、筛网、挡盘、工作台、罩子、电机、Y轴、Z轴、X轴、石板、水磨箱、水泵、沉淀池、上挡板、下挡板、抛光轮和底盘,其特征在于,所述水磨箱下方设有沉淀池,所述沉淀池中间通过设置上挡板和下挡板将沉淀池分为清水区和稳流沉淀区,清水区通过水泵连接水磨箱左侧的加水管,而水磨箱右侧设有出水管,出水管的端口连接挡盘,而挡盘的正下方设置有集水盘,同时集水盘底部通过管道连接沉淀池的稳流沉淀区;所述水磨箱内固设有工作台,工作台上放置石板,所述水磨箱的侧面设有底盘,底盘上设有沿X方向活动的X轴,X轴上设有上下活动的Z轴,Z轴上设有沿着Y方向活动的Y轴,且Y轴的一端固连电机,电机的输出轴上固连有抛光轮。
2.根据权利要求1所述的一种石板水磨抛光装置,其特征在于,所述集水盘的中部设有筛网。
3.根据权利要求1所述的一种石板水磨抛光装置,其特征在于,所述抛光轮外部设有罩子。
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