CN203900064U - 一种超声波清洗槽的进水结构 - Google Patents
一种超声波清洗槽的进水结构 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型涉及一种超声波清洗槽的进水结构，包括清洗槽，所述清洗槽的顶部外侧环设有主管，所述主管上设有多个进水支管，所述进水支管与所述清洗槽的内腔连通，所述进水支管的流速相等。通过在清洗槽的周围布置多个流速相等的进水支管，从而尽可能地降低了清洗槽内注入新的液体时水流冲击造成的影响，降低了液体的混流程度，起到了均衡清洗槽内液体的作用，从而保证了超声波在液体内传递的均衡性，保证了清洗质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种超声波清洗槽的进水结构，属于超声波清洗槽结构的改进。
背景技术
现有技术中超声波清洗机的超声波清洗槽，通常在清洗槽底部设有超声波震板，在清洗时，在清洗槽中注入清洗液或清水等所需液体，然而每当清洗一定数量的产品时，清洗槽内就含有相当含量的杂质，需要换水降低杂质含量，传统的做法是将清洗槽内的废水完全排出更换，但是这种做法效率非常低，且浪费资源。
为此在实际使用时通常采用循环稀释清洗槽内液体的做法，排出部分杂质液体，再注入新的液体，因为清洗过程中有液体的损耗，因此注入新液体的频率一般要比排出杂质液体的操作频率要高，这一注入新液体的过程有时是伴随着超声波清洗工作同时进行的，从而保证生产效率，但是在往清洗槽中注入新的液体的同时，由于水流会产生一定的冲击力，造成液体混流，从而破坏整个清洗槽内液体的均衡性，导致超声波在传递过程中紊乱，均衡性太差达不到良好的清洗效果，因此有必要进行改进，以克服这一缺陷。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的问题，提供一种超声波清洗槽的进水结构，其可降低往清洗槽内注入新的液体时水流冲击造成的影响，均衡清洗槽内的液体，降低液体混流的程度，从而保证超声波在液体内传递的均衡性，保证清洗质量。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现：
一种超声波清洗槽的进水结构，包括清洗槽，所述清洗槽的顶部外侧环设有主管，所述主管上设有多个进水支管，所述进水支管与所述清洗槽的内腔连通，所述进水支管的流速相等。
通过在清洗槽的周围布置多个流速相等的进水支管，从而尽可能地降低水流冲击对清洗槽内液体的混流程度，从而保证超声波在液体内传递的均衡性。
进水支管的连接安装方式可灵活设置，优选地，所述进水支管水平设置，所述进水支管固定安装在所述清洗槽的槽壁上。
可选地，所述进水支管与所述主管呈枝状管路设置，所述进水支管均匀间隔设置在所述主管上，此处采用的是较为简单的枝状管路的布置方式，即在支管某处分出多个支管而不汇合成一根主管。考虑到管道压力降的影响，为保证进水支管的流速相等，在所述主管内液体的流动方向上、所述进水支管的管径递减。枝状管路是指在主管某处分出支管或支管上再分出支管而不汇合成一根主管的管路布置方式。
本实用新型所述的超声波清洗槽的进水结构，包括清洗槽，所述清洗槽的顶部外侧环设有主管，所述主管上设有多个进水支管，所述进水支管与所述清洗槽的内腔连通，所述进水支管的流速相等。通过在清洗槽的周围布置多个流速相等的进水支管，从而尽可能地降低了清洗槽内注入新的液体时水流冲击造成的影响，降低了液体的混流程度，起到了均衡清洗槽内液体的作用，从而保证了超声波在液体内传递的均衡性，保证了清洗质量。
附图说明
图1为本实用新型所述超声波清洗槽的进水结构一具体实施例中的俯视结构原理图。
具体实施方式
下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
如图1所示，本实用新型第二种实施例所述的一种超声波清洗槽的进水结构，包括清洗槽1，清洗槽1的顶部外侧环设有主管2，主管2上设有多个进水支管3，进水支管3与清洗槽1的内腔1a连通，进水支管3的流速相等。
通过在清洗槽的周围布置多个流速相等的进水支管，从而尽可能地降低水流冲击对清洗槽内液体的混流程度，从而保证超声波在液体内传递的均衡性。
进水支管3的连接安装方式可灵活设置，进水支管3水平设置，进水支管3固定安装在清洗槽1的槽壁上。
为了保证进水支管的流速相等，进水支管3与主管2呈枝状管路设置，进水支管3均匀间隔设置在主管上，此处采用的是较为简单的枝状管路的布置方式，即在支管某处分出多个支管而不汇合成一根主管。考虑到管道压力降的影响，为保证进水支管的流速相等，在主管2内液体的流动方向a上、进水支管3的管径递减。枝状管路是指在主管某处分出支管或支管上再分出支管而不汇合成一根主管的管路布置方式。
以上所述仅为说明本实用新型的实施方式，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种超声波清洗槽的进水结构，包括清洗槽，其特征在于，所述清洗槽的顶部外侧环设有主管，所述主管上设有多个进水支管，所述进水支管与所述清洗槽的内腔连通，所述进水支管的流速相等。
2.如权利要求1所述的超声波清洗槽的进水结构，其特征在于，所述进水支管水平设置，所述进水支管固定安装在所述清洗槽的槽壁上。
3.如权利要求2所述的超声波清洗槽的进水结构，其特征在于，所述进水支管与所述主管呈枝状管路设置，所述进水支管均匀间隔设置在所述主管上，在所述主管内液体的流动方向上、所述进水支管的管径递减。
Priority Applications (1)
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| CN201420265556.9U CN203900064U (zh) | 2014-05-23 | 2014-05-23 | 一种超声波清洗槽的进水结构 |
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| CN201420265556.9U CN203900064U (zh) | 2014-05-23 | 2014-05-23 | 一种超声波清洗槽的进水结构 |
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| CN203900064U true CN203900064U (zh) | 2014-10-29 |
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| CN (1) | CN203900064U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108480305A (zh) * | 2018-04-12 | 2018-09-04 | 绍兴文理学院 | 一种光伏硅片清洗设备 |
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2014
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Granted publication date: 20141029 Termination date: 20170523 |