CN203879908U - 射流吸盘装置 - Google Patents

射流吸盘装置 Download PDF

Info

Publication number
CN203879908U
CN203879908U CN201420292066.8U CN201420292066U CN203879908U CN 203879908 U CN203879908 U CN 203879908U CN 201420292066 U CN201420292066 U CN 201420292066U CN 203879908 U CN203879908 U CN 203879908U
Authority
CN
China
Prior art keywords
adsorption
adsorption plate
diversion
adsorption board
faces
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201420292066.8U
Other languages
English (en)
Inventor
刘海珊
孙红喆
王维熙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tianjin Yuan Tiansheng Development In Science And Technology Co Ltd
Original Assignee
Tianjin Yuan Tiansheng Development In Science And Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tianjin Yuan Tiansheng Development In Science And Technology Co Ltd filed Critical Tianjin Yuan Tiansheng Development In Science And Technology Co Ltd
Priority to CN201420292066.8U priority Critical patent/CN203879908U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN203879908U publication Critical patent/CN203879908U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

本实用新型公开了射流吸盘装置,它包括吸附板,在所述的吸附板的底面上安装有四个导流块,每一个导流块的外侧侧壁上向吸附板外侧方向凸出设置有凸块,所述的凸块的顶面与吸附板底面平行设置形成导流面,所述的凸块的底面与吸附板底面平行设置形成硅片吸附状态下的支撑面,在吸附板上设置有压缩空气通路,压缩空气通路具有分别与四个导流块的导流面相对的喷射孔,喷射孔喷射的气流被导流块的导流面阻挡改变运动方向,沿吸附板底面向外侧喷出。本实用新型的有益效果是:吸附产品是依靠高速气体射流产生局部低压区以吸附物体,避免了传统吸入式吸附方式容易吸入异物造成机构污染故障的弊端。

Description

射流吸盘装置
技术领域
本实用新型涉及硅片搬运过程中应用的吸附装置,本实用新型尤其涉及射流吸盘。
背景技术
太阳能硅片自动生产加工过程中涉及吸取搬运硅片的过程,硅片表面覆水的情况下用传统真空吸附的方式会将硅片表面的水吸入真空泵或其他真空发生装置,造成装置故障或损坏。
发明内容
本实用新型的目的在于克服已有技术的缺点,提供一种保证真空发生装置不会损坏的射流吸盘装置。
本实用新型的射流吸盘装置,它包括吸附板,在所述的吸附板的底面上安装有四个导流块,每一个导流块的外侧侧壁上向吸附板外侧方向凸出设置有凸块,所述的凸块的顶面与吸附板底面平行设置形成导流面,所述的凸块的底面与吸附板底面平行设置形成硅片吸附状态下的支撑面,在吸附板上设置有压缩空气通路,压缩空气通路具有分别与四个导流块的导流面相对的喷射孔,喷射孔喷射的气流被导流块的导流面阻挡改变运动方向,沿吸附板底面向外侧喷出。
本实用新型的有益效果是:吸附产品是依靠高速气体射流产生局部低压区以吸附物体,避免了传统吸入式吸附方式容易吸入异物造成机构污染故障的弊端。
附图说明
图1是本实用新型的射流吸盘装置的整体结构示意图;
图2是图1所示的装置侧视剖视示意图;
图3-1是图1所示的装置中的导流块的结构示意图;
图3-2是图3-1所示的导流块的侧视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
本装置的原理是利用高速气流造成局部低压,低压区域使得被吸附的硅片上下表面出现压差,由此产生吸附力使硅片贴合在吸盘表面。
如附图所示的本实用新型的射流吸盘装置,它包括吸附板1,在所述的吸附板1的底面上安装有四个导流块3,每一个导流块3的外侧侧壁上向吸附板外侧方向凸出设置有凸块,所述的凸块的顶面与吸附板1底面平行设置形成导流面6,所述的凸块的底面与吸附板1底面平行设置形成硅片吸附状态下的支撑面7,在吸附板1上设置有压缩空气通路。压缩空气通路具有分别与四个导流块3的导流面6相对的喷射孔2,使喷射孔2喷射的气流被导流块3的导流面6阻挡改变运动方向,沿吸附板1底面向外侧喷出。压缩空气通路可以为两个,每一个压缩空气通路有分别与两个导流块3的导流面6相对的喷射孔2。这种高速气流造成被吸附物与吸附板之间区域气压压强降低从而获得吸取被吸附物的吸附力。
如图1是本射流吸附的装置的整体结构示意图,它包括吸附板1,喷射孔2,导流块3,压缩空气通路4。
如图2是射流吸附装置侧切面示意图,该图显示了吸附状态下装置的工作原理。5为被吸附的硅片。箭头方向标识了压缩空气射流的流向。
图3-1和3-2是导流块结构示意图,6为导流面,7为硅片吸附状态下的支撑面。优选的,支撑面7的面积为小于导流面的面积的凸台结构,支撑面7被设计成较小面积的凸台结构是为减少与硅片的接触面积以防止射流停止后硅片粘附在导流块上,不能可靠的自由下落。
本装置的工作过程如下:
正常工作过程中,外部机械手带动吸盘运动至被抓取硅片上方2mm左右处,压缩空气被打开注入压缩空气通路4中,喷射孔2与压缩空气通路4连通,压缩空气通过喷射孔2高速喷出,喷射气流被导流块3的导流面6阻挡改变运动方向,沿吸附板1表面向外侧喷出,此时由于高速气流流过吸附板1与下方硅片5之间区域气压降低,而硅片5下方仍为外部标准大气压,在这种压差作用下硅片5被吸起并贴合在吸附板1上,由导流块3的支撑面7支撑。吸附动作完成。
搬运动作完成后,压缩空气被切断,吸附作用消失,硅片5在其本身重力作用下落至指定位置。

Claims (2)

1.射流吸盘装置,其特征在于:它包括吸附板,在所述的吸附板的底面上安装有四个导流块,每一个导流块的外侧侧壁上向吸附板外侧方向凸出设置有凸块,所述的凸块的顶面与吸附板底面平行设置形成导流面,所述的凸块的底面与吸附板底面平行设置形成硅片吸附状态下的支撑面,在吸附板上设置有压缩空气通路,压缩空气通路具有分别与四个导流块的导流面相对的喷射孔,喷射孔喷射的气流被导流块的导流面阻挡改变运动方向,沿吸附板底面向外侧喷出。
2.根据权利要求1所述的射流吸盘装置,其特征在于:所述的支撑面的面积为小于导流面的面积的凸台结构。
CN201420292066.8U 2014-06-03 2014-06-03 射流吸盘装置 Expired - Fee Related CN203879908U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420292066.8U CN203879908U (zh) 2014-06-03 2014-06-03 射流吸盘装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420292066.8U CN203879908U (zh) 2014-06-03 2014-06-03 射流吸盘装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN203879908U true CN203879908U (zh) 2014-10-15

Family

ID=51680408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201420292066.8U Expired - Fee Related CN203879908U (zh) 2014-06-03 2014-06-03 射流吸盘装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN203879908U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106219234A (zh) * 2016-08-01 2016-12-14 江苏农林职业技术学院 吹气式真空吸盘及带有该吹气式真空吸盘的真空吸附设备

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106219234A (zh) * 2016-08-01 2016-12-14 江苏农林职业技术学院 吹气式真空吸盘及带有该吹气式真空吸盘的真空吸附设备
CN106219234B (zh) * 2016-08-01 2018-04-17 江苏农林职业技术学院 吹气式真空吸盘及带有该吹气式真空吸盘的真空吸附设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102211099B (zh) 空气集尘装置
CN203714883U (zh) 一种板材真空吸取装置
CN103787102A (zh) 一种板材真空吸取装置及其用于吊装板材的方法
CN202996802U (zh) 一种聚光光伏电池片不挂尘真空吸笔
CN104482028B (zh) 一种万能真空负压吸盘
CN203879908U (zh) 射流吸盘装置
CN105252703B (zh) 一种模具用活动吸盘装置
CN102332420B (zh) 超薄伞流式非接触硅片吸盘
TWM499960U (zh) 自動化清洗站
CN101264844A (zh) 旋流式非接触吸盘
CN103112242A (zh) 一种全自动丝网印刷机的吸盘装置
CN203198387U (zh) 一种全自动丝网印刷机的吸盘装置
JP5995198B2 (ja) 非接触吸着装置
TWI522182B (zh) 自動化清洗站
CN204500523U (zh) 一种擦玻璃装置的吸附机构
CN205035611U (zh) 一种布料专用吸盘
CN208896121U (zh) 一种射频模块产品真空吸取抓手
CN204327726U (zh) 一种万能真空负压吸盘
CN206476215U (zh) 包装机用轨道防尘装置
CN216563066U (zh) 一种用于半导体芯片的吸附装置
CN206703192U (zh) 一种竹家具生产用切割装置
CN202120883U (zh) 一种刻蚀吸笔
CN105177874A (zh) 一种布料专用吸盘及其工作方法
CN203466169U (zh) 电池硅片自动除尘装置
CN220055490U (zh) 一种电子产品玻璃生产的输送设备

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20141015

Termination date: 20200603