CN203862608U - 一种二极管零部件清洗烘干装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种二极管零部件清洗烘干装置,它包括工作台台面(1),在工作台台面(1)上方顺序安装有盐酸清洗液装置(3)、去离子水清洗装置(4)、一级超声波清洗装置(5)、二级超声波清洗装置(6)、三级超声波清洗装置(7)、酒精液清洗装置(8)、冷气吹干装置(9)和热风吹干装置(10),工作台台面(1)下方地面上设有排水沟;解决了现有技术对二极管原材料的清洗和烘干采用的是分散进行,这样的操作模式由于每个清洗工位都需要人工去搬运器件框,操作效率低下,且车间布置占用地方多等问题。
Description
技术领域
本实用新型属于二极管加工技术领域,尤其涉及一种二极管零部件清洗烘干装置。
背景技术
在二极管生产过程中,需要先将二极管的原材料如引线、底座和铜片等进行清洗烘干后才能用于二极管的焊接和组装,在常规技术中,对二极管原材料的清洗和烘干采用的是分散进行,工人手拿器件框将器件框搬运到不同的水龙头下进行清洗,最后将器件框放到烘干机进行烘干,这样的操作模式由于每个工位都需要人工去搬运器件框,操作效率低下,而且分散式的清洗和烘干模式占用地方多。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题: 提供一种二极管零部件清洗烘干装置,以解决现有技术对二极管原材料的清洗和烘干采用的是分散进行,这样的操作模式由于每个清洗工位都需要人工去搬运器件框,操作效率低下,且车间布置占用地方多等问题。
本实用新型技术方案:
一种二极管零部件清洗烘干装置,它包括工作台台面,在工作台台面上方顺序安装有盐酸清洗液装置、去离子水清洗装置、一级超声波清洗装置、二级超声波清洗装置、三级超声波清洗装置、酒精液清洗装置、冷气吹干装置和热风吹干装置,工作台台面下方地面上设有排水沟。
盐酸清洗液装置、去离子水清洗装置、一级超声波清洗装置、二级超声波清洗装置、三级超声波清洗装置、酒精液清洗装置、冷气吹干装置和热风吹干装置距工作台台面的距离比器件框的高度高20-30厘米。
在三级超声波清洗装置处安装有器件电导率检测装置。
工作台台面上设有漏水孔。
工作台台面下方设有接水板,排水管与接水板底部连通。
工作台台面上设有滚珠。
冷气吹干装置吹出气体为氮气。
热风吹干装置吹风口处安装有空气净化器。
盐酸清洗液装置采用8%-12%浓度的盐酸液。
本实用新型的有益效果:
本实用新型将二极管零部件分散式清洗方式集中在一起,通过一个工作台即可完成,器件框上工作台后,由工人推着顺序移动操作,即可完成器件的清洗和烘干工作,同时为了方便工人推动器件框,节省工人力气,在工作台台面上安装滚珠,滚珠可自由转动,这样的结构方便工人推动器件框,清洗后的污水从工作台台面的漏水孔中漏到地面排水沟中流出,或通过工作台台面的漏水孔漏到接水板上由与接水板底部连通的水管排到污水沟中排除,本实用新型结构简单,节省体力并提高了操作效率,而且各个清洗装置沿工作台顺序布置,相对分散式操作节省了车间大量使用面积,解决了现有技术对二极管原材料的清洗和烘干采用的是分散进行,这样的操作模式由于每个清洗工位都需要人工去搬运器件框,操作效率低下,且车间布置占用地方多等问题。
附图说明:
图1是本实用新型主视示意图;
图2是本实用新型工作台台面俯视结构示意图;
图3为本实用新型工作台台面与接水板连接示意图。
具体实施方式:
一种二极管零部件清洗烘干装置,它包括工作台台面1,在工作台台面1上方顺序安装有盐酸清洗液装置3、去离子水清洗装置4、一级超声波清洗装置5、二级超声波清洗装置6、三级超声波清洗装置7、酒精液清洗装置8、冷气吹干装置9和热风吹干装置10,工作台台面1下方地面上设有排水沟。
盐酸清洗液装置3、去离子水清洗装置4、一级超声波清洗装置5、二级超声波清洗装置6、三级超声波清洗装置7、酒精液清洗装置8、冷气吹干装置9和热风吹干装置10距离工作台台面1的高度比器件框2的高度高20-30厘米。
在三级超声波清洗装置7处安装有器件电导率检测装置,通过器件电导率检测装置检测被清洗器件的导电率即可判断出器件是否完全清洗干净,解决了现有技术清洗二极管原材料时通过人工目视判断存在的问题。
工作台台面1上设有漏水孔12。
为了解决工作台台面上的水从漏水孔12直接掉在地面污水沟中溅到工人身上、地面或器具上,为了保持车间地面干燥,在工作台台面1下方设有接水板13,接水板13的各个侧板与工作台台面1密封连接,排水管14与接水板13底部连通,排水管14直接连接到地面排水沟,工作台台面1的污水通过接水板13收集后,由排水管14直接排到地面排水沟中。
工作台台面1上设有滚珠11。
冷气吹干装置9吹出气体为氮气。
热风吹干装置10吹风口处安装有空气净化器,可确保热风吹干装置10吹出的热风干净不会对器件造成二次污染。
盐酸清洗液装置3采用8%-12%浓度的盐酸液。
二极管零部件清洗烘干装置的操作方法,它包括下述步骤:
步骤1、工作人员将二极管零部件放入器件框2,从装置左侧放入工作台台面1;
步骤2、将器件框2推到盐酸清洗液装置3处,打开盐酸清洗液装置3的开关,清洗12-15分钟;
步骤3、盐酸清洗液装置3清洗完成后,将器件框2推到去离子水清洗装置4处,清洗2-5分钟;
步骤4、去离子水清洗装置4清洗完成后,将器件框2顺序经过一级超声波清洗装置5、二级超声波清洗装置6和三级超声波清洗装置7进行清洗;在三级超声波清洗装置7清洗时观察器件电导率检测装置的读数,读数合格则结束清洗;
步骤5、三级超声波清洗装置7清洗结束后,将器件框2推到酒精液清洗装置8处进行清洗,清洗时间为2-5分钟;
步骤6、酒精液清洗装置8清洗结束后,将器件框2推到冷气吹干装置9处将器件吹干,使器件表面脱水,冷气吹干时间为3-5分钟;
步骤7、冷气吹干装置9表面脱水结束后,将器件框2推到热风吹干装置10处进行热风吹干,使器件完全干燥,干燥时间为2-3分钟。
操作结束后,即完成了整个二极管原材料的清洗烘干工作。
Claims (9)
1.一种二极管零部件清洗烘干装置,它包括工作台台面(1),其特征在于:在工作台台面(1)上方顺序安装有盐酸清洗液装置(3)、去离子水清洗装置(4)、一级超声波清洗装置(5)、二级超声波清洗装置(6)、三级超声波清洗装置(7)、酒精液清洗装置(8)、冷气吹干装置(9)和热风吹干装置(10),工作台台面(1)下方地面上设有排水沟。
2.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:盐酸清洗液装置(3)、去离子水清洗装置(4)、一级超声波清洗装置(5)、二级超声波清洗装置(6)、三级超声波清洗装置(7)、酒精液清洗装置(8)、冷气吹干装置(9)和热风吹干装置(10)距离工作台台面(1)的高度比器件框(2)的高度高20-30厘米。
3.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:在三级超声波清洗装置(7)处安装有器件电导率检测装置。
4.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:工作台台面(1)上设有漏水孔(12)。
5.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:工作台台面(1)下方设有接水板(13),排水管(14)与接水板(13)底部连通。
6.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:工作台台面(1)上设有滚珠(11)。
7.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:冷气吹干装置(9)吹出气体为氮气。
8.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:热风吹干装置(10)吹风口处安装有空气净化器。
9.根据权利要求1所述的一种二极管零部件清洗烘干装置,其特征在于:盐酸清洗液装置(3)采用8%-12%浓度的盐酸液。
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CN103990612A (zh) * | 2014-05-30 | 2014-08-20 | 贵州雅光电子科技股份有限公司 | 一种二极管零部件清洗烘干装置及其操作方法 |
CN104384142A (zh) * | 2014-11-17 | 2015-03-04 | 如皋市易达电子有限责任公司 | 一种贴片整流桥超声清洗工艺 |
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