CN203853326U - 一种晶体谐振器清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种晶体谐振器清洗装置，包括旋转架、两个清洗桶，旋转架由支撑杆、“十”字支架、收缩杆、吊盘和放置条组成，支撑杆与“十”字支架中心连接，“十”字支架的四个末端连接收缩杆，收缩杆连接吊盘，吊盘底部周边连接放置条，放置条上设置多个放置架，两个清洗桶分别设置在两个相邻的吊盘正下方，清洗桶内部设置旋转桶，旋转桶上设置叶片，清洗桶底部中央位置设置旋转桨。本实用新型通过设置两个清洗桶并利用旋转架的结构使晶体谐振器依次顺序进入不同的清洗液中清洗，避免在两个清洗步骤中需要人工交接的问题；清洗桶包括旋转桶和旋转桨，带动清洗液按各自不同的方向流动，提高了清洗的效率和清洁程度。

Description

一种晶体谐振器清洗装置

技术领域

本实用新型涉及晶体谐振器的生产设备领域，特别是一种晶体谐振器清洗装置。

背景技术

石英晶体谐振器是利用石英晶体的压电效应而制成的谐振元件。在现有技术中，生产石英晶体谐振器的过程中缺少专用的清洗设备。由于石英晶体清洗时不能发生相互碰撞，否则会造成损坏，所以目前主要依靠传统的人工清洗方式，工作效率低。

据检索，中国实用新型专利：石英晶体谐振器清洗装置（公开号202798606U）公开了一种晶体谐振器清洗装置，其包括清洗箱体，清洗箱体内侧底部安装有搅拌桨，搅拌桨上方固定网盒固定架，在清洗时将晶体放入网盒内，再放到箱体内清洗以保证晶体不发生碰撞。由于晶体谐振器在生产过程中需要分别进行酸性和碱性清洗，用于依次除去金属屑和油污，所以该使用新型仅在单个清洗步骤中避免了人工清洗。在完成酸性清洗后需要人工介入，将晶体放到碱性液的清洗装置中再次清洗，这样仍然需要人工在旁边等待，进行两个步骤的交接。

实用新型内容

针对现有技术的上述缺陷和问题，本实用新型目的是提供一种晶体谐振器清洗装置，通过设置两个清洗桶并利用旋转架的结构使晶体谐振器依次顺序进入不同的清洗液中清洗，避免在两个清洗步骤中需要人工交接的问题。

为了达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案实现：

一种晶体谐振器清洗装置，包括旋转架、两个清洗桶，所述旋转架由支撑杆、“十”字支架、收缩杆、吊盘和放置条组成，所述支撑杆与“十”字支架的中心连接，所述“十”字支架能够围绕支撑杆旋转，所述“十”字支架的四个末端连接收缩杆，所述收缩杆能在竖直方向收缩，所述收缩杆连接吊盘，所述吊盘底部的周边连接放置条，所述放置条上设置多个放置架，所述两个清洗桶分别设置在两个相邻的吊盘正下方，所述清洗桶的横截面不小于吊盘的横截面，所述清洗桶内部设置旋转桶，所述旋转桶上设置叶片，所述叶片与旋转架上的放置条不接触。

进一步的技术方案，所述清洗桶还包括旋转桨，所述旋转桨设置在清洗桶的底部中央位置，其与旋转架上的放置条不接触。

进一步的技术方案，所述吊盘底部的周边设置挂环，所述放置条设置挂钩，所述放置条通过挂钩连接吊盘的挂环。

本实用新型通过设置两个清洗桶，分别在桶内放置酸性及碱性清洗液，同时利用旋转架的结构使晶体谐振器依次顺序进入不同的清洗液中清洗，避免了在两个清洗步骤中需要人工交接的问题；同时清洗桶包括旋转桶和旋转桨，分别带动清洗液按各自不同的方向流动，提高了清洗的效率和清洁的程度；利用吊盘的挂环和放置条的挂钩，使放置条容易拆卸，方便放置或拿取晶体谐振器。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型中吊盘与放置条的连接示意图。

其中：1、支撑杆，2、“十”字支架，3、收缩杆，4、吊盘，5、放置条，6、放置架，7、旋转桨，8、叶片，9、旋转桶，10、挂钩，11、挂环。

具体实施方式

下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一个实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

根据图1所示，本实用新型为一种晶体谐振器清洗装置，包括旋转架、两个清洗桶，旋转架由支撑杆、“十”字支架、收缩杆、吊盘和放置条组成，支撑杆与“十”字支架的中心连接，“十”字支架能够围绕支撑杆旋转，“十”字支架的四个末端连接收缩杆，收缩杆能在竖直方向收缩，收缩杆连接吊盘，吊盘底部的周边设置挂环，放置条设置挂钩，如图2，放置条通过挂钩连接吊盘的挂环，放置条上设置多个放置架，两个清洗桶分别设置在两个相邻的吊盘正下方，清洗桶的横截面不小于吊盘的横截面，清洗桶内部设置旋转桶，旋转桶上设置叶片。清洗桶内部还设置旋转桨，旋转桨设置在清洗桶的底部中央位置，旋转桨、叶片均不与旋转架上的放置条接触。

本实用新型的工作原理如下：

将需要清洗的晶体谐振器放在与相邻两个吊盘连接的放置架上，该放置架下方清洗桶，同时在两个清洗桶内分别放置酸性及碱性清洗液，然后启动晶体谐振器清洗装置。“十”字支架开始旋转，第一个吊盘转至酸性清洗液的清洗桶上方，收缩杆往下伸长将放置条伸到清洗桶内，旋转桶和旋转桨开始旋转，带动清洗液按各自不同的方向流动，对晶体谐振器进行第一次清洗，清洗完毕后，收缩杆往上收缩；“十”字支架再次旋转，第一个吊盘转至碱性清洗液的清洗桶上方，第二个吊盘转至酸性清洗液的清洗桶上方，两个收缩杆均往下伸长将放置条伸到清洗桶内，碱性清洗液对第一个吊盘上的晶体谐振器进行第二次清洗，酸性清洗液对第二个吊盘上的晶体谐振器进行第一次清洗，此时，在第三个吊盘（即与第一吊盘处于相对位置的吊盘）上放置需要清洗的晶体谐振器，当第一、二个吊盘下方的晶体谐振器清洗完毕后，收缩杆往上收缩并再次旋转，第二个吊盘转至碱性清洗液的清洗桶上方，第三个吊盘转至酸性清洗液的清洗桶上方，清洗桶开始进行清洗，此时将第一个吊盘清洗完毕的晶体谐振器取下，并在第四个吊盘（即与第二吊盘处于相对位置的吊盘）上放置需要清洗的晶体谐振器。如此循环，完成流水化的清洗过程，避免了在两个清洗步骤中需要人工交接的问题，并提高了清洗的效率和清洁的程度。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (2)

1.一种晶体谐振器清洗装置，包括旋转架、两个清洗桶，其特征在于：所述旋转架由支撑杆、“十”字支架、收缩杆、吊盘和放置条组成，所述支撑杆与“十”字支架的中心连接，所述“十”字支架能够围绕支撑杆旋转，所述“十”字支架的四个末端连接收缩杆，所述收缩杆能在竖直方向收缩，所述收缩杆连接吊盘，所述吊盘底部的周边连接放置条，所述放置条上设置多个放置架，所述两个清洗桶分别设置在两个相邻的吊盘正下方，所述清洗桶的横截面不小于吊盘的横截面，所述清洗桶内部设置旋转桶，所述旋转桶上设置叶片，所述叶片与旋转架上的放置条不接触，所述清洗桶的底部中央位置设置旋转浆，所述旋转浆与旋转架上的放置条不接触。 

2.根据权利要求1所述的晶体谐振器清洗装置，其特征在于：所述吊盘底部的周边设置挂环，所述放置条设置挂钩，所述放置条通过挂钩连接吊盘的挂环。