CN106238414B

CN106238414B - 一种用于清洗Source的支架

Info

Publication number: CN106238414B
Application number: CN201610611552.5A
Authority: CN
Inventors: 陈志华; 陈蛟; 刘南柳
Original assignee: Sino Nitride Semiconductor Co Ltd
Current assignee: Sino Nitride Semiconductor Co Ltd
Priority date: 2016-07-30
Filing date: 2016-07-30
Publication date: 2019-02-12
Anticipated expiration: 2036-07-30
Also published as: CN106238414A

Abstract

一种用于清洗Source的支架，包括镓舟支撑件、进气管固定件和滑轨，所述镓舟支撑件包括镓舟支撑横梁和与该镓舟支撑横梁连接的镓舟支撑包覆层，所述镓舟支撑横梁安装在滑轨上，所述进气管固定件通过进气管横梁安装在滑轨上。所述镓舟支撑件还包括至少一根镓舟支撑带，该镓舟支撑带上端与镓舟支撑横梁连接、下端与镓舟支撑包覆层连接。本发明实现了Source安全地被固定与支撑，避免安全事故的发生；Source置于清洗剂中的高度可调且能高度保持，更有利于Source的清洗工作。

Description

一种用于清洗Source的支架

技术领域

本发明涉及半导体设备清洗领域，具体涉及一种用于清洗Source的支架。

背景技术

与硅、锗、砷化镓等传统的半导体材料相比，以氮化镓（GaN）为代表的Ⅲ族氮化物半导体材料属于直接带隙、宽禁带半导体材料，非常适合制作短波长的光电器件。氢化物气相外延（HVPE）由于生长速率较快，成为目前制备GaN衬底材料的商用方法之一。在HVPE制备GaN衬底材料的过程中，由于温度、流场等因素，含镓、氮元素的副产物粉末沉积在Source（如附图1所示，该部件为HVPE设备的核心部件，用于盛装镓源、为晶种模板输送各种源材料）的内、外表面。当Source的副产物累积到一定程度后，会严重抑制晶种模板的GaN生长。因此，Source的定期清洗尤为重要。

传统的Source清洗方法是将装有酸性或碱性溶液的烧杯放置在加热台上，同时将Source部分浸泡于加热的酸性或碱性溶液中。由于含镓、氮元素的副产物去除比较困难，浸泡时间达数小时，因此，在Source清洗过程中会存在安全隐患：Source是高精密构件，造价比较昂贵，若Source发生倾倒，致使烧杯内热的酸性或碱性溶液中流出，会发生安全事故；且同时会造成财产损失。

发明内容

为克服现有技术的不足及存在的问题，本发明提供一种用于清洗Source的支架，实现对Source清洗过程的辅助固定与支撑。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种用于清洗Source的支架，其特征在于，包括镓舟支撑件、进气管固定件和滑轨，所述镓舟支撑件包括镓舟支撑横梁和与该镓舟支撑横梁连接的镓舟支撑包覆层，所述镓舟支撑横梁安装在滑轨上，所述进气管固定件通过进气管横梁安装在滑轨上。

所述镓舟支撑件还包括至少一根镓舟支撑带，该镓舟支撑带上端与镓舟支撑横梁连接、下端与镓舟支撑包覆层连接。

所述进气管固定件包括基板和设置在该基板上的进气管固定孔，所述基板上设有中心通孔。

所述镓舟支撑横梁设在进气管横梁的上方，所述镓舟支撑包覆层位于基板的下方，所述镓舟支撑带穿过基板的中心通孔与该基板连接。

所述镓舟支撑横梁固定安装在滑轨上，所述进气管固定件通过进气管横梁固定安装在滑轨上。

所述镓舟支撑横梁活动安装在滑轨上，所述进气管固定件通过进气管横梁活动安装在滑轨上。

所述滑轨固定连接于主支撑杆上，该主支撑杆连接于水平设置的支撑底座上。

所述滑轨固定连接于主支撑杆上，该主支撑杆连接于竖直设置的竖直支撑件上。

所述镓舟支撑带的数量不少于2根，所述镓舟支撑带的长度可自由调节。

本发明提供的一种用于清洗Source的支架，有益效果在于：

1、使Source安全地被固定与支撑，避免安全事故的发生。

2、Source置于清洗剂中的高度可调且能高度保持，更有利于Source的清洗工作。

3、Source清洗工作完成时，Source可以通过滑轨向上提升而与清洗剂分离，可以实现清洗自动化，适用于工业化量产。

附图说明

附图1为HVPE设备中Source结构示意图；

附图2为本发明实施例一中底座式支架工作示意图；

附图3为本发明实施例二中外挂式支架结构示意图；

附图4为本发明中另一种进气管固定件结构示意图。

附图标注说明：

11：Source进气管；111：Source氨气进气管；112：Source氯化氢进气管；12：Source镓舟；13：Source喷口；21：镓舟支撑件；211：镓舟支撑横梁；212：镓舟支撑带；213：镓舟支撑包覆层；22：进气管固定件；221：基板；222：进气管固定孔；23：滑轨；24：主支撑杆；25：支撑底座；26：竖直支撑件；3：烧杯；4：清洗剂。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解，下面结合附图对本发明作进一步的描述。

如图1至图4所示，一种用于清洗Source的支架，包括镓舟支撑件21、进气管固定件22和滑轨23，镓舟支撑件21包括镓舟支撑横梁211和与该镓舟支撑横梁211连接的镓舟支撑包覆层213，镓舟支撑横梁211安装在滑轨23上，进气管固定件22通过进气管横梁安装在滑轨23上。镓舟支撑件21还包括至少一根镓舟支撑带212，该镓舟支撑带212上端与镓舟支撑横梁211连接、下端与镓舟支撑包覆层213连接。进气管固定件22包括基板221和设置在该基板221上的进气管固定孔222，基板221上设有中心通孔。镓舟支撑横梁211设在进气管横梁的上方，镓舟支撑包覆层213位于基板221的下方，镓舟支撑带212穿过基板221的中心通孔与该基板221连接。镓舟支撑横梁211活动安装在滑轨23上，进气管固定件22通过进气管横梁活动安装在滑轨23上。滑轨23固定连接于主支撑杆24上，该主支撑杆24连接于水平设置的支撑底座25上。滑轨23固定连接于主支撑杆24上，该主支撑杆24连接于竖直设置的竖直支撑件26上。镓舟支撑带212的数量不少于2根，镓舟支撑带212的长度可自由调节。镓舟支撑横梁211固定安装在滑轨23上，进气管固定件22通过进气管横梁固定安装在滑轨23上。

如附图1所示，HVPE设备中典型的Source结构，包括Source进气管11、Source镓舟12以及Source喷口13；Source进气管11由Source氨气进气管111和Source氯化氢进气管112组成。当Source使用时间较长时，会在Source喷口13位置沉积副产物。

实施例一：

如附图3所示，将本用于清洗Source的支架，固定在支撑底座25上，同时将盛有清洗剂4的烧杯3放置在支撑底座25上。调节镓舟支撑件21和进气管固定件22的位置，将Source固定在支架上。再调节镓舟支撑件21和进气管固定件22的高度，使得Source喷口13浸泡在清洗剂4中。待Source喷口13壁上的副产物清除干净后，调节镓舟支撑件21和进气管固定件22的位置，取出Source，清洗完毕。

实施例二：

如附图4所示，选取适宜的高度，将本发明的用于清洗Source的支架，固定在竖直支撑件26上，重复实施例一的清洗操作，完成清洗工作。

上述实施例中，所述滑道23，镓舟支撑件21与进气管固定件22可自由在其移动、或固定在移动区域内的任何位置；所述滑道23，镓舟支撑件21与进气管固定件22可手动操作上升与下降，也可以通过电气控制等装置实现自动上升与下降；所述镓舟支撑带212，其长度可自由调节且数量大于一个；所述镓舟支撑包覆层213，其形状与大小根据镓舟的形状与大小而定；所述进气管固定孔222，其圆孔口径大于或等于进气管口径，其圆孔数量大于一个（视Source结构而定，当Source有8个进气管时，其空心圆孔数量也相应变为8，如附图4所示）。

本发明提供的一种用于清洗Source的支架，包括将主支撑杆连接于水平的支撑底座或者竖直设置的竖直支撑件的两种固定方式，本发明采用与Source镓舟配合的镓舟包覆层实现对Source镓舟的保护与固定，同时采用包括进气管固定孔的进气管固定件对进气管部分进行限位保护和支撑，配合与镓舟支撑件连接的镓舟支撑横梁和与进气管固定件连接的进气管横梁在滑轨上滑动，实现Source相对清洗剂的距离变化，使Source安全地被固定与支撑，便于对Source的长时间浸泡清洗，避免Source倾倒而导致安全事故的发生。同时Source置于清洗剂中的高度可调且能高度保持，更有利于Source的清洗工作。Source清洗工作完成时，Source可以通过滑轨向上提升而与清洗剂分离，便于实现清洗自动化，适用于工业化量产。

上述实施例为本发明较佳的实现方案，在不脱离本发明构思的前提下，只是对本发明作出直接的置换或等同的替换，均属于本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种用于清洗Source的支架，其特征在于，包括镓舟支撑件（21）、进气管固定件（22）和滑轨（23），所述镓舟支撑件（21）包括镓舟支撑横梁（211）和与该镓舟支撑横梁（211）连接的镓舟支撑包覆层（213），所述镓舟支撑横梁（211）安装在滑轨（23）上，所述进气管固定件（22）通过进气管横梁安装在滑轨（23）上；

所述镓舟支撑件（21）还包括至少一根镓舟支撑带（212），该镓舟支撑带（212）上端与镓舟支撑横梁（211）连接、下端与镓舟支撑包覆层（213）连接；

所述进气管固定件（22）包括基板（221）和设置在该基板（221）上的进气管固定孔（222），所述基板（221）上设有中心通孔。

2.根据权利要求1所述的用于清洗Source的支架，其特征在于，所述镓舟支撑横梁（211）设在进气管横梁的上方，所述镓舟支撑包覆层（213）位于基板（221）的下方，所述镓舟支撑带（212）穿过基板（221）的中心通孔与该基板（221）连接。

3.根据权利要求2所述的用于清洗Source的支架，其特征在于，所述镓舟支撑横梁（211）固定安装在滑轨（23）上，所述进气管固定件（22）通过进气管横梁固定安装在滑轨（23）上。

4.根据权利要求2所述的用于清洗Source的支架，其特征在于，所述镓舟支撑横梁（211）活动安装在滑轨（23）上，所述进气管固定件（22）通过进气管横梁活动安装在滑轨（23）上。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的用于清洗Source的支架，其特征在于，所述滑轨（23）固定连接于主支撑杆（24）上，该主支撑杆（24）连接于水平设置的支撑底座（25）上。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的用于清洗Source的支架，其特征在于，所述滑轨（23）固定连接于主支撑杆（24）上，该主支撑杆（24）连接于竖直设置的竖直支撑件（26）上。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的用于清洗Source的支架，其特征在于，所述镓舟支撑带（212）的数量不少于2根。