CN203848848U - 一种新型传感器 - Google Patents
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Abstract
为了解决传统传感器在工作时因水垢沉积和结晶带来的传感器异常使基板错误位置信息上传而引起的设备异常停机，本实用新型提出一种新型传感器，包括底座、支架和接触单元，所述底座与支架上设有相互作用的磁感应装置，所述支架一端设有受力后向下运动并触发所述磁感应装置产生信号的接触单元，另一端通过弹性部件与底座连接。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种传感器，尤其涉及一种应用于基板清洗、显影或刻蚀设备上的位置传感器。
背景技术
在传统的基板清洗、显影或刻蚀设备中，需要通过位置传感器来感应基板当时所处的位置，并将该位置信息上传给上位机和下单元，如图1所示为传统的摇摆式位置传感器，凹形底座11固定于清洗、显影或刻蚀设备（未示出）上，摇摆头13通过转轴12安装于底座11上，并可随转轴12发上转动。在底座11和摇摆头13相对应的位置上分别安装有磁感应器14和磁铁15。由于摇摆头13的高度高于底座11，当基板10在底座11的上平面上传送时，将触碰到摇摆头13，并带动摇摆头13发生转动，从而使磁铁15发生位移，磁感应器14 将该位移信息反馈给控制中心并得到基板10的位置信息。
这种传统的摇摆式位移传感器在运行一段时间后会沉积水垢或结晶，致使摇摆头工作时不能正常复位，从而将错误的基板位置信息上传给上位机和下单元，这样就会导致设备异常停机，需要采用人力将有水垢和结晶的摇摆式位移传感器清洁，并将设备内部的基板手动或半自动传出重新清洗，既影响设备的稼动率，又增加了生产成本。
实用新型内容
为了解决上述问题，本实用新型提出一种新型传感器，包括底座、支架和接触单元，所述底座与支架上设有相互作用的磁感应装置，所述支架一端设有受力后向下运动并触发所述磁感应装置产生信号的接触单元，另一端通过弹性部件与底座连接。
特别地，所述支架设有磁铁，所述底座在与磁铁相对应的位置上设有磁感应器。
特别地，所述支架设有磁感应器，所述底座在与磁感应器相对应的位置上设有磁铁。
特别地，所述支架设有磁铁，所述底座在与磁铁相对应的位置上设有线圈。
特别地，所述支架设有线圈，所述底座在与线圈相对应的位置上设有磁铁。
特别地，所述接触单元为球形或圆柱形，所述接触单元可滚动或不可滚动。
特别地，所述接触单元的接触面为弧形或斜面。
特别地，所述弹性部件为卡簧。
特别地，所述接触单元为弧形或斜面。有益效果：本实用新型的位置传感器解决了传统传感器在工作时因水垢沉积和结晶带来的传感器异常使基板错误位置信息上传而引起的设备异常停机，从而提升设备的稼动率，降低生产成本。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
附图说明
图1 为传统的位置传感器结构示意图。
图2为实施例一的传感器结构示意图。
图3为实施例二的传感器结构示意图。
图4为实施例三的传感器结构示意图。
图5为实施例四的传感器结构示意图。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
实施例一
如图2所示，本实施例的传感器包括底座21和支架22，支架22的一端设有接触单元23，另一端通过弹性部件24连接底座21。在底座21与支架22之间设有磁感应装置，包括在支架22的末端设置的磁铁251，以及在底座21上与磁铁251相对应的位置上设置的磁感应器252。
当基板20进入清洗、显影或刻蚀单元时，基板20压动接触单元23向下运动，从而带动磁铁251移动，磁感应器252感应磁铁251变化产生信号，通过检测该信号可以得到基板20的位置。
特别地，本实施例的弹性部件24为卡簧，其作用为复位。
本实施例的接触单元23为球形，但并不局限于此，也可以为圆柱形、弧形或斜面，只要可以使接触单元23在受力后向下运动即可。
本实施例的接触单元23在受力时会发生滚动，使得基板20与接触单元23触碰时有一个缓冲，可以更好地保护基板20。当然，当接触单元23为球形或圆柱形时，即使受力后不会滚动也并不影响传感器的工作。
作为本实施例的另一种实现方式，也可以将磁铁251设于支架22的末端，而将磁感应器252设在底座21与磁铁251相对应的位置上。
实施例二
如图3所示，本实施例的传感器包括底座31和支架32，在底座31与支架32之间设有磁感应装置，包括在支架32的末端设置的磁铁351，以及在底座31上与磁铁351相对应的位置上设置的线圈352。支架32的一端设有接触单元33，另一端的磁铁351通过弹性部件34连接底座32。
当基板30进入清洗、显影或刻蚀单元时，基板30压动接触单元33向下运动，磁铁351与线圈352相对运动，根据电磁感应原理，产生感应电流，通过检测电流变化就可以感知基板30的位置。
特别地，本实施例的弹性部件34为卡簧，其作用为复位。
本实施例的接触单元33为球形，但并不局限于此，也可以为圆柱形、弧形或斜面，只要可以使接触单元33在受力后向下运动即可。
本实施例的接触单元33在受力时会发生滚动，使得基板30与接触单元33触碰时有一个缓冲，可以更好地保护基板30。当然，当接触单元33为球形或圆柱形时，即使受力后不会滚动也并不影响传感器的工作。
实施例三
如图4所示，本实施例的传感器包括底座41和支架42，在底座31与支架32之间设有磁感应装置，包括在支架42的末端设置的线圈452，以及在底座31上与线圈452相对应的位置上设置的磁铁451。支架42的一端设有接触单元43，另一端通过弹性部件44连接底座42。
当基板40进入清洗、显影或刻蚀单元时，基板40压动接触单元43向下运动，磁铁451与线圈452相对运动，根据电磁感应原理，产生感应电流，通过检测电流变化就可以感知基板40的位置。
特别地，本实施例的弹性部件44为卡簧，其作用为复位。
本实施例的接触单元43为球形，但并不局限于此，也可以为圆柱形、弧形或斜面，只要可以使接触单元43在受力后向下运动即可。
本实施例的接触单元43在受力时会发生滚动，使得基板40与接触单元43触碰时有一个缓冲，可以更好地保护基板40。当然，当接触单元43为球形或圆柱形时，即使受力后不会滚动也并不影响传感器的工作。
实施例四
如图5所示，本实施例的传感器包括底座51和支架52，支架52为杠杆，其一端（A 端）作为杠杆支点通过弹性部件54与底座51连接，另一端（B端）设置有接触单元53。在底座51和支架52之间设有磁感应装置，包括设在支架51A端的磁铁551，以及在底座52上与磁铁551相对应的位置上设置的磁感应器552。
当基板50进入清洗、显影或刻蚀单元时，基板50压动接触单元53向下运动，从而使支架52的B端向下运动，并带动磁铁551发生位移，磁感应器552感应磁铁551变化产生信号，通过检测该信号可以得到基板50的位置。
特别地，本实施例的弹性部件54为卡簧，其作用为复位。
由于弹性部件54的形变量一般较小，因此支架52的垂直截面一般设计为三角形，使A端较薄，B端较厚，既能保证接触单元53可以受到基板50的压力作用，又能满足弹性部件54的形变量。
磁感应装置的实现方式可以由多种，本实施例是通过设置在支架51的A端的磁铁551，以及设置在底座52上与磁铁551相对应的位置上的磁感应器552实现，但也可以在支架A端设置磁感应器并在底座与磁感应器相对应位置上设置磁铁实现；或者在支架A端设置磁铁并在底座与磁铁相对应位置上设置线圈；或者在支架A端设置线圈并在底座与线圈相对应位置上设置磁铁。
本实施例的接触单元53为球形，但并不局限于此，也可以为圆柱形、弧形或斜面，只要可以使接触单元53在受力后向下运动即可。
本实施例的接触单元53在受力时会发生滚动，使得基板50与接触单元53触碰时有一个缓冲，可以更好地保护基板50。当然，当接触单元53为球形或圆柱形时，即使受力后不会滚动也并不影响传感器的工作。
以上所述四个实施例的传感器都可以解决传统传感器在工作时因水垢沉积和结晶带来的传感器异常使基板错误位置信息上传而引起的设备异常停机，从而提升设备的稼动率，降低生产成本。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
Claims (9)
1.一种新型传感器，包括底座，其特征在于，还包括支架和接触单元，所述底座与支架上设有相互作用的磁感应装置，所述支架一端设有受力后向下运动并触发所述磁感应装置产生信号的接触单元，另一端通过弹性部件与底座连接。
2.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述支架设有磁铁，所述底座在与磁铁相对应的位置上设有磁感应器。
3.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述支架设有磁感应器，所述底座在与磁感应器相对应的位置上设有磁铁。
4.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述支架设有磁铁，所述底座在与磁铁相对应的位置上设有线圈。
5.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述支架设有线圈，所述底座在与线圈相对应的位置上设有磁铁。
6.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述接触单元为球形或圆柱形。
7.根据权利要求6所述的传感器，其特征在于，所述接触单元可滚动或不可滚动。
8.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述接触单元的接触面为弧形或斜面。
9.据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述弹性部件为卡簧。
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|---|---|---|---|---|
| CN105527735A (zh) * | 2016-02-03 | 2016-04-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板检测设备及其工作方法 |
| CN109773290A (zh) * | 2019-02-21 | 2019-05-21 | 清华大学 | 微球电接触反馈的绝缘材料工件表面对准系统及方法 |
| TWI760590B (zh) * | 2019-01-18 | 2022-04-11 | 友達光電股份有限公司 | 傳輸系統及其監控方法 |
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