CN203790269U - 一种自适应按摩头 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。本实用新型的复数个按摩头借助辐射支架活动定位在基座上，作用于不平的人体曲面时，能自适应调节各按摩头的角度，形成此起彼伏效应，使得各按摩头均能抵达在人体上，波及下凹曲面，也能减轻人体凸出部的受力，按摩更和缓和富有效率，增添不同的按摩体验。

Description

一种自适应按摩头

技术领域：

本实用新型属于按摩设备领域，特别涉及一种自适应按摩头。

背景技术：

现有按摩器领域，采用电机驱动并配合蜗轮箱减速的方案，运用相当广泛，其特点是整体性好，只需一级减速即可满足按摩头动作之需。但按摩头的按摩范围相当有限，而且摩轨迹几乎都在一个平面上，做圆周运动，按摩头虽然设计成高低不同，也只能实现起伏变化的推拿效果，按摩总体感觉较为生硬；即使有许多按摩头采用弹簧式支撑柱，用来改善，但均未能达到良好的预期。如何改良现有按摩头结构，使其具有自适应功能，即成为本发明研究的对象。

发明内容：

本实用新型的目的是设计一种按摩头采辐射支架的悬臂上，再借助辐射支架活动定位在基座上的自适应按摩头。

本实用新型技术方案是这样实现的：一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。

所述辐射支架中心位置设有中心球头，所述基座和基座盖之间成型有容纳所述中心球头的球形空腔，由球形空腔支撑所述辐射支架的中心球头。

所述辐射支架的悬臂端成圆轴结构，所述按摩头为直接活动定位在圆轴上的滚轮。

本实用新型的复数个按摩头借助辐射支架活动定位在基座上，作用于不平的人体曲面时，能自适应调节各按摩头的角度，形成此起彼伏效应，使得各按摩头均能抵达在人体上，波及下凹曲面，也能减轻人体凸出部的受力，按摩更和缓和富有效率，增添不同的按摩体验。

附图说明：

下面结合具体图例对本实用新型做进一步说明：

图1自适应按摩头立体示意图

图2自适应按摩头立体分解示意图

其中

1—基座           11—基座盖        12—球形空腔      13—长槽

2—辐射支架       21—悬臂          22—中心球头      3—按摩头

具体实施方式：

参照图1和图2，自适应按摩头，包括基座1、辐射支架2和按摩头3；基座1能定位在输出轴上，由电机驱动旋转；基座1上配设有一基座盖11，基座1与基座盖11配合，也即通过螺栓锁固的方式，将辐射支架2活动定位在其中，该辐射支架2从中心往外伸展有两根以上的悬臂21，复数根悬臂21成辐射状均匀分布，更具体地说，在辐射支架2中心位置还设有中心球头22，可提高辐射支架2活动的灵活性，也减少磨损；为此，基座1和基座盖11之间成型有容纳中心球头22的球形空腔12，由球形空腔12支撑辐射支架的中心球头22，形成万向球结构；所述基座盖11与基座1接触部间，设有供辐射支架悬臂21伸出和上下活动的长槽13；按摩头3定位在伸出基座1外的悬臂21上；进一步所述辐射支架2的悬臂21端成圆轴结构，按摩头3为直接活动定位在圆轴上的滚轮，随着旋转可在人体表面形成滚压式按摩。

上述实例为优选方案，辐射支架2依然可采用悬臂21的自然连接点，形成中心位置而获得基座1的支撑；另外，辐射支架2悬臂21的端部也可直接成型有按摩头3或者固定有按摩头3，虽然不能产生滚压动作，但复数个按摩头3之间依然可产生跷板动作，自适应人体曲面。

Claims (3)

1.一种自适应按摩头，包括定位在输出轴上的基座和按摩头，其特征是基座上活动定位有一辐射支架，该辐射支架从中心往外伸展有两根以上的悬臂，复数根悬臂成辐射状均匀分布；所述辐射支架被一基座盖盖合在基座上，形成活动定位；所述基座盖与基座接触部间，设有供辐射支架悬臂伸出和上下活动的长槽，在伸出基座外的悬臂上定位有按摩头。

2.根据权利要求1所述的一种自适应按摩头，其特征是辐射支架中心位置设有中心球头，所述基座和基座盖之间成型有容纳所述中心球头的球形空腔，由球形空腔支撑所述辐射支架的中心球头。

3.根据权利要求1或2所述的一种自适应按摩头，其特征是辐射支架的悬臂端成圆轴结构，所述按摩头为直接活动定位在圆轴上的滚轮。