CN203751884U - 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 - Google Patents
一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN203751884U CN203751884U CN201420035071.0U CN201420035071U CN203751884U CN 203751884 U CN203751884 U CN 203751884U CN 201420035071 U CN201420035071 U CN 201420035071U CN 203751884 U CN203751884 U CN 203751884U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate surface
- glass substrate
- basin
- rotating mechanism
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，包括机床、外水盆、内水盆、沥青盘、配套抛光粉、转动机构、传动机构、磨盘、感温器、控制装置、控温器、抛光盘、定时器，所述的控温器、定时器和外水盆的盆体固定在机床内，内水盆旋转设置于外水盆内，沥青盘固定设于内水盆底部，转动机构可转动地设置在机床上，传动机构设置于转动机构上，磨盘设置于传动机构所连接的转动杆上。本实用新型抛光精度高、质量稳定、操作方便，且带有抛光粉加料装置，自动感温系统可实现自动冷水降温，减少了人力、物力，本实用新型可以将生物芯片基片表面粗糙度控制在0.3nm以下，尤其适用于表面光滑度要求相当高的产品。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种玻璃表面抛光设备，具体涉及一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备。
背景技术
在诊断用生物芯片基片的制作过程中，需对其空白玻片基片进行表面预处理，基片表面的光滑度及精细度对生物芯片基片官能团的修饰密度有很大的影响，所以在诊断用生物芯片基片被修饰前需把基片表面的光滑度、精细度抛光到达到要求为止。
实用新型内容
实用新型目的：本实用新型的目的是为了弥补现有技术的不足，提供了一种使用方便、省力、环保，能够提高玻璃表面光滑度的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备。
技术方案：一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，包括机床、外水盆、内水盆、沥青盘、配套抛光粉、转动机构、传动机构、磨盘、感温器、控制装置、控温器、抛光盘、定时器，所述的控温器、定时器和外水盆的盆体固定在机床内，内水盆旋转设置于外水盆内，沥青盘固定设于内水盆底部，转动机构可转动地设置在机床上，传动机构设置于转动机构上，磨盘设置于传动机构上。
作为优选，还包括控制装置，所述的控制装置与转动机构及传动机构电连接。
作为优选，所述内水盆与沥青盘之间同轴连接。
作为优选，所述转动机构含转动部件以及电机驱动器，所述电机驱动器与控制装置电连接，用以驱动传动机构。
作为优选，所述转动机构和传动机构间以一固定柱连接，同时可连接磨盘。
作为优选，所述抛光装置还设有抛光盘，所述的抛光盘与磨盘紧密接触。
作为优选，还包括设置于外水盆与内水盆之间的控温器，所述控温器与控制装置电连接。
有益效果：本实用新型抛光精度高、质量稳定、操作方便，且带有抛光粉加料装置，自动感温系统可实现自动冷水降温，减少了人力、物力，本实用新型可以将生物芯片基片表面粗糙度控制在0.3nm以下，尤其适用于表面光滑度要求相当高的产品。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1，一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，包括机床1、外水盆2、内水盆3、沥青盘4、配套抛光液5、转动机构6、传动机构7、磨盘8、感温器9、控制装置10、控温器11、抛光盘12、定时器13，所述的控温器11、定时器13和外水盆2的盆体固定在机床1内，内水盆3旋转设置于外水盆2内，外水盆2底部设有用于支撑内水盆的支柱15，外水盆2和内水盆3之间设有信号线18，用于连接到控制系统，用来传递信号。内水盆3侧壁还设有水位感测点17，用于检测水位；沥青盘4固定设于内水盆3底部，转动机构6可转动地设置在机床1上，传动机构7设置于转动机构6上，磨盘8设置于传动机构7所连接的转动杆16上，还包括控制装置10，所述的控制装置10与转动机构6及传动机构7电连接。内水盆3与沥青盘4之间同轴连接。转动机构6含转动部件以及电机驱动器14，所述电机驱动器14与控制装置10电连接，用以驱动传动机构7，转动机构6和传动机构7间以一固定柱连接，同时可连接磨盘8，抛光装置还设有抛光盘12，抛光盘12与磨盘8紧密接触，还包括设置于外水盆2与内水盆3之间的控温器11和感温器9，控温器11和感温器9与控制装置10电连接。
在使用之前应检查仪器的各个部位，检查正常后，方可使用。将抛光粉通过顶部的抛光粉加料口19加入内水盆3中，然后将待磨玻璃固定在磨盘8上，磨盘8则连接在转动机构上，磨盘8浸没与抛光液5中，同时与抛光盘12紧密接触，然后根据所需要的精度，再作一次精密细致的调节。工件除自身旋转外，还在沥青盘4上水平摆动。这样就保证了工件上每点与抛光盘12上每点随机接触，从而实现工件材料的均匀去除。抛光开始时，通过搅拌方法，让磨料在溶液中均匀分布，这样使得不断有磨料颗粒沉淀在沥青盘4上形成微小的刀刃，对工件进行切削。同时，磨料的自锐性使得抛光过程中不断有锋利边缘露出，进行磨削加工，但粒度变小了。经过一段时间的加工，工件与沥青盘已能很好地吻合，磨料粒度已足够小；此时不再进行搅动，使抛光液中磨料沉人桶底．不再有磨料颗粒沉淀在沥青盘4上，沥青盘4上的磨料逐渐减少。由于抛光中磨料颗粒不断被研碎挤入沥青中，沥青盘4表面变得越来越光滑，磨料微粒变得越来越小，使得加工表面粗糙度降低。另外，工作时大量液体的存在保证了磨柱表面局部温度的恒定，使磨盘不易发生热变形，保证了高面形精度表面的可能性,且最后生物芯片用玻璃基片表面的粗糙度达到0.3 nm以下。
本实用新型通过磨盘与工件的交接面同时都浸在抛光液中摩擦的方法而达到抛光效果。工作时，工件除自身旋转外，还在沥青盘4上水平摆动。抛光开始时，通过搅拌方法，让磨料在溶液中均匀分布，这样使得不断有磨料颗粒沉淀在沥青盘4上形成微小的刀刃，对工件进行切削，价格一段时间后，沥青4盘表面变得越来越光滑，磨料微粒越来越小，加工表面粗糙度降低，最终达到该产品需要的高面形精度表面。
Claims (7)
1.一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于：包括机床(1)、外水盆(2)、内水盆(3)、沥青盘(4)、配套抛光液(5)、转动机构(6)、传动机构(7)、磨盘(8)、感温器(9)、控制装置(10)、控温器(11)、抛光盘(12)、定时器(13)，所述的控温器(11)、定时器(13)和外水盆(2)的盆体固定在机床(1)内，内水盆(3)旋转设置于外水盆(2)内，沥青盘(4)固定设于内水盆(3)底部，转动机构(6)可转动地设置在机床(1)上，传动机构(7)设置于转动机构(6)上，磨盘(8)设置于传动机构(7)所连接的转动杆(16)上。
2.如权利要求1所述的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于：还包括控制装置(10)，所述的控制装置(10)与转动机构(6)及传动机构(7)电连接。
3.根据权利要求1所述的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于：所述内水盆(3)与沥青盘(4)之间同轴连接。
4.根据权利要求2所述的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于，所述转动机构(6)含转动部件以及电机驱动器(14)，所述电机驱动器(14)与控制装置(10)电连接，用以驱动传动机构(7)。
5.根据权利要求3所述的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于：所述转动机构(6)和传动机构(7)间以一固定柱连接，同时可连接磨盘(8)。
6.根据权利要求1所述的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于：所述的抛光盘(12)与磨盘(8)紧密接触。
7.根据权利要求1所述的生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备，其特征在于：还包括设置于外水盆(2)与内水盆(3)之间的控温器(11)和感温器(9)，所述控温器(11)和感温器(9)与控制装置(10)电连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420035071.0U CN203751884U (zh) | 2014-01-21 | 2014-01-21 | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420035071.0U CN203751884U (zh) | 2014-01-21 | 2014-01-21 | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203751884U true CN203751884U (zh) | 2014-08-06 |
Family
ID=51247194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201420035071.0U Expired - Fee Related CN203751884U (zh) | 2014-01-21 | 2014-01-21 | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203751884U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103722465A (zh) * | 2014-01-21 | 2014-04-16 | 南通天盛新能源科技有限公司 | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 |
| CN104385079A (zh) * | 2014-10-16 | 2015-03-04 | 中山市吉尔科研技术服务有限公司 | 一种增压式光学镜片抛光设备 |
| CN111993258A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-27 | 广东长盈精密技术有限公司 | 抛光治具、抛光装置和手机中框的抛光方法 |
-
2014
- 2014-01-21 CN CN201420035071.0U patent/CN203751884U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103722465A (zh) * | 2014-01-21 | 2014-04-16 | 南通天盛新能源科技有限公司 | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 |
| CN104385079A (zh) * | 2014-10-16 | 2015-03-04 | 中山市吉尔科研技术服务有限公司 | 一种增压式光学镜片抛光设备 |
| CN111993258A (zh) * | 2020-08-19 | 2020-11-27 | 广东长盈精密技术有限公司 | 抛光治具、抛光装置和手机中框的抛光方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN203751884U (zh) | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 | |
| CN106466802B (zh) | 基于非牛顿流体的抛光系统及其抛光方法 | |
| Singh et al. | Nanofinishing of fused silica glass using ball-end magnetorheological finishing tool | |
| WO2007131094A3 (en) | Method and apparatus for chemical mechanical polishing of large size wafer with capability of polishing individual die | |
| CN103909456B (zh) | 数控宝石磨抛一体机 | |
| EP2865489B1 (en) | Observation and photography apparatus | |
| CN107077865B (zh) | 磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
| CN104057370B (zh) | 一种高精度数控圆柱滚子精磨超精一体机床 | |
| CN204504978U (zh) | 一种电极自动打磨装置 | |
| TW201708627A (zh) | 基於非牛頓流體的拋光系統及其拋光方法 | |
| CN205310022U (zh) | 双面研磨机高精密测厚装置 | |
| CN206216467U (zh) | 一种光学零件平面研磨装置 | |
| CN103722465A (zh) | 一种生物芯片用玻璃基片表面浴法抛光设备 | |
| CN103692294B (zh) | 米量级光学元件的超高精度加工方法 | |
| CN103846783A (zh) | 一种螺旋形研磨抛光盘 | |
| CN102854077B (zh) | 光学玻璃磨耗度测试装置 | |
| CN204523268U (zh) | 金刚石微粉颗粒多级分级机的混料塔 | |
| CN114184160B (zh) | 一种彩钢板的生产检测方法 | |
| CN111070024A (zh) | 一种h30立式精密球面加工装置及操作方法 | |
| CN204771885U (zh) | 多穴式自动定位微调的防氧化磨床 | |
| CN205656112U (zh) | 一种单颗磨粒干涉行为测试设备 | |
| JP2006222467A5 (zh) | ||
| CN203751935U (zh) | 一种螺旋形研磨抛光盘 | |
| CN103252724A (zh) | 环形抛光自动滴加抛光液装置 | |
| CN109434200B (zh) | 一种用于打磨钛合金铸件圆孔腔的二维误差补偿装置及方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20151106 Address after: 226000 Huaxing Road 2, Nantong Development Zone, Jiangsu, Nantong Patentee after: NANTONG TIANSHENG NEW ENERGY TECHNOLOGY Co.,Ltd. Address before: 226009 Jiangsu Province Economic and Technological Development Zone, Nantong City Hongxing Road No. 96 Patentee before: T-SUN TECHNOLOGICAL Co.,Ltd. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 226000 Huaxing Road 2, Nantong Development Zone, Jiangsu, Nantong Patentee after: NANTONG MEVID EXPERIMENTAL EQUIPMENT CO.,LTD. Address before: 226000 Huaxing Road 2, Nantong Development Zone, Jiangsu, Nantong Patentee before: NANTONG TIANSHENG NEW ENERGY TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20140806 Termination date: 20220121 |