CN203559126U - 一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构 - Google Patents
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- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 15
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 59
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构,该结构能够满足多种气体同时、独立及均匀沉积的需求。它包括喷淋头主体、配气块、挡板、盖板、隔板7,上述隔板将喷淋结构主体从垂直方向上分成C区及D区两个区间,主体及档板的中间有独立区域将整体又分成了A区及B区两个平面分区,主体上设有横向沟槽及纵向沟槽的纵横交错的沟槽,上述横向沟槽及纵向沟槽的空隙凸台上钻有贯通孔,沟槽内均匀布置半通孔,上述配气块上制有气体A进口、气体B进口及气体C进口,上述主体的底部设有气体A出口、气体B出口及气体C出口。本实用新型较好地解决了气体在进入腔室之前已进行接触,不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。并可在其上安装加热或冷却构件,以满足更严苛的工艺条件要求。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种新型的喷淋结构,通过立体分区方式,来实现三种及三种以上气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应,属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域。
背景技术
半导体镀膜设备在进行沉积反应时,一般需要一种或两种气体,有时需要三种(或三种以上)气体同时进入腔室进行薄膜沉积,要求几种气体路径相互独立,在进入腔体前不能相遇,进入腔室后需均匀扩散到基底表面。而现有的喷淋方法大都是针对单独的气体路径设计,或是最多有两种气体路径,并且大多结构都只是在气体进口处进行分离,在进入腔室之前已进行接触、使沉积反应提前进行,即不易于控制沉积的时间及反应条件也浪费了宝贵的不可再生的特气资源。当需要三种及三种以上气体时,之前的喷淋结构已不能满足要求。针对要求多种(三种及三种以上)气体同时、独立、均匀的苛刻要求,本实用新型应运而生。
发明内容
本实用新型以解决上述问题为目的,提供一种能够满足多种(三种及三种以上)气体同时、独立、均匀沉积的喷淋新结构。
为实现上述目的,本实用新型采用下述技术方案:一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构,采用立体分区方式,隔离不同的气体路径。气体分别从各自独立的气体进口进入,通过各自独立的通道,到达各自分区,并从各自的分区到达腔室。彼此独立结构使不同气体不会提前相遇或反应。通过规划不同的分区结构及分区形式,能满足多种气体的分布,使气体能均匀、快速的扩散在腔室内,并在基板上进行沉积反应。具体结构:它包括喷淋头主体、配气块、挡板、盖板、隔板7。上述隔板将喷淋结构主体从垂直方向上分成C区及D区两个区间,主体及档板的中间有独立区域将整体又分成了A区及B区两个平面分区。主体上设有横向沟槽及纵向沟槽的纵横交错的沟槽。上述横向沟槽及纵向沟槽的空隙凸台上钻有贯通孔,沟槽内均匀布置半通孔。上述配气块上制有气体A进口、气体B进口及气体C进口。上述主体的底部设有气体A出口、气体B出口及气体C出口。
本实用新型的有益效果及特点:
本实用新型通过规划不同的分区结构及分区形式,隔离不同的气体路径,来实现三种及三种以上气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应,较好地解决了气体在进入腔室之前已进行接触,不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。并可在其上安装加热或冷却构件,以满足更严苛的工艺条件要求。具有结构合理及易于推广的特点。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是图1中A-A向剖视图。
图中零件标号分别代表:
1、气体A进口;2、气体B进口;3、气体C进口;4、配气块;5、挡板;6、盖板;7、隔板;8、主体;9、气体A出口;10、气体B出口;11、气体C出口;12、A区;13、B区;14、C区;15、D区;16、横向沟槽;17、纵向沟槽;18、凸台;19、半通孔。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
具体实施方式
实施例
如图1,2所示,一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构,包括喷淋头主体8、配气块4、挡板5、盖板6、隔板7。上述隔板7将喷淋结构主体8从垂直方向上分成C区14及D区15两个区间,主体8及档板5的中间有独立区域将整体又分成了A区12及B区13两个平面分区,主体8上设有横向沟槽16及纵向沟槽17的纵横交错的沟槽,上述横向沟槽16及纵向沟槽17的空隙凸台18上钻有贯通孔,沟槽内均匀布置半通孔19。上述配气块4上制有气体A进口1、气体B进口2及气体C进口3。上述主体8的底部设有气体A出口9、气体B出口10及气体C出口11。
工作时,气体A从配气块4右方的气体A进口1进入,穿过隔板7进入C区14,通过主体8纵横沟槽上的半通孔进入腔室。气体B从配气块4中间的气体B进口2进入,穿过挡板5通过A区12及B区13,然后从B区13内通孔进入腔室。气体C从配气块4左方的气体C进口3进入,经过挡板5扩散,通过隔板5及凸台上的贯通孔进入腔室。
Claims (1)
1.一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构,其特征在于:它包括喷淋头主体、配气块、挡板、盖板、隔板,上述隔板将喷淋结构主体从垂直方向上分成C区及D区两个区间,主体及档板的中间有独立区域将整体又分成了A区及B区两个平面分区,主体上设有横向沟槽及纵向沟槽的纵横交错的沟槽,上述横向沟槽及纵向沟槽的空隙凸台上钻有贯通孔,沟槽内均匀布置半通孔,上述配气块上制有气体A进口、气体B进口及气体C进口,上述主体的底部设有气体A出口、气体B出口及气体C出口。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201320685738.7U CN203559126U (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201320685738.7U CN203559126U (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN203559126U true CN203559126U (zh) | 2014-04-23 |
Family
ID=50508857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201320685738.7U Expired - Lifetime CN203559126U (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN203559126U (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104178749A (zh) * | 2014-07-30 | 2014-12-03 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 两种气体隔离式中部均匀分气喷淋装置 |
CN105132889A (zh) * | 2015-09-14 | 2015-12-09 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 应用于薄膜沉积装置喷淋头中的双气路中心进气结构 |
CN107523806A (zh) * | 2014-09-08 | 2017-12-29 | 应用材料公司 | 蜂巢式多区域气体分配板 |
-
2013
- 2013-10-31 CN CN201320685738.7U patent/CN203559126U/zh not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CP03 | Change of name, title or address | ||
CP03 | Change of name, title or address |
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|
CX01 | Expiry of patent term | ||
CX01 | Expiry of patent term |
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