CN203559124U - 一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构 - Google Patents
一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN203559124U CN203559124U CN201320683055.8U CN201320683055U CN203559124U CN 203559124 U CN203559124 U CN 203559124U CN 201320683055 U CN201320683055 U CN 201320683055U CN 203559124 U CN203559124 U CN 203559124U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- gas
- cover plate
- spray structure
- main body
- import
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 17
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 53
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构，该结构针对现有技术由于设计不够合理，气体在进入腔室之前已进行接触，不易于控制沉积时间的技术问题。它包括喷淋头主体、隔板、挡板、盖板、内圈配气环盖板、外圈配气环盖板。上述主体上设有横向沟槽及纵向沟槽，横向沟槽及纵向沟槽间形成凸台，凸台上制有贯通孔，上述横向沟槽及纵向沟槽上制有半通孔。上述主体的上部设有盖板；下部腔体内设有隔板，隔板将喷淋结构整体分隔为上层空间及下层空间两个独立的空间。本实用新型属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域，具有结构合理、气体反应效果好及节约生产成本的特点。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种新型的喷淋结构，特别是一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构。该结构通过立体分区方式，来满足三种及三种以上气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应，属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域。
背景技术
半导体镀膜设备在进行沉积反应时，一般需要一种或两种气体，有时需要三种（或三种以上）气体同时进入腔室进行薄膜沉积，要求几种气体路径相互独立，在进入腔体前不能相遇，进入腔室后需均匀扩散到基底表面。而现有的喷淋结构大都是针对单独的气体路径设计，或是最多有两种气体路径，并且大多结构都只是在气体进口处进行分离，在进入腔室之前已进行接触、使沉积反应提前进行，即不易于控制沉积的时间及反应条件也浪费了宝贵的不可再生的特气资源。当需要三种及三种以上气体时，之前的喷淋结构已不能满足要求。
发明内容
本实用新型以解决上述问题为目的，针对现有的喷淋结构由于设计不够合理，气体在进入腔室之前已进行接触，不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。
为实现上述目的，本实用新型采用下述技术方案：一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构，采用立体分区方式，隔离不同的气体路径。气体分别从各自独立的气体进口进入，通过各自独立的通道，到达各自分区，并从各自的分区到达腔室。彼此独立结构使不同气体不会提前相遇或反应。具体结构：它包括喷淋头主体、隔板、挡板、盖板、内圈配气环盖板、外圈配气环盖板。上述主体上设有横向沟槽及纵向沟槽，横向沟槽及纵向沟槽间形成凸台，凸台上制有贯通孔，上述横向沟槽及纵向沟槽上制有半通孔。上述主体的上部设有盖板；下部腔体内设有隔板，隔板将喷淋结构整体分隔为上层空间及下层空间两个独立的空间。上述隔板上的导气柱分别与盖板上的外圈配气环盖板、内圈配气环盖板、气体B进口及气体C进口相通。上述盖板上设有气体A进口，气体A进口下设挡板。上述喷淋头主体上设有气体C出口、气体B出口及气体A出口。
本实用新型的有益效果及特点：
本实用新型通过规划不同的分区结构及分区形式，能满足多种气体（三种及三种以上）的分布，使气体能均匀、独立、快速的扩散在腔室内，并在基板上进行沉积反应。并可在其上安装加热或冷却构件，以满足更严苛的工艺条件要求。具有结构合理、气体反应效果好及节约生产成本的特点。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图
图2是图1的A-A向剖视图
图中零件标号分别代表:
1、上层空间；2、外圈配气环盖板；3、内圈配气环盖板；4、气体A进口；5、气体B进口；6、挡板；7、气体C进口；8、盖板；9、隔板；10、主体；11、气体C出口；12、气体B出口；13、气体A出口；14、下层空间；15、横向沟槽；16、纵向沟槽；17、凸台。
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。
具体实施方式
实施例
如图1和图2所示，一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构，包括喷淋头主体10、隔板9、挡板6、盖板8、内圈配气环盖板3、外圈配气环盖板2。
上述主体10上设有横向沟槽15及纵向沟槽16，横向沟槽15及纵向沟槽16间形成凸台17，凸台17上制有贯通孔，上述横向沟槽15及纵向沟槽16上制有半通孔。
上述主体10的上部设有盖板8；下部腔体内设有隔板9，隔板9将喷淋结构整体分隔为上层空间1及下层空间14两个独立的空间。上述隔板9上的导气柱分别与盖板8上的外圈配气环盖板2、内圈配气环盖板3、气体B进口5及气体C进口7相通。上述盖板8上设有气体A进口4，气体A进口4下设挡板6。上述喷淋头主体10上设有气体C出口11、气体B出口12及气体A出口13。
工作时，气体A从气体A进口4进入上层空间1，经过挡板6扩散，通过隔板9及主体凸台17上的贯通孔由气体A出口13进入腔室。气体B通过内圈配气环盖板3内的配气沟槽及其导气柱，穿过隔板9进入下层空间14，然后在喷淋头主体10上的纵向沟槽16及横向沟槽15均匀扩散，通过沟槽内的半通孔由气体B出口12进入腔室。气体C通过气体C进口7穿过上层空间1及下层空间14，由气体C出口11直接进入腔室。
Claims (1)
1.一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构，其特征在于：它包括喷淋头主体、隔板、挡板、盖板、内圈配气环盖板、外圈配气环盖板，上述主体上设有横向沟槽及纵向沟槽，横向沟槽及纵向沟槽间形成凸台，凸台上制有贯通孔，上述横向沟槽及纵向沟槽上制有半通孔，上述主体的上部设有盖板；下部腔体内设有隔板，隔板将喷淋结构整体分隔为上层空间及下层空间两个独立的空间，上述隔板上的导气柱分别与盖板上的外圈配气环盖板、内圈配气环盖板、气体B进口及气体C进口相通，上述盖板上设有气体A进口，气体A进口下设挡板，上述喷淋头主体上设有气体C出口、气体B出口及气体A出口。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201320683055.8U CN203559124U (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201320683055.8U CN203559124U (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203559124U true CN203559124U (zh) | 2014-04-23 |
Family
ID=50508855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201320683055.8U Expired - Lifetime CN203559124U (zh) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203559124U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104195525A (zh) * | 2014-08-15 | 2014-12-10 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 两种气体独立均匀喷气喷淋装置 |
| CN111519161A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-08-11 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种真空镀膜工艺腔及具有其的真空悬浮镀膜机 |
-
2013
- 2013-10-31 CN CN201320683055.8U patent/CN203559124U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104195525A (zh) * | 2014-08-15 | 2014-12-10 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 两种气体独立均匀喷气喷淋装置 |
| CN111519161A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-08-11 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 一种真空镀膜工艺腔及具有其的真空悬浮镀膜机 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN203559124U (zh) | 一种纵横交错沟槽式多气体独立通道的喷淋结构 | |
| TWI485278B (zh) | 一種上電極裝置 | |
| JP2012127343A5 (zh) | ||
| JP2015129509A5 (zh) | ||
| CN103334092B (zh) | 一种用于金属有机化学气相沉积反应器的管道冷却式气体分布装置 | |
| CN203559126U (zh) | 一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构 | |
| CN102418086A (zh) | 一种实现气体隔离和均匀化的喷淋头装置 | |
| CN203559122U (zh) | 一种纵横交错孔式多气体独立通道的喷淋结构 | |
| CN203374371U (zh) | 一种发动机冷却水套流量分配调节装置 | |
| CN204425879U (zh) | 一种分割式强迫风冷散热器 | |
| CN203559125U (zh) | 一种涡状线式多气体独立通道的喷淋结构 | |
| CN102623889B (zh) | 应用于半导体激光器的液体制冷器的制备方法及其制冷装置 | |
| JP2015523309A5 (zh) | ||
| CN104789943A (zh) | 控温型双气体通道均匀喷气喷淋板 | |
| CN203559127U (zh) | 一种同心环式多气体独立通道的喷淋结构 | |
| CN203559123U (zh) | 一种波浪式多气体独立通道的喷淋结构 | |
| CN103540911A (zh) | 喷淋头的制作方法 | |
| CN203704702U (zh) | 分散式多层填料降温冷却塔 | |
| CN201662286U (zh) | 一种空调制冷剂流量分配器 | |
| CN203653690U (zh) | 喷淋头 | |
| CN106609360A (zh) | 一种加热掺杂气体的喷淋结构 | |
| CN205109426U (zh) | 一种浓硫酸稀释降温装置 | |
| CN203803142U (zh) | 集束精馏回流液自动等量分配装置 | |
| CN104748589B (zh) | 一种层叠式油冷器 | |
| CN104835764A (zh) | 一种蜘蛛网形表面结构的可控温加热盘 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: No.900 Shuijia, Hunnan District, Shenyang City, Liaoning Province Patentee after: Tuojing Technology Co.,Ltd. Address before: 110179 3rd floor, No.1-1 Xinyuan street, Hunnan New District, Shenyang City, Liaoning Province Patentee before: SHENYANG PIOTECH Co.,Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20140423 |
|
| CX01 | Expiry of patent term |