CN203530427U - 等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，包括等离子体辅助化学气相沉积设备，位于等离子体辅助化学气相沉积设备的出料口一侧设有操作台，所述操作台上靠近出料口设有横管，所述横管的下部设有气嘴，所述气嘴与横管内部连通。从上述结构可知，本实用新型的矿用隔爆型真空电磁起动器的主腔门锁紧装置，结构简单，使用的时候，可以从多角度进行盖合，然后仅需旋转一个较小的角度甚至无需旋转即可进行锁合，使用非常方便，有效提高了劳动效率，降低了劳动强度，降低了企业的生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池制造领域，具体涉及一种等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置。
背景技术
随着高科技产业的快速发展，等离子气体辅助化学气相沉积技术一直以来受到各界光伏的重视和应用，特别是在半导体组件工艺上的产品提升有着举足轻重的地位。诸如多晶硅薄膜的制作，或是太阳能电池中硅芯片基材与薄膜太阳能基板的制作，都必须使用离子气体辅助化学气相沉积的设备来进行。但是在生产过程中，硅片经过离子气体辅助化学气相沉积设备处理后，会在硅片表面形成一层氮化硅粉层，氮化硅粉状物会在后续加工过程中影响硅片的正常生产，导致企业的产量降低，产品的残次率增加，增加了企业的生产成本。
发明内容
本实用新型的目的在于：克服现有技术的不足，提供一种等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，结构简单，可以有效地去除硅片表面的氮化硅粉层，以便硅片后续加工的正常进行，降低了产品的残次率，降低了企业的生产成本。
本实用新型所采取的技术方案是：
等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，包括等离子体辅助化学气相沉积设备，位于等离子体辅助化学气相沉积设备的出料口一侧设有操作台，所述操作台上靠近出料口设有横管，所述横管的下部设有气嘴，所述气嘴与横管内部连通。
本实用新型进一步改进方案是，所述横管的两端通过立架固定于操作台。
本实用新型更进一步改进方案是，所述横管的两端通过连接件与立架固定。
本实用新型更进一步改进方案是，所述横管的上方设有吸尘装置，所述吸尘装置固定于等离子体辅助化学气相沉积设备。
本实用新型的有益效果在于：
本实用新型的等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，结构简单，可以有效地去除硅片表面的氮化硅粉层，以便硅片后续加工的正常进行，降低了产品的残次率，降低了企业的生产成本。
附图说明：
图1为本实用新型结构右视示意图。
图2为本实用新型结构主视示意图。
具体实施方式：
结合图1和图2所示，本实用新型包括等离子体辅助化学气相沉积设备1，所述等离子体辅助化学气相沉积设备1的一侧设有出料口8，等离子体辅助化学气相沉积设备1的底部设有支撑腿3；位于等离子体辅助化学气相沉积设备1的出料口8一侧设有操作台2，所述操作台2上靠近出料口8设有横管4，所述横管4的下部设有气嘴7，所述气嘴7与横管4内部连通；所述横管4的两端通过立架6固定于操作台2；所述横管4的两端通过连接件9与立架6固定；所述横管4的上方设有吸尘装置5，所述吸尘装置5固定于等离子体辅助化学气相沉积设备1。
Claims (4)
1. 等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，包括等离子体辅助化学气相沉积设备（1），位于等离子体辅助化学气相沉积设备（1）的出料口（8）一侧设有操作台（2），其特征在于：所述操作台（2）上靠近出料口（8）设有横管（4），所述横管（4）的下部设有气嘴（7），所述气嘴（7）与横管（4）内部连通。
2. 如权利要求1所述的等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，其特征在于：所述横管（4）的两端通过立架（6）固定于操作台（2）。
3. 如权利要求2所述的等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，其特征在于：所述横管（4）的两端通过连接件（9）与立架（6）固定。
4. 如权利要求1所述的等离子体辅助化学气相沉积设备的硅片除尘装置，其特征在于：所述横管（4）的上方设有吸尘装置（5），所述吸尘装置（5）固定于等离子体辅助化学气相沉积设备（1）。
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| CN105798020A (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-27 | 东莞市伟盟达静电设备有限公司 | 一种lcd非接触式自动清洁机 |
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2013
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Cited By (2)
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| CN105798020A (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-27 | 东莞市伟盟达静电设备有限公司 | 一种lcd非接触式自动清洁机 |
| CN105798020B (zh) * | 2014-12-30 | 2019-09-27 | 东莞市伟盟达静电设备有限公司 | 一种lcd非接触式自动清洁机 |
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