CN203470293U - 一种离型膜涂布中使用的导辊 - Google Patents
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Abstract
一种离型膜涂布中使用的导辊，包括导辊本体，所述导辊本体由芯轴和套装于所述芯轴外部的壳体组成，所述壳体为厚度为1～1.5cm的厚壁铝壳体，且所述壳体的表面刻制有螺旋槽，所述螺旋槽分为两段，以所述壳体的中线对称分布，且所述螺旋槽的深度为0.5～0.8cm，宽度为0.6～1.2cm。本实用新型结构简单，能够大大提高基材的舒展度，防止基材出现褶皱，进而提高了产品的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及薄膜涂布技术领域，具体涉及一种离型膜涂布中使用的导辊。
背景技术
目前，在涂布膜的生产中，不管是电子产品使用的保护膜还是建筑建材等使用的保护膜，涂布、烘干是很关键的工序。
普通设备出烘箱出口为平面胶辊或舒展辊，由于30um以下的PET膜在烘箱内收缩较严重出现纵向条纹，出烘箱时无法展平造成收卷起皱，更换过多种展平辊及导辊都不能有效解决。
这就导致生产的产品舒展度很差，容易出现褶皱，产品的质量大大下降。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种离型膜涂布中使用的导辊，其能够有效将涂布、烘干后的离型膜舒展，从而消除上述背景技术中缺陷。
为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：
一种离型膜涂布中使用的导辊，包括导辊本体，所述导辊本体由芯轴和套装于所述芯轴外部的壳体组成，其特征在于，所述壳体为厚度为1～1.5cm的厚壁铝壳体，且所述壳体的表面刻制有螺旋槽，所述螺旋槽分为两段，以所述壳体的中线对称分布，且所述螺旋槽的深度为0.5～0.8cm，宽度为0.6～1.2cm。
本实用新型中，所述壳体展开时，螺旋槽的形状近似于V形，而且所述导辊在转动时，保持V形螺旋槽尖端部分的导辊与离型膜相切，而且该时间点上，V形螺旋槽的尖端的转向，与离型膜输送方向相反。这样，离型膜在经过该导辊时，有一股向两侧拉的外力，从而把基材拉平整，提高基材的舒展度。
作为一种改进，所述壳体为厚度为1.3cm的厚壁铝壳体。
作为一种改进，螺旋槽的深度最好为0.7cm，宽度为0.8cm。
由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：
本实用新型采用了厚壁铝壳体，并在壳体的表面刻制有螺旋槽，所述螺旋槽分为两段，以所述壳体的中线对称分布，离型膜在经过该导辊时，有一股向两侧拉的外力，从而把基材拉平整，提高基材的舒展度。
本实用新型中，厚壁铝壳体的厚度为1～1.5cm，螺旋槽的深度为0.5～0.8cm，宽度为0.6～1.2cm，以上参数经过发明人大量反复的试验得到，对于30um以下的PET膜尤其适用。
总之，本实用新型结构简单，能够大大提高基材的舒展度，防止基材出现褶皱，进而提高了产品的质量。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型壳体展开后的结构示意图；
图中：1.导辊本体，2.芯轴，3.壳体，4.螺旋槽。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
如图1所示，一种离型膜涂布中使用的导辊，包括导辊本体1，所述导辊本体1由芯轴2和套装于所述芯轴2外部的壳体3组成，所述壳体3为厚度为1～1.5cm的厚壁铝壳体，本实施例中，厚壁铝壳体采用厚度为1.3cm；所述壳体3的表面刻制有螺旋槽4，所述螺旋槽4分为两段，以所述壳体3的中线对称分布，且所述螺旋槽4的深度为0.5～0.8cm，宽度为0.6～1.2cm，本实施例中，螺旋槽4的深度为0.7cm，宽度为0.8cm。
如图2所示，本实用新型中，所述壳体3展开时，螺旋槽4的形状近似于V形，而且所述导辊本体1在转动时，保持V形螺旋槽4尖端部分的导辊本体1与离型膜相切，而且该时间点上，V形螺旋槽4的尖端的转向，与离型膜输送方向相反。这样，离型膜在经过该导辊时，有一股向两侧拉的外力，从而把基材拉平整，提高基材的舒展度。
本实用新型不局限于上述具体实施方式，一切基于本实用新型的技术构思，所作出的结构上的改进，均落入本实用新型的保护范围之中。
Claims (3)
1.一种离型膜涂布中使用的导辊，包括导辊本体，所述导辊本体由芯轴和套装于所述芯轴外部的壳体组成，其特征在于：所述壳体为厚度为1～1.5cm的厚壁铝壳体，且所述壳体的表面刻制有螺旋槽，所述螺旋槽分为两段，以所述壳体的中线对称分布，且所述螺旋槽的深度为0.5～0.8cm，宽度为0.6～1.2cm。
2.如权利要求1所述的一种离型膜涂布中使用的导辊，其特征在于：所述壳体为厚度为1.3cm的厚壁铝壳体。
3.如权利要求1所述的一种离型膜涂布中使用的导辊，其特征在于：所述螺旋槽的深度为0.7cm，宽度为0.8cm。
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|---|---|---|---|---|
| CN107534116A (zh) * | 2015-03-02 | 2018-01-02 | 株式会社Lg化学 | 用于电化学装置的分隔膜的制备方法和制备设备 |
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2013
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Cited By (3)
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