CN203334017U

CN203334017U - 染池均热结构

Info

Publication number: CN203334017U
Application number: CN2013202842310U
Authority: CN
Inventors: 仲伟华
Original assignee: WUJIANG XINHE WEAVING Co Ltd
Current assignee: WUJIANG XINHE WEAVING Co Ltd
Priority date: 2013-05-23
Filing date: 2013-05-23
Publication date: 2013-12-11
Anticipated expiration: 2023-05-23

Abstract

本实用新型提供一种染池均热结构包括浸染织物采用金属制成的染池，所述染池在水平方或者垂直方向上均布有中空屏蔽层，所述中空屏蔽层由金属框架和封闭所述金属框架的两层屏蔽网组成，所述中空屏蔽层内设置有产生微波的磁控管，所述中空屏蔽层在所述染池的池壁上设置有令所述中空屏蔽层水平或者垂直移动的平移构件，本实用新型的优点是：这种染池均热结构利用所述中空屏蔽层将所述磁控管产生的微波屏蔽于所述中空屏蔽层内，所述中空屏蔽层内的染液被均匀加热，由于所述中空屏蔽层是由屏蔽网构成，因此染液可以流动，利用所述平移构件驱动所述中空屏蔽层，使染液被均匀加热。

Description

染池均热结构

技术领域

本实用新型涉及纺织染整设备领域，特别地，是一种含有均匀恒温结构的染池。

背景技术

纺织材料用染浴处理，使染料和纤维发生化学或物理化学结合，或在纤维上生成不溶性有色物质的工艺过程。染料应在纤维上有一定的耐水洗、晒、摩擦等性能，这种性能称为染色牢度。把纤维浸入一定温度下的染料水溶液中，染料就从水相向纤维中移动，此时水中的染料量逐渐减少，经过一段时间以后，就达到平衡状态。水中减少的染料，就是向纤维上移动的染料。在任意时间取出纤维，即使绞拧，染料也仍留在纤维中，并不能简单地使染料完全脱离纤维，这种染料结合在纤维中的现象，就称为染色。

织物染色时，采用染池对织物进行浸浴，使织物与染料充分接触，同时使染池保持最佳的染色温度，保持分子运动的活跃，染色对温度及温度的均匀度有着较高的要求，由于染池类似泳池一样面积较大，因此采用普通的循环式恒温装置很难使染池内的温度达到一致，特别是染池的四个死角，这样会使同一染池中的织物的着色程度不一致，降低染色的品质。

发明内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种染池均热结构，该染池均热结构能够使染池内染液均匀加热。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

该染池均热结构包括浸染织物采用金属制成的染池，所述染池在水平方或者垂直方向上均布有中空屏蔽层，所述中空屏蔽层由金属框架和封闭所述金属框架的两层屏蔽网组成，所述中空屏蔽层内设置有产生微波的磁控管，所述中空屏蔽层在所述染池的池壁上设置有令所述中空屏蔽层水平或者垂直移动的平移构件。

作为优选，所述中空屏蔽层连接同一平移构件，在所述平移构件的驱动下，所述中空屏蔽层同步水平或者垂直移动。

作为优选，所述中空屏蔽层在所述染池的垂直方向将染池逐层分割，所述中空屏蔽层在所述平移构件的作用下，每个中空屏蔽层移动区域之间的距离小于所述中空屏蔽层的移动距离。

作为优选，所述染池的顶部设置有微波屏蔽盖。

本实用新型的优点在于：这种染池均热结构利用所述中空屏蔽层将所述磁控管产生的微波屏蔽于所述中空屏蔽层内，所述中空屏蔽层内的染液被均匀加热，由于所述中空屏蔽层是由屏蔽网构成，因此染液可以流动，利用所述平移构件驱动所述中空屏蔽层，使染液被均匀加热。

附图说明

图1是本染池均热结构的结构示意图；

图2是本染池均热结构中空屏蔽层的结构示意图。

图中：100、染池； 110、微波屏蔽盖； 200、中空屏蔽层； 210、金属框架； 220、屏蔽网； 300、平移构件。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

参阅图1，在本实施例中，该染池均热结构包括浸染织物采用金属制成的染池100，所述染池100在水平方或者垂直方向上均布有中空屏蔽层200，参阅图2，所述中空屏蔽层200由金属框架210和封闭所述金属框架的两层屏蔽网220组成，所述中空屏蔽层200内设置有产生微波的磁控管，所述中空屏蔽层200在所述染池100的池壁上设置有令所述中空屏蔽层水平或者垂直移动的平移构件300。

所述屏蔽网220采用一般微波炉中观察窗内的屏蔽网220，此种屏蔽网220的网孔大小是经过精密计算的，所以完全可以阻挡微波的穿透。

上述的染池均热结构，所述中空屏蔽层200连接同一平移构件300，在所述平移构件300的驱动下，所述中空屏蔽层200同步水平或者垂直移动，同步运动的所述中空屏蔽层200能够在简化驱动结构的同时均匀的对染池中的染液加热。

上述的染池均热结构，所述中空屏蔽层200在所述染池的垂直方向将染池100逐层分割，所述中空屏蔽层200在所述平移构件300的作用下，每个中空屏蔽层200移动区域之间的距离小于所述中空屏蔽层200的移动距离，按垂直方向设置的所述中空屏蔽层200，利用热量上升的热对流原理使在中空屏蔽层200中加热的染液快速上升扩散，同时所述中空屏蔽层200移动区域之间的距离小能够加快染液的热交换。

上述的染池均热结构，所述染池100的顶部设置有微波屏蔽盖110，进一步屏蔽微波。

上述的染池均热结构运行原理：

所述中空屏蔽层200内的磁控管发生的微波将在所述中空屏蔽层200内的染液进行整体均匀的加热，利用所述平移构件300将所述中空屏蔽层200移动，所述中空屏蔽层200移动区域内的染液被均匀加热，由于染液存在相当大的流动性以及热对流的原理，位于中空屏蔽层200移动区域之间的染液由于厚度较薄也被加热，整个染池保持均匀加热的状态。

这种染池均热结构利用所述中空屏蔽层将所述磁控管产生的微波屏蔽于所述中空屏蔽层内，所述中空屏蔽层内的染液被均匀加热，由于所述中空屏蔽层是由屏蔽网构成，因此染液可以流动，利用所述平移构件驱动所述中空屏蔽层，使染液被均匀加热。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims

1.一种染池均热结构，包括浸染织物采用金属制成的染池（100），其特征在于：

所述染池（100）在水平方向或者垂直方向上均布有中空屏蔽层（200），所述中空屏蔽层（200）由金属框架（210）和封闭所述金属框架（210）的两层屏蔽网（220）组成，所述中空屏蔽层（200）内设置有产生微波的磁控管，所述中空屏蔽层（200）在所述染池（100）的池壁上设置有令所述中空屏蔽层水平或者垂直移动的平移构件（300）。

2.根据权利要求1所述的染池均热结构，其特征在于：所述中空屏蔽层（200）连接同一平移构件（300），在所述平移构件（300）的驱动下，所述中空屏蔽层（200）同步水平或者垂直移动。

3.根据权利要求1所述的染池均热结构，其特征在于：所述中空屏蔽层（200）在所述染池的垂直方向将染池（100）逐层分割，所述中空屏蔽层（200）在所述平移构件（300）的作用下，每个中空屏蔽层（200）移动区域之间的距离小于所述中空屏蔽层（200）的移动距离。

4.根据权利要求1所述的染池均热结构，其特征在于：所述染池（100）的顶部设置有微波屏蔽盖（110）。