CN203303948U - 一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，包括反应釜和热水罐，所述反应釜套装在夹套内，反应釜上套装有搅拌机，所述夹套上安装有温度传感器，所述热水罐底部通过热水进水管道与夹套连接，并接通反应釜，顶部通过热水出水管道与夹套连接，并接通反应釜。本实用新型所述的一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，具有结构简单，操作方便的特点，通过融入PID控制器，从而使温度控制更加平稳，波动更小，PID控制器的运用，使温度控制功能的自动化程度更高，精度更准确。
Description
技术领域
本实用新型涉及到球形四氧化三钴的生产设备，具体涉及到一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置。
背景技术
球形四氧化三钴主要应用于锂电池正极材料，其产品性能的重要指标为粒度、形貌、振实密度、杂质含量，因此，控制反应釜合成过程中的温度参数，对产品指标影响很关键，实际生产中，生产温度波动大，导致产品质量无法保证，不利于产品在市场的竞争。
实用新型内容
实用新型的目的：为了解决现在有技术的不足，本实用新型提供了一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置。
技术方案：一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，包括反应釜和热水罐，所述反应釜套装在夹套内，反应釜上套装有搅拌机，所述夹套上安装有温度传感器，所述热水罐底部通过热水进水管道与夹套连接，并接通反应釜，顶部通过热水出水管道与夹套连接，并接通反应釜。
作为优选，所述热水进水管道上安装有热水泵。
作为优选，所述热水罐上设有溢流管道，补水管道，蒸汽管道和自来水管道，所述蒸汽管道上安装有蒸汽调节阀，所述自来水管道上安装有自来水调节阀，所述蒸汽调节阀和自来水调节阀与温度传感器通过PLC中的PID控制器连接。
有益效果：本实用新型所述的一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，具有结构简单，操作方便的特点，通过融入PID控制器，从而使温度控制更加平稳，波动更小，PID控制器的运用，使温度控制功能的自动化程度更高，精度更准确。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
实施例：
如图1所示，一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，包括反应釜1和热水罐5，上述反应釜1套装在夹套2内，反应釜1上套装有搅拌机3，夹套2上安装有温度传感器4，上述热水罐5底部通过热水进水管道7与夹套2连接，并接通反应釜1，顶部通过热水出水管道8与夹套2连接，并接通反应釜1；上述热水进水管道7上安装有热水泵6；上述热水罐5上设有溢流管道9，补水管道10，蒸汽管道11和自来水管道12，蒸汽管道11上安装有蒸汽调节阀13，自来水管道12上安装有自来水调节阀14，上述蒸汽调节阀13和自来水调节阀14与温度传感器4通过PLC中的PID控制器连接。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，包括反应釜（1）和热水罐（5），其特征在于：所述反应釜（1）套装在夹套（2）内，反应釜（1）上套装有搅拌机（3），所述夹套（2）上安装有温度传感器（4），所述热水罐（5）底部通过热水进水管道（7）与夹套（2）连接，并接通反应釜（1），顶部通过热水出水管道（8）与夹套（2）连接，并接通反应釜（1）。
2.根据权利要求1所述的一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，其特征在于：所述热水进水管道（7）上安装有热水泵（6）。
3.根据权利要求1所述的一种四氧化三钴沉淀反应釜的温控装置，其特征在于：所述热水罐（5）上设有溢流管道（9），补水管道（10），蒸汽管道（11）和自来水管道（12），所述蒸汽管道（11）上安装有蒸汽调节阀（13），所述自来水管道（12）上安装有自来水调节阀（14），所述蒸汽调节阀（13）和自来水调节阀（14）与温度传感器（4）通过PLC中的PID控制器连接。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN103816945A (zh) * | 2014-01-29 | 2014-05-28 | 上海摩醇动力技术有限公司 | 催化剂连续生产工艺及设备 |
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