CN203266427U - 硅片抛光机冷凝水盛接托盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于硅片切割用设备技术领域,尤其涉及一种硅片抛光机冷凝水盛接托盘,包括:外形与工作台的底部外形相适应的托盘体,该托盘体与工作台相连接的一侧上设有凹槽,该凹槽用于盛接冷凝水及泄露研磨液;若干连接件,该若干连接件均有一端固定设置在托盘体上;固定设置在托盘体上的排水管,该排水管与凹槽连通;使用时,盛接托盘设有凹槽,从工作台底部滴落的冷凝水及泄露研磨液会滴落到凹槽中,然后由排水管排出,避免直接滴落到工作台底部的轨道上,解决了冷凝水及研磨液腐蚀轨道造成的机台精度降低及因此造成的产品不良的问题。
Description
技术领域
本实用新型属于硅片生产用设备技术领域,尤其涉及一种硅片抛光机冷凝水盛接托盘。
背景技术
经硅片切割机切割得到的硅片,表面有割痕,达不到使用要求,需要用抛光机对硅片表面进行抛光,抛光机的工作台内有研磨液流动,工作台底部会产生冷凝水,冷凝水及泄露的研磨液会滴落到工作台底部的轨道上,会造成轨道磨损,导致机台精度降低,造成产品不良。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种硅片抛光机冷凝水盛接托盘,能有效防止抛光机工作台底部的冷凝水及研磨液滴落到工作台底部的轨道上,解决冷凝水及研磨液腐蚀轨道造成的机台精度降低及因此造成的产品不良的问题。
本实用新型是这样实现的,一种硅片抛光机冷凝水盛接托盘,所述硅片抛光机冷凝水盛接托盘包括:外形与工作台的底部外形相适应的托盘体,所述托盘体与所述工作台相连接的一侧上设有用于盛接冷凝水及泄露研磨液的凹槽;若干连接件,若干所述连接件均有一端固定设置在所述托盘体上;一端固定设置在所述托盘体上的排水管,所述排水管与所述凹槽连通。
作为一种改进,所述凹槽的底面为一斜面,靠近所述排水管的一侧低于远离所述排水管的一侧。
由于采用上述技术方案,在硅片抛光机的工作台的底部安装冷凝水盛接托盘,盛接托盘设有凹槽,从工作台底部滴落的冷凝水及泄露研磨液会滴落到凹槽中,然后由排水管排出,避免直接滴落到工作台底部的轨道上,解决了冷凝水及研磨液腐蚀轨道造成的机台精度降低及因此造成的产品不良的问题。
附图说明
图1是本实用新型的硅片抛光机冷凝水盛接托盘的立体结构示意图;
图2是本实用新型的硅片抛光机冷凝水盛接托盘使用时的立体结构示意图;
其中,1、托盘体,11、凹槽,2、连接件,3、排水管,4、工作台。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
由图1可知,该硅片抛光机冷凝水盛接托盘包括:外形与工作台4的底部外形相适应的托盘体1,该托盘体1与工作台4相连接的一侧上设有凹槽11,该凹槽11用于盛接冷凝水及泄露研磨液;若干连接件2,该若干连接件2均有一端固定设置在托盘体1上;一端固定连接在托盘体1上的排水管3,该排水管3与凹槽11连通。
在本实施例中,盛接托盘设有凹槽,从工作台底部滴落的冷凝水及泄露研磨液会滴落到凹槽中,然后由排水管排出,避免直接滴落到工作台底部的轨道上,解决了冷凝水及研磨液腐蚀轨道造成的机台精度降低及因此造成的产品不良的问题。
在本实用新型中,凹槽11的底面设置为一斜面,靠近排水管3的一侧低于远离排水管3的一侧。这样凹槽11内的冷凝水及研磨液就会顺畅的排出,避免在托盘体1底部产生二次冷凝水。
本实用新型提供的硅片抛光机冷凝水盛接托盘包括:外形与工作台的底部外形相适应的托盘体,该托盘体与工作台相连接的一侧上设有凹槽,该凹槽用于盛接冷凝水及泄露研磨液;若干连接件,该若干连接件均有一端固定设置在托盘体上;固定设置在托盘体上的排水管,该排水管与凹槽连通;使用时,盛接托盘设有凹槽,从工作台底部滴落的冷凝水及泄露研磨液会滴落到凹槽中,然后由排水管排出,避免直接滴落到工作台底部的轨道上,解决了冷凝水及研磨液腐蚀轨道造成的机台精度降低及因此造成的产品不良的问题。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (2)
1.硅片抛光机冷凝水盛接托盘,其特征在于,所述硅片抛光机冷凝水盛接托盘包括:外形与工作台的底部外形相适应的托盘体,所述托盘体与所述工作台相连接的一侧上设有用于盛接冷凝水及泄露研磨液的凹槽;若干连接件,若干所述连接件均有一端固定设置在所述托盘体上;一端固定设置在所述托盘体上的排水管,所述排水管与所述凹槽连通。
2.根据权利要求1所述的硅片抛光机冷凝水盛接托盘,其特征在于,所述凹槽的底面为一斜面,靠近所述排水管的一侧低于远离所述排水管的一侧。
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