CN203264325U - 一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置 - Google Patents
一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN203264325U CN203264325U CN 201320211860 CN201320211860U CN203264325U CN 203264325 U CN203264325 U CN 203264325U CN 201320211860 CN201320211860 CN 201320211860 CN 201320211860 U CN201320211860 U CN 201320211860U CN 203264325 U CN203264325 U CN 203264325U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- chemical vapor
- graphene chemical
- gas
- impurity gas
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
本实用新型公开一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，包括一气流通道，该通道一端为石墨烯化学气相沉积中的混合气体入口，在气流通道外侧装有若干组半导体致冷片，各致冷片通电联接形成电学低温气流冷阱并吸附杂质气体，气流通道另一端为纯化气体出口。本实用新型采用半导体致冷器件，通过低温吸附的方法，除去混合气源中的杂质气体，结构简单，使用方便，易于维护。
Description
技术领域
本实用新型公开一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，按国际专利分类表(IPC)划分属于科学仪器制造技术领域。
背景技术
石墨烯(Graphene)自2004年发现以来,在短短数年间已经成为凝聚态物理、化学、材料科学等领域研究中倍受瞩目的新型材料，化学气相沉积(CVD)是目前制备石墨烯的最有效、也是最具研究价值的方法。目前，石墨烯化学气相沉积设备所采用的杂质气体吸附装置是一个装有液氮的吸附冷阱，使用时需要不停地人工添加液氮，费时费力。
发明内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种结构合理、使用方便的用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，通过电子元器件形成电学低温冷阱，不需要液氮等额外的冷却剂。
为达到上述目的，本实用新型是通过以下技术方案实现的：
一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，包括一气流通道，该通道一端为石墨烯化学气相沉积中的混合气体入口，在气流通道外侧装有若干组半导体致冷片，各致冷片通电联接形成电学低温气流冷阱并吸附杂质气体，气流通道另一端为纯化气体出口。
进一步，所述气流通道的两端分别连接真空法兰。
本实用新型采用半导体致冷器件，形成一个电学低温冷阱，不需要液氮等额外的冷却剂，而是通过低温吸附的方法，除去混合气源中的杂质气体，结构简单，使用方便，易于维护。
附图说明
图1是本实用新型示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明：
实施例：请参阅图1，一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，包括一气流通道1，该通道一端为石墨烯化学气相沉积中的混合气体入口，在气流通道外侧装有若干组半导体致冷片2，各致冷片与电源电联接并形成电学低温气流冷阱并吸附杂质气体，气流通道另一端为纯化气体出口。在气流通道的两端分别连接真空法兰11、12。
本实用新型包括一个气路流通结构，气体从一个口输入，从另一个口输出。在结构的外侧，装有几组半导体致冷片。在致冷片上施加电流后，半导体致冷片开始工作，其中紧贴气体流通结构的一侧温度降低，冷却了气体流通结构，从而形成一个气体冷阱。当石墨烯化学气相沉积中的混合气体进入该冷阱后，杂质气体被冷凝吸附在冷阱内壁，无法进入高温反应腔式内，从而对混合反应气体起到了纯化的作用。
以上所记载，仅为利用本创作技术内容的实施例，任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化，皆属本创作主张的专利范围，而不限于实施例所揭示者。
Claims (2)
1.一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，其特征在于：包括一气流通道，该通道一端为石墨烯化学气相沉积中的混合气体入口，在气流通道外侧装有若干组半导体致冷片，各致冷片通电联接形成电学低温气流冷阱并吸附杂质气体，气流通道另一端为纯化气体出口。
2.根据权利要求1所述的一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置，其特征在于：所述气流通道的两端分别连接真空法兰。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201320211860 CN203264325U (zh) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201320211860 CN203264325U (zh) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203264325U true CN203264325U (zh) | 2013-11-06 |
Family
ID=49494823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201320211860 Expired - Lifetime CN203264325U (zh) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203264325U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105648535A (zh) * | 2016-01-26 | 2016-06-08 | 电子科技大学 | 一种制备硫系化合物异质结构的装置及其制备方法 |
| CN107328846A (zh) * | 2017-08-10 | 2017-11-07 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 质谱进样系统及冷却装置 |
-
2013
- 2013-04-24 CN CN 201320211860 patent/CN203264325U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105648535A (zh) * | 2016-01-26 | 2016-06-08 | 电子科技大学 | 一种制备硫系化合物异质结构的装置及其制备方法 |
| CN105648535B (zh) * | 2016-01-26 | 2017-12-29 | 电子科技大学 | 一种制备硫系化合物异质结构的装置及其制备方法 |
| CN107328846A (zh) * | 2017-08-10 | 2017-11-07 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 质谱进样系统及冷却装置 |
| CN107328846B (zh) * | 2017-08-10 | 2021-01-08 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 质谱进样系统及冷却装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107213763A (zh) | 智能化废气处理系统与方法 | |
| CN1568287A (zh) | 与氧气或富氧空气生产相关的方法和装置 | |
| CN1960938A (zh) | 用于制氢设备冷却的方法和装置 | |
| CN203264325U (zh) | 一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置 | |
| CN103848398B (zh) | 采用一体式低温吸附法生产超纯氢装置 | |
| JP2012106146A (ja) | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 | |
| CN111060363A (zh) | 一种大气水样收集装置 | |
| CN104140085B (zh) | 一种深度脱除氧化亚氮中水和二氧化碳的装置与方法 | |
| CN104122350B (zh) | 一种用于变压器绝缘油气相色谱分析的冷阱装置 | |
| CN103159208A (zh) | 一种制备石墨烯的方法 | |
| CN201543362U (zh) | 一种变温变压法处理多晶硅尾气中氢气的处理装置 | |
| CN203807153U (zh) | 采用一体式低温吸附法生产超纯氢装置 | |
| CN203443264U (zh) | 从净化后的垃圾填埋气中提纯甲烷液体的装置 | |
| CN203469766U (zh) | 一种低温甲醇洗深度解析再生冷量的装置 | |
| CN1799679A (zh) | 一种煤层气浓缩方法 | |
| CN104218189A (zh) | 有机半导体材料的升华提纯方法及其升华提纯装置 | |
| CN103525442A (zh) | 一种多台移动式炭化炉并联气体净化系统 | |
| CN202376886U (zh) | 一种惰性气体净化器 | |
| CN101987726A (zh) | 气体纯化装置 | |
| CN102910580A (zh) | 节能型氨分解获得高纯氢氮混合气的装置及其方法 | |
| CN201809168U (zh) | 一种带液态空气分离筒的氦气纯化装置 | |
| CN201907971U (zh) | 气体纯化装置 | |
| CN206472362U (zh) | 排管及低温等离子体发生设备 | |
| CN203908823U (zh) | 一种捕集装置 | |
| CN204739812U (zh) | 一种丁苯橡胶合成过程中用的苯乙烯循环回收装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: The torch hi tech Zone Park Albert house building S301c room 361000 Xiamen city of Fujian Province Patentee after: XIAMEN G-CVD GRAPHENE TECHNOLOGY CO.,LTD. Address before: The torch hi tech Zone Park Albert house building S301C room 361000 Xiamen city of Fujian Province Patentee before: XIAMEN G-CVD MATERIAL TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| CX01 | Expiry of patent term | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20131106 |