CN203228105U - 一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫 - Google Patents

一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫 Download PDF

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孔维洪
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Abstract

本实用新型公开了一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，包括抛光面，所述抛光面上开设有数条沟槽，所述沟槽之间的间距为10-30mm，所述沟槽深度比所述抛光面的厚度少0.5mm左右。通过本实用新型有利于提高存储和运输抛光液的能力，使抛光液在加工区域的分布更加均匀，提高了工件残留物的去除率，降低了工件表面的非均匀性，并且减少了划伤，降低了摩擦热，从而提高了抛光效率和抛光垫的耐用度。

Description

一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫
技术领域
本实用新型涉及抛光垫，尤其涉及一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫。
背景技术
光学玻璃加工使用的抛光垫主要成分是发泡固化的微孔聚氨酯弹性体，内含多种填料，其表面有许多空球体微孔封闭单元结构。这些微孔能起到手机加工去除物、传送、承载抛光液以及保证化学腐蚀等作用，有利于提高抛光均匀性和抛光效率。孔尺寸越大其运输能力越强，但孔径过大时会影响抛光垫的密度和刚度，而且聚氨酯抛光垫具有发泡结构，使抛光液不能渗透到抛光垫内部，只存在于工件与抛光垫的间隙中，并影响抛光后的残渣或抛光副产物的及时排除，造成阻塞抛光垫表层中的微孔，形成釉面、钝化，造成工件划伤而降低良品率。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述背景技术中所提到的问题，提供了一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫。
为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，包括抛光面，所述抛光面上开设有数条沟槽，所述沟槽之间的间距为10-30mm，所述沟槽深度比所述抛光面的厚度少0.5mm左右。
进一步地，所述抛光面上的沟槽呈网格状分布。
进一步地，所述抛光面上的沟槽从抛光面中心向四周放射分布。
进一步地，所述抛光面上的数条沟槽呈同心圆分布。
进一步地，所述沟槽断面呈U型或者V型。
进一步地，所述沟槽的槽口宽度为0.5-3mm。
有益效果：本实用新型提供的聚氨酯抛光垫中的抛光面上开设有数条沟槽，其槽与槽之间的间距设置在10-30mm之间，并且沟槽深度为抛光面的厚度减去0.5mm，通过此设置的聚氨酯抛光垫，有利于提高存储和运输抛光液的能力，使抛光液在加工区域的分布更加均匀，提高了工件残留物的去除率，降低了工件表面的非均匀性，并且减少了划伤，降低了摩擦热，从而提高了抛光效率和抛光垫的耐用度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实施例1的结构示意图；
图2为本实施例2的结构示意图；
图3为本实施例3的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例一
结合图1所示一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，包括抛光面1，该抛光面1上开设有数条呈网格状分布的沟槽2，其沟槽2之间的间距设置在10-30mm之间，另外，其沟槽2深度比抛光面1的厚度少0.5mm左右，故以此抛光面1进行研磨作业时，抛光面1上的抛光液将在加工区域的分布更加均匀，且在不影响抛光垫的密度和刚度基础上，将有更多更广的沟槽对抛光残渣进行运输和去除，因而提高了工件残留物的去除率，降低了工件表面的非均匀性，减少了划伤，降低了摩擦热，从而提高了抛光效率和抛光垫的耐用度。
本实施例1中，沟槽2端面呈U型，除了可避免研磨颗粒或抛光碎屑沉积与槽底，导致工件刮伤而受损外，采用U型设置，有助于抛光液的流动，因而不会积累过多的抛光液与沟槽中，可提高较佳的抛光效果。
本实施例1中，沟槽2的槽口宽度为0.5-3mm。
实施例二
结合图2所示的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，包括抛光面1，该抛光面1上开设有数条从抛光面1中心向四周放射分布的沟槽2，其沟槽2之间的间距设置在10-30mm之间，另外，其沟槽2深度比抛光面1的厚度少0.5mm左右，故以此抛光面1进行研磨作业时，抛光面1上的抛光液将在加工区域的分布更加均匀，且在不影响抛光垫的密度和刚度基础上，将有更多更广的沟槽对抛光残渣进行运输和去除，因而提高了工件残留物的去除率，降低了工件表面的非均匀性，减少了划伤，降低了摩擦热，从而提高了抛光效率和抛光垫的耐用度。
本实施例2中，沟槽2端面呈V型，除了可避免研磨颗粒或抛光碎屑沉积与槽底，导致工件刮伤而受损外，采用V型设置，有助于抛光液的流动，因而不会积累过多的抛光液与沟槽中，可提高较佳的抛光效果。
本实施例2中，沟槽2的槽口宽度为0.5-3mm。
实施例三
结合图3所示的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，包括抛光面1，该抛光面1上开设有数条呈同心圆分布的沟槽2，其沟槽2之间的间距设置在10-30mm之间，另外，其沟槽2深度比抛光面1的厚度少0.5mm左右，故以此抛光面1进行研磨作业时，抛光面1上的抛光液将在加工区域的分布更加均匀，且在不影响抛光垫的密度和刚度基础上，将有更多更广的沟槽对抛光残渣进行运输和去除，因而提高了工件残留物的去除率，降低了工件表面的非均匀性，减少了划伤，降低了摩擦热，从而提高了抛光效率和抛光垫的耐用度。
本实施例3中，沟槽2端面呈U型或者V型，除了可避免研磨颗粒或抛光碎屑沉积与槽底，导致工件刮伤而受损外，采用U型或者V型设置，有助于抛光液的流动，因而不会积累过多的抛光液与沟槽中，可提高较佳的抛光效果。
本实施例3中，沟槽2的槽口宽度为0.5-3mm。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的保护范围内所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，包括抛光面，其特征在于，所述抛光面上开设有数条沟槽，所述沟槽之间的间距为10-30mm，所述沟槽深度比所述抛光面的厚度少0.5mm左右。
2.根据权利要求1所述的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，其特征在于，所述抛光面上的沟槽呈网格状分布。
3.根据权利要求1所述的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，其特征在于，所述抛光面上的沟槽从抛光面中心向四周放射分布。
4.根据权利要求1所述的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，其特征在于，所述抛光面上的数条沟槽呈同心圆分布。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，其特征在于，所述沟槽断面呈U型或者V型。
6.根据权利要求5所述的一种表面带沟槽的聚氨酯抛光垫，其特征在于，所述沟槽的槽口宽度为0.5-3mm。
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