CN203225274U - 图形衬底及led芯片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种图形衬底及LED芯片,所述图形衬底上设有至少一个图形区域、非图形区域和切割区域,每一个所述图形区域内设有多个图形单元,每一个所述图形区域的形状与需要切割的LED芯片的形状相匹配,切割区域设置于所述非图形区域。图形区域的形状按照需要切割的形状设置为相匹配的形状,而其他部分则为非图形区域,切割区域设置于非图形区域,这样,切割后得到的LED芯片衬底边缘平整。在每一个图形区域内可增加单个图形的个数,增强LED芯片的出光效率。并且在切割单颗LED芯片时,切割区域没有设置图形,切割厚度一致,避免因过度切割而造成PN结污染。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其是指一种图形衬底及LED芯片。
背景技术
发光二极管(LED)必将逐步取代白炽灯、荧光灯而成为新一代照明光源,这已是业界的普遍共识。在LED照明产业界,如何继续提高光效始终是相关研发的重要课题之一。图形化衬底技术可以有效地减少LED外延材料的位错和缺陷,在氮化物器件制备中得到了广泛的应用;而且,有源层发出的光经图形化衬底界面多次散射,改变了原全反射光的入射角,增加了LED光出射的几率,从而提高光的提取效率。
但是,现有技术的衬底图形普遍为均匀分布的图形。如图1所示,图形衬底11、图形12、图形衬底上制成的LED芯片13,当切割道14经过图形12时容易造成切割后得到的LED芯片13衬底边缘不平整。此外,如图2所示,111为图形衬底的上表面,112为图形衬底的下表面,①和②为切割方向,15为承载LED芯片的载体,在切割时,由于衬底图形使得切割厚度不一,容易造成过度切割(如光线②切入载体15)而产生的PN结污染。
发明内容
本实用新型之一实用新型目的是提供了一种图形衬底,该图形衬底被切割后边缘平整,解决了因过度切割而产生的PN结污染问题。
本实用新型的目的是这样实现的:
一种图形衬底,所述图形衬底上设有至少一个图形区域、非图形区域和切割区域,每一个所述图形区域内设有多个图形单元,每一个所述图形区域的形状与需要制备的LED芯片的形状相匹配,切割区域包含于所述非图形区域内。
优选的是,每一个所述图形区域分布面积不大于所述LED芯片的面积。
优选的是,所述非图形区域的宽度不小于所述切割区域的宽度。
优选的是,所述图形衬底上设有多个图形区域,所述非图形区域设于相邻两个所述图形区域之间。
优选的是,所述图形区域的形状为与所述LED芯片形状相匹配的方形、矩形或圆形。
优选的是,所述图形衬底的材质为蓝宝石、氮化镓、碳化硅、或者硅。
本实用新型还提供一种LED芯片,其包括有如以上任意一项所述的图形衬底。
本实用新型图形衬底及LED芯片与现有技术相比,具有如下有益效果:
图形区域的形状按照需要切割的形状设置为相匹配的形状,而其他区域则为非图形区域,切割区域包含于非图形区域内,这样,切割后得到的LED芯片衬底边缘平整。
在每一个图形区域内可增加单个图形的个数,增强LED芯片的出光效率。
并且在切割单颗LED芯片时,切割区域没有设置图形单元,切割厚度一致,避免因过度切割而造成PN结污染。
附图说明
图1为现有技术图形衬底的结构示意图;
图2为应用现有技术图形衬底制备LED芯片的切割示意图;
图3为本实用新型优选实施例图形衬底的结构示意图;
图4为应用本实用新型图形衬底制备LED芯片的结构示意图。
具体实施方式
如图3所示,本实用新型图形衬底100,所述图形衬底100上设有至少一个图形区域110、非图形区域120和切割区域130。每一个所述图形区域110内均匀设置有多个图形单元112,每一个所述图形区域110的形状与需要制备并切割的LED芯片的形状相匹配,且切割区域130包围所述图形区域110、并设置于所述非图形区域120内。优选所述切割区域130即为环绕所述图形区域110一周的区域。
图形衬底100上制备的LED芯片设置于所述切割区域130所围成的区域内,每一个所述图形区域110分布面积不大于所述LED芯片140的面积,所述非图形区域120的宽度h不小于所述切割区域130的宽度。当所述非图形区域120的宽度h不等时,其宽度最小处的宽度不小于所述切割区域130的宽度,确保切割时不会切到图形单元112。相比于现有技术,切割后得到的LED芯片衬底边缘平整,而且切割厚度一致,避免因过度切割而造成LED芯片的PN结污染。
在本优选实施例中,如图3所示,示意出了四个完整的图形区域110,所述非图形区域120设于相邻两个所述图形区域110之间,即通过所述非图形区域120将多个所述图形区域110分隔开来,因此,所述非图形区域120的宽度h即为相邻两个图形区域110的间隔宽度。每一个图形区域110中设置纵横4列图形单元112,每一列设置有4个图形单元112。相比于现有技术,每一个图形区域内110可设置更多的图形单元112,可以增加其出光率。
所述图形区域110的形状为与所述LED芯片形状相匹配的方形、矩形或圆形;本实施例优选所述图形区域110的形状为方形。所述图形衬底100的材质为蓝宝石、氮化镓、碳化硅、或者硅。
如图4所示,一种图形化的垂直结构LED芯片140,包括构成LED芯片的第二衬底141、在第二衬底141上依次层叠的P型氮化镓层144、多量子阱发光层143和N型氮化镓层142。其中,N型氮化镓层142具有上述图形衬底100的图形结构,包括至少一个图形区域110、非图形区域120和切割区域130。具体通过如下方法制备:首先在图形衬底100上进行MOCVD外延生长,依次形成N型半导体层142、多量子阱发光层143、P型半导体层144,再以高热导率Si、SiC、金属或合金等材料作为第二衬底141,将LED外延层粘接在其上并制成芯片,P型半导体层144与第二衬底141接触,然后利用现有技术去除所述图形衬底100,图形衬底100的图形结构被复制在N型半导体层142上。该图形化的垂直结构LED芯片切割区域没有设置图形单元,切割后得到的LED芯片衬底边缘平整,切割厚度一致,避免因过度切割而造成PN结污染。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (7)
1.一种图形衬底,其特征在于,所述图形衬底上设有至少一个图形区域、非图形区域和切割区域,每一个所述图形区域内设有多个图形单元,每一个所述图形区域的形状与需要制备的LED芯片的形状相匹配,切割区域包含于所述非图形区域内。
2.根据权利要求1所述的图形衬底,其特征在于,每一个所述图形区域分布面积不大于所述LED芯片的面积。
3.根据权利要求1或2所述的图形衬底,其特征在于,所述非图形区域的宽度不小于所述切割区域的宽度。
4.根据权利要求1所述的图形衬底,其特征在于,所述图形衬底上设有多个图形区域,所述非图形区域设于相邻两个所述图形区域之间。
5.根据权利要求1所述的图形衬底,其特征在于,所述图形区域的形状为与所述LED芯片形状相匹配的矩形或圆形。
6.根据权利要求1所述的图形衬底,其特征在于,所述图形衬底的材质为蓝宝石、氮化镓、碳化硅、或者硅。
7.一种LED芯片,其特征在于,其包括有如权利要求1至6任意一项所述的图形衬底。
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CN 201320121310 CN203225274U (zh) | 2013-03-18 | 2013-03-18 | 图形衬底及led芯片 |
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Country Status (1)
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CN (1) | CN203225274U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN103236481A (zh) * | 2013-03-18 | 2013-08-07 | 佛山市国星半导体技术有限公司 | 图形衬底、led芯片及led芯片制备方法 |
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2013
- 2013-03-18 CN CN 201320121310 patent/CN203225274U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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