CN203021640U - 一种掩模板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种掩模板，所述掩模板包括ITO接触面和蒸镀面，在蒸镀面上设置有多个蒸镀孔，蒸镀孔自蒸镀面贯穿至ITO接触面，且截面呈阶梯状，蒸镀孔包括同轴设置的第一段和第二段，蒸镀孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐渐收缩状。本实用新型仅使用激光工艺来完成蒸镀孔的加工，省去了使用多种工艺加工蒸镀孔时需要的二次拆卸和装夹工序，也避免了使用多种工艺加工蒸镀孔所带来的安装误差，从而可有效提高蒸镀孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生产成本，从而降低了OLED显示屏的制造成本，具有广阔的市场前景。
Description
技术领域
本实用新型涉及OLED显示及照明技术领域，特别涉及一种掩模板。
背景技术
有机电致发光器件，具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在 OLED（Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管） 技术中，真空蒸镀中的掩模板技术是一项非常重要和关键的技术，该技术的等级直接影响 OLED 产品的质量和制造成本。
在应用于蒸镀时，传统工艺的蒸镀用掩模板一般采用正反同时蚀刻工艺，虽然可以制作出带有一 定锥度的开口，但由于侧蚀的原因，使得掩模板贴紧蒸镀 ITO 玻璃基板的铟锡氧化物接触面 的铟锡氧化物接触面开口存在倒锥度，该种倒锥角的存在，产生死角区域 ，由于该死角区域的存在，无法达到蒸镀厚度要求，导致蒸镀材料的成膜均匀性降低，影响蒸镀质量，延长了蒸镀时间，增加制造成本。
一般蒸镀用荫罩（即掩模板）的厚度在 100μm 左右，而需蒸镀的有机材料膜的厚度在100nm左右，荫罩上的开口尺寸最小可以是 10μm，所以无锥度开口的侧壁势必会在蒸镀过程中产生遮挡。另一方面，如果通过减薄荫罩的厚度的方法来降低荫罩的遮挡程度，又会影响荫罩的使用寿命，因为荫罩过薄，易变形，影响的荫罩的使用，降低蒸镀质量。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种掩模板，既能提高有机发光材料的使用率和成膜率，又能提高掩模板的加工效率，具有工艺简单、良品率高、加工效率高、制造成本低和实用性强等优点。
为实现上述发明目的，本实用新型提供一种掩模板，包括ITO接触面和蒸镀面，在所述蒸镀面上设置有多个蒸镀孔，所述蒸镀孔自所述蒸镀面贯穿至所述ITO接触面，且截面呈阶梯状，所述蒸镀孔包括同轴设置的第一段和第二段，所述蒸镀孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐渐收缩状。
优选地，所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。
优选地，所述第二段呈锥形，所述锥形的锥角为4~10度。
优选地，所述掩模板的厚度为18～190μm。
优选地，所述第二段的垂直深度为10～50μm。
优选地，所述掩模板的材料为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金中的任意一种，厚度为18～45μm。
本实用新型先采用激光工艺在蒸镀面上加工出蒸镀孔的第一段，再调整激光位置，继续沿着第一段的末端向ITO接触面继续加工出第二段蒸镀孔，由于激光加工出的蒸镀孔的孔壁呈锥形，使蒸镀孔在掩模板上呈现出逐渐收缩的态势，克服了传统工艺中出现的死角区域，使得在应用于蒸镀时，有机发光颗粒可以较大限度地到达玻璃基板上的预定位置，从而提高了OLED显示屏的质量，提高了有机发光材料的使用率和成膜率。同时，本实用新型仅使用激光工艺来完成蒸镀孔的加工，省去了使用多种工艺加工蒸镀孔时需要的二次拆卸和装夹工序，也避免了使用多种工艺加工蒸镀孔所带来的安装误差，从而可有效提高蒸镀孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生产成本，从而降低了OLED显示屏的制造成本，具有广阔的市场前景。
附图说明
图1是本实用新型实施例中掩模板的结构示意图。
本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
以下将结合附图及具体实施例详细说明本实用新型的技术方案，以便更清楚、直观地理解本实用新型的发明实质。
图1是本实用新型实施例中掩模板的结构示意图。
参照图1所示，本实施例提供一种掩模板1，包括ITO接触面11和蒸镀面12，在蒸镀面12上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔2，蒸镀孔2自蒸镀面12贯穿至ITO接触面11。蒸镀孔2的截面呈阶梯状，包括同轴设置的第一段和第二段，蒸镀孔的尺寸自第一段向第二段呈逐渐收缩状。
在蒸镀时，ITO接触面11朝上，与需要蒸镀有机发光材料的玻璃基板贴合，蒸镀面12朝下，面对蒸发源。蒸发源内的蒸汽状有机发光材料颗粒从各种方向进入蒸镀孔2，并经该蒸镀孔2沾附于玻璃基板的ITO（氧化铟锡）层上，形成蒸镀膜。蒸镀膜的形状和厚薄均匀度直接影响OLED显示屏的辉度和分辨率，因此，对蒸镀孔2的形状和规格都有非常严格的要求。本实施例的蒸镀孔2设计为截面尺寸自蒸镀面12向ITO接触面11呈逐渐收缩状，使蒸镀孔2的整体形状为上窄下宽的喇叭状，有利于以更宽的角度接收有机发光材料颗粒，从而能使蒸镀膜的厚薄均匀度和形状都能满足设计要求。
此外，本实施例的掩模板1的厚度为18～190μm，既可保证掩模板1的强度，避免因过薄导致蒸镀孔2变形而缩短掩模板1的使用寿命，又可避免因过厚影响蒸镀膜的成膜率。
若掩模板1采用镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金中的任意一种材料制成，其厚度可设置为18～45μm。为保证良品率、提高加工效率、降低加工成本，最好将第二段22的锥角设置为4~10度，不能过小，也不宜过大，这样，便可在满足实际生产要求的同时，最大限度地降低生产成本。
本实施例的第二段22的垂直深度为10～50μm，且第二段22的垂直深度应不大于第一段21的垂直深度。由于第二段22呈锥形状，而且，第二段22在ITO接触面11上的尺寸精度要求非常高，因此，可以采用激光工艺加工第一段21，再利用激光工艺加工出第二段22。由于激光工艺的加工精度高，倾角较小，故第二段22的垂直深度不宜过大。考虑到掩模板1的精度和强度，第二段22的垂直深度又不宜过小，以免影响蒸镀孔2在ITO接触面11上的精度和稳定性。
本实用新型可以采用以下方法来加工上述掩模板，该方法包括以下步骤：
1、采用激光工艺在蒸镀面上沿垂直于ITO接触面的方向加工出第一段，并控制加工余量；
2、调整激光位置，沿第一段的加工方向在加工余量上加工出第二段。
上述步骤中，第一段加工完成后，加工余量控制在10~50μm，用于加工第二段，使第二段的垂直深度为10~50μm。
在加工第二段时，先将第一段加工出来，然后调整激光位置，沿第一段的加工方向继续加工，并形成一个台阶。考虑到掩模板的强度要求，第二段的垂直深度不宜过小，以免因第二段过薄导致在ITO接触面上所加工出的蒸镀孔发生变形，故第二段的垂直深度为10～50μm为佳。
综上所述，本实用新型先采用激光工艺在蒸镀面上加工出蒸镀孔的第一段，再调整激光位置，继续沿着第一段的末端向ITO接触面继续加工出第二段蒸镀孔，由于激光加工出的蒸镀孔的孔壁呈锥形，使蒸镀孔在掩模板上呈现出逐渐收缩的态势，克服了传统工艺中出现的死角区域，使得在应用于蒸镀时，有机发光颗粒可以较大限度地到达玻璃基板上的预定位置，从而提高了OLED显示屏的质量，提高了有机发光材料的使用率和成膜率。同时，本实用新型仅使用激光工艺来完成蒸镀孔的加工，省去了使用多种工艺加工蒸镀孔时需要的二次拆卸和装夹工序，也避免了使用多种工艺加工蒸镀孔所带来的安装误差，从而可有效提高蒸镀孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生产成本，从而降低了OLED显示屏的制造成本，具有广阔的市场前景。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制其专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (6)
1.一种掩模板，包括ITO接触面和蒸镀面，在所述蒸镀面上设置有多个蒸镀孔，所述蒸镀孔自所述蒸镀面贯穿至所述ITO接触面，且截面呈阶梯状，其特征在于：所述蒸镀孔包括同轴设置的第一段和第二段，所述蒸镀孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐渐收缩状。
2.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。
3.如权利要求2所述的掩模板，其特征在于：所述第二段呈锥形，所述锥形的锥角为4~10度。
4.如权利要求3所述的掩模板，其特征在于：所述掩模板的厚度为18～190μm。
5.如权利要求4所述的掩模板，其特征在于：所述第二段的垂直深度为10～50μm。
6.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述掩模板的材料为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金中的任意一种，厚度为18～45μm。
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