CN203018413U - 一种硅芯清洗用主副槽装置 - Google Patents

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CN203018413U CN 201220630725 CN201220630725U CN203018413U CN 203018413 U CN203018413 U CN 203018413U CN 201220630725 CN201220630725 CN 201220630725 CN 201220630725 U CN201220630725 U CN 201220630725U CN 203018413 U CN203018413 U CN 203018413U
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Inventor
左国军
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Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
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Changzhou Jiejiachuang Precision Machinery Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种硅芯清洗用主副槽装置,包括主槽和副槽所述的主槽和副槽上下设置,中间通过隔板隔开,所述的主槽槽体上部设有第一溢流槽盒,主槽槽体侧壁设有与第一溢流槽盒相通的溢流孔,第一溢流槽盒下方设有一第二溢流槽盒,第一溢流槽盒底板上设有与第二溢流槽连通的溢流孔,第二溢流槽底部设在所述的隔板上,并通过溢流口与副槽连通,所述的副槽设有废水排放口。本实用新型将主、副槽一体化设计,中间用隔板隔开,这样在结构上设计更加简单,节省了原材料,同时减小了硅芯清洗机的整体体积。

Description

一种硅芯清洗用主副槽装置
技术领域
本实用新型涉及太阳能光伏清洗设备和半导体清洗设备领域,尤其涉及一种硅芯清洗用主副槽装置。
背景技术
在太阳能光伏和半导体清洗设备中,主槽是用来清洗,副槽是储水槽或储酸槽,一般是用来补液、预热或制冷或溢流过渡的。一些设备中对酸液温度有特定要求的,副槽可以起到保持温度的作用。现有的硅芯清洗机中,主、副槽一般是分开的两个独立槽体,这样使硅芯清洗机的整体体积偏大,占用了很多空间,同时在结构设计上相对复杂,浪费了一定量的材料。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对上述现有技术存在的缺陷,提供一种硅芯清洗用主副槽装置。
本实用新型采用的技术方案是,设计一种硅芯清洗用主副槽装置,包括主槽和副槽所述的主槽和副槽上下设置,中间通过隔板隔开,所述的主槽槽体上部设有第一溢流槽盒,主槽槽体侧壁设有与第一溢流槽盒相通的溢流孔,第一溢流槽盒下方设有一第二溢流槽盒,第一溢流槽盒底板上设有与第二溢流槽连通的溢流孔,第二溢流槽底部设在所述的隔板上,并通过溢流口与副槽连通,所述的副槽设有废水排放口。
所述的第一溢流槽盒上部设有一上盖,其上设有溢流口,所述上盖与第一溢流槽盒的侧壁形成一高于主槽槽体的溢流池。
所述的第一溢流槽盒端壁上设有酸槽抽风口。
所述的副槽端壁上部设有混酸排放口。
与现有技术相比,本实用新型将主、副槽一体化设计,中间用隔板隔开,这样在结构上设计更加简单,节省了原材料,同时减小了硅芯清洗机的整体体积。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的剖视图;
图2为图1中B-B的剖视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对实用新型进行详细的说明。
如图1、图2所示,本实用新型提出的硅芯清洗用主副槽装置,包括主槽1和副槽2该主槽和副槽上下设置,中间通过隔板8隔开;在主槽1槽体上部设有第一溢流槽盒3,在该主槽槽体侧壁上设有与第一溢流槽盒3相通的溢流孔33,该第一溢流槽盒下方设有第二溢流槽盒4,第一溢流槽盒底板上设有与该第二溢流槽连通的溢流孔31,第二溢流槽底部设在隔板8上,并通过溢流口41与副槽2连通,该副槽端壁的上部设有混酸排放口21,下部一侧设有含酸废水排放口22。
从图1中可以看出,第一溢流槽盒3端壁上设有酸槽抽风口32,该第一溢流槽盒上部还设有一上盖34,该上盖上设有溢流口35,该上盖与第一溢流槽盒的侧壁形成一高于主槽1槽体的溢流池9。
本实用新型应用于硅芯清洗机时,在主槽和副槽外部还装有冷却系统,同时在副槽槽体外壁设液位管等辅助设施。在工作状态下,向主槽中加入足量酸液,启动硅芯清洗机开始对硅芯进行清洗,清洗过程中溢出的酸液通过各个溢流孔流入副槽中,同时抽风设备通过酸槽抽风口进行抽风,冷却系统对主副槽进行冷却;在清洗过程中通过观察液位管液位变化来进行相应加减酸液的操作,待清洗工序完成后,取出硅芯。
本实用新型将主、副槽一体化设计,中间用隔板隔开,这样在结构上设计更加简单,节省了原材料,同时减小了硅芯清洗机的整体体积。
上述实施例仅用于说明本实用新型的具体实施方式。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和变化,这些变形和变都应属于本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种硅芯清洗用主副槽装置,包括主槽(1)和副槽(2)其特征在于:所述的主槽和副槽上下设置,中间通过隔板(8)隔开,所述的主槽槽体上部设有第一溢流槽盒(3),主槽槽体侧壁设有与第一溢流槽盒相通的溢流孔(33),第一溢流槽盒下方设有一第二溢流槽盒(4),第一溢流槽盒底板上设有与第二溢流槽连通的溢流孔(31),第二溢流槽底部设在所述的隔板上,并通过溢流口(41)与副槽连通,所述的副槽设有废水排放口(22)。
2.如权利要求1所述的硅芯清洗用主副槽装置,其特征在于:所述的第一溢流槽盒(3)上部设有一上盖(34),其上设有溢流口(35),所述上盖与第一溢流槽盒的侧壁形成一高于主槽槽体的溢流池(9)。
3.如权利要求1所述的硅芯清洗用主副槽装置,其特征在于:所述的第一溢流槽盒(3)端壁上设有酸槽抽风口(32)。
4.如权利要求1所述的硅芯清洗用主副槽装置,其特征在于:所述副槽(2)的端壁上部设有混酸排放口(21)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN107236994A (zh) * 2017-06-07 2017-10-10 亚洲硅业(青海)有限公司 硅芯清洗装置及清洗效果判断方法
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