CN202844656U - 旋流絮凝澄清设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种旋流絮凝澄清设备，属于水处理领域，适用于城市净化水处理、城市污水、工业污水深度处理及各工矿企业自备水源净化水处理。它包括本体、分离室、混合室、第一絮凝室、第二絮凝室、进水管、喷嘴，所述喷嘴设在所述混合室中，所述喷嘴与所述进水管相连，所述第一絮凝室设在所述第二絮凝室中，所述分离室设置所述第二絮凝室的外围，所述混合室与所述第一絮凝室相通，所述喷嘴为螺旋喷嘴。本实用新型设备不仅通过水流的螺旋运动及网格产生大量微小涡旋，从而有利于絮凝体的形成，而且设备结构简单、无机械设备、操作检修方便、运行稳定可靠。
Description
技术领域
本实用新型属于水处理领域，尤其涉及一种旋流絮凝澄清设备。
背景技术
目前，在我国水质净化处理中，沉淀处理占有重要的地位，在众多的沉淀（澄清）设施中，水力循环澄清池在中小型水厂中以其结构较简单，无需机械设备而得到了广泛的应用。
传统的水力循环澄清池存在絮凝时间短、絮凝室容积较小、使回流泥渣接触絮凝作用的发挥受到影响，同时耗矾量较大。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种旋流絮凝澄清设备，以解决现有水力循环池絮凝室容积小、絮凝时间短、絮凝效果不显著的问题。
本实用新型技术方案如下：一种旋流絮凝澄清设备，包括本体、分离室、混合室、第一絮凝室、第二絮凝室、进水管、喷嘴，所述喷嘴设在所述混合室中，所述喷嘴与所述进水管相连，所述第一絮凝室设在所述第二絮凝室中，所述分离室设置所述第二絮凝室的外围，所述混合室与所述第一絮凝室相通，所述喷嘴为螺旋喷嘴。
本实用新型相对现有技术具有以下有益效果：
1、采用螺旋式喷嘴，通过水流的螺旋运动产生大量涡旋，从而有利于絮凝体的形成。
2、第一絮凝室的截面为矩形，增大了絮凝池容积，延长了絮凝时间，增加了颗粒的碰撞速率。
3、在第一絮凝室和第二絮凝室内增加了网格，当水流通过网格时，相继收缩、扩大、形成大量微涡流，通过微旋涡加速颗粒碰撞，形成絮凝体，从而提高絮凝效果。
4、设备结构简单、操作检修方便、运行稳定可靠。
5、适合城市净化水处理，如：城市污水、工业污水深度处理及各工矿企业自备水源净化水处理。
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
附图说明
图1为传统水力循环澄清池的结构示意图；
图2为本实用新型的俯视图；
图3为图2中A-A视图；
图4为图2中B-B视图。
附图标记含义为：本体1、分离室3、清水收集区4、进水管6、喷嘴7、混合室8、第一絮凝室9、第二絮凝室10、网格11、斜板12、辐射槽13、环形集水槽14、总出水渠15、出水管16、虹吸管18、排泥管19、放空管20、污泥斗21、喉管101。
具体实施方式
图1为传统水力循环澄清池的结构示意图；它包括分离室3、进水管6、喷嘴7、喉管101、第一絮凝室9、第二絮凝室10、污泥斗21。原水从池底通过进水管6进入，先经喷嘴7喷入喉管101，因此在喉管下部喇叭口附近造成真空而吸入回流泥渣。原水与回流泥渣在喉管中剧烈混合后，被送入第一絮凝室9和第二絮凝室10。从第二絮凝室10流出的泥水混合液，在分离室3中进行泥水分离，清水向上，泥渣则一部分进入泥渣浓缩室，一部分被吸入喉管重新循环，如此周而复始。
如图2、3、4所示，本实用新型一种旋流絮凝澄清设备，包括本体1、分离室3、混合室8、第一絮凝室9、第二絮凝室10、进水管6、喷嘴7，喷嘴7设在混合室8中，喷嘴7与进水管6相连，第一絮凝室9设在第二絮凝室10中，第一絮凝室9和第二絮凝室10内分别设有网格11，分离室3设置第二絮凝室10的外围，混合室8与第一絮凝室9相通，喷嘴7为螺旋喷嘴。第一絮凝室9的纵向截面为矩形。第一絮凝室9和第二絮凝室10内分别设有网格11。分离室3中设有斜板12。增加斜板，使沉淀面积增大，当水流通过斜板时，有利于颗粒的去除，从而使沉淀效率提高。
分离室3上部为清水收集区4，清水收集区4包括辐射槽13、环形集水槽14、总出水渠15、出水管16、溢流管，辐射槽13设在第二絮凝室10的外围，辐射槽13外围设有环形集水槽14，环形集水槽14与总出水渠15相通，总出水渠15底部设有出水管16和溢流管。
本体1底部设有储泥区5，储泥区5中设置有污泥斗21、虹吸管18、排泥管19，虹吸管18与排泥管19相连。
工作过程如下：加入了混凝剂的原水从进水管6进入螺旋式喷嘴7，以高速喷入混合室8，在混合室8的底部周围形成真空，吸入回流泥渣，经过泥渣与原水的迅速混合，进入第一絮凝室9以及第二絮凝室10进行混凝处理。水流从第二絮凝室10进入分离室3，经斜板12沉淀后，清水向上由辐射槽13收集进入环形集水槽14，经总出水渠15，最终从出水管16流出。而经斜板12沉淀后的一部分泥渣进入储泥区5浓缩后通过排泥管19定期予以排出，而大部分泥渣被吸入混合室8进行回流。当需要彻底清理维护设备时，可利用放空管20放空。
Claims (4)
1.一种旋流絮凝澄清设备，包括本体、分离室、混合室、第一絮凝室、第二絮凝室、进水管、喷嘴，所述喷嘴设在所述混合室中，所述喷嘴与所述进水管相连，所述第一絮凝室设在所述第二絮凝室中，其特征在于：所述分离室（3）设置所述第二絮凝室（10）的外围，所述混合室（8）与所述第一絮凝室（9）相通，所述喷嘴（7）为螺
旋喷嘴。
2.根据权利要求1所述的一种旋流絮凝澄清设备，其特征在于：所述第一絮凝室（9）的纵向截面为矩形。
3.根据权利要求1或2所述的一种旋流絮凝澄清设备，其特征在于：所述第一絮凝室（9）和第二絮凝室（10）的内分别设有网格（11）。
4.根据权利要求3所述的一种旋流絮凝澄清设备，其特征在于：所述分离室（3）中设有斜板（12）。
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| CN 201220573277 CN202844656U (zh) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | 旋流絮凝澄清设备 |
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| CN 201220573277 CN202844656U (zh) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | 旋流絮凝澄清设备 |
Publications (1)
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| CN202844656U true CN202844656U (zh) | 2013-04-03 |
Family
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Family Applications (1)
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| CN 201220573277 Expired - Lifetime CN202844656U (zh) | 2012-11-02 | 2012-11-02 | 旋流絮凝澄清设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN202844656U (zh) |
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2012
- 2012-11-02 CN CN 201220573277 patent/CN202844656U/zh not_active Expired - Lifetime
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| GR01 | Patent grant | ||
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| CX01 | Expiry of patent term |
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