CN202839530U - 一种e型电子枪磁透镜聚焦装置 - Google Patents
一种e型电子枪磁透镜聚焦装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202839530U CN202839530U CN 201220479697 CN201220479697U CN202839530U CN 202839530 U CN202839530 U CN 202839530U CN 201220479697 CN201220479697 CN 201220479697 CN 201220479697 U CN201220479697 U CN 201220479697U CN 202839530 U CN202839530 U CN 202839530U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic lens
- lens focusing
- electronic gun
- electron gun
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
本实用新型揭示了一种e型电子枪磁透镜聚焦装置，包括电子枪本体，所述的电子枪本体底端设有永磁体，枪头两侧设有导磁体，两个所述的导磁体均开有导磁槽，所述的导磁槽内填充有磁块和/或导磁块。该电子束蒸发镀膜用e型电子枪磁透镜聚焦装置的无线圈式磁场偏转系统调节装置只要适当调节增减磁透镜中的导磁体磁极中槽内导磁体块和永磁体块数量，就可以实现磁透镜聚焦的最佳状态，有效的解决了传统e 型枪中电子束难以实现磁透镜聚焦的最佳状态问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及e型电子枪磁透镜聚焦装置磁透镜聚焦装置，更具体的说涉及一种用于电子束蒸发镀膜用领域的无线圈式e型电子枪磁透镜聚焦装置磁透镜聚焦装置。
背景技术
电子束蒸发镀膜系统需要采用e型电子枪磁透镜聚焦装置的磁透镜聚焦装置，在电子束蒸发镀膜系统中，阴极灯丝加热发射电子，在负高压电场下，经过磁透镜聚焦和磁场偏转系统作用下加速偏转270°，电子束垂直打到蒸发镀膜材料上进行镀膜。磁聚焦现象一般都是利用载流螺线管中激发的磁场来实现的。现有的磁透镜聚焦装置在实际应用中采用载流的线圈所激发的非均匀磁场来实现磁聚焦作用。实践中通过调节线圈的电流大小往往难以实现磁透镜聚焦的最佳状态。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是实现一种磁透镜聚焦性能高的电子束蒸发镀膜用e型电子枪磁透镜聚焦装置磁透镜聚焦装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：一种e型电子枪磁透镜聚焦装置，包括电子枪本体，所述的电子枪本体底端设有永磁体，枪头两侧设有导磁体，两个所述的导磁体均开有导磁槽，所述的导磁槽内填充有磁块和/或导磁块。
所述的两个导磁体内的导磁槽相向设置，与电子射出方向垂直。
本实用新型的优点在于该电子束蒸发镀膜用e型电子枪磁透镜聚焦装置的无线圈式磁场偏转系统调节装置只要适当调节增减磁透镜中的导磁体磁极中槽内导磁体块和永磁体块数量，就可以实现磁透镜聚焦的最佳状态，有效的解决了传统e 型枪中电子束难以实现磁透镜聚焦的最佳状态问题。
附图说明
下面对本实用新型说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明：
图1为e型电子枪磁透镜聚焦装置结构示意图；
上述图中的标记均为：1、电子枪本体；2、永磁体；3、灯丝；4、导磁体；5、导磁槽。
具体实施方式
参见图1可知，电子枪本体1内的阴极灯丝1接负高压，阳极接地，阴极灯丝1供电加热发射电子，并由枪头处喷出，e 型电子枪的磁透镜聚焦由永磁体2和导磁体4，永磁体2设置于电子枪本体1底端，图1中，永磁体2左侧为N极，右侧为S极。导磁体4设有两个分别位于电子枪本体1枪头两侧，导磁体4作为第一磁极具有良导磁性，导磁体4均匀磁化，无体磁荷，仅有面磁荷分布在端面上，导磁体4沿枪头向外延伸，并在端部相向延伸，该相向延伸的导磁体4部分开有导磁槽5，导磁槽5用于填充磁块和导磁块，根据电子束蒸发镀膜实际环境，调节增减导磁槽5内磁块和导磁块数量，即可改变导磁体4磁极表面的磁荷密度。枪头喷射出的电子经过磁透镜聚焦和磁场偏转系统作用下加速偏转270°，垂直打到蒸发镀膜材料上，即可准确的把蒸发材料以圆心为中心均匀加热进行镀膜。
实验结果表明，在实际真空镀膜设备系统环境下，装配调试e型电子枪磁透镜聚焦装置磁透镜聚焦装置时，只要适当调节增减磁透镜中的导磁体导磁槽5内导磁块和磁块数量，就可以实现磁透镜聚焦的最佳状态，从而解决了传统e 型枪中电子束难以实现磁透镜聚焦的最佳状态问题。
上面结合附图对本发明进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。
Claims (2)
1.一种e型电子枪磁透镜聚焦装置，包括电子枪本体（1），其特征在于：所述的电子枪本体（1）底端设有永磁体（2），枪头两侧设有导磁体（4），两个所述的导磁体（4）均开有导磁槽（5），所述的导磁槽（5）内填充有磁块和/或导磁块。
2.根据权利要求1所述的e型电子枪磁透镜聚焦装置，其特征在于：所述的两个导磁体（4）内的导磁槽（5）相向设置，与电子射出方向垂直。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201220479697 CN202839530U (zh) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 一种e型电子枪磁透镜聚焦装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201220479697 CN202839530U (zh) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 一种e型电子枪磁透镜聚焦装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202839530U true CN202839530U (zh) | 2013-03-27 |
Family
ID=47951174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201220479697 Expired - Fee Related CN202839530U (zh) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 一种e型电子枪磁透镜聚焦装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN202839530U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104357799A (zh) * | 2014-11-11 | 2015-02-18 | 大连理工大学 | 一种双e型电子枪的蒸镀装置及利用该装置进行蒸镀方法 |
| CN107026063A (zh) * | 2017-04-10 | 2017-08-08 | 金华职业技术学院 | 具有快速脉冲工作模式的小型非放射性电子源的控制电路 |
-
2012
- 2012-09-19 CN CN 201220479697 patent/CN202839530U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104357799A (zh) * | 2014-11-11 | 2015-02-18 | 大连理工大学 | 一种双e型电子枪的蒸镀装置及利用该装置进行蒸镀方法 |
| CN107026063A (zh) * | 2017-04-10 | 2017-08-08 | 金华职业技术学院 | 具有快速脉冲工作模式的小型非放射性电子源的控制电路 |
| CN107026063B (zh) * | 2017-04-10 | 2018-08-03 | 金华职业技术学院 | 具有快速脉冲工作模式的小型非放射性电子源的控制电路 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100355933C (zh) | 具有用于较大表面积的靶的强力磁引导装置的电弧蒸发器 | |
| US5621324A (en) | Magnetic field generator for MRI | |
| CN101363114B (zh) | 一种磁场增强电弧离子镀沉积工艺 | |
| CN107491097B (zh) | 基于三维磁场的磁性颗粒调控装置 | |
| CN111172504B (zh) | 一种磁控溅射阴极 | |
| JP2003007500A (ja) | 強度可変型多極ビームライン磁石 | |
| KR20110065480A (ko) | 스퍼터링 박막형성장치 | |
| CN202839530U (zh) | 一种e型电子枪磁透镜聚焦装置 | |
| EP3033796A1 (en) | Hybrid ionic electronic energy storage device | |
| US6249200B1 (en) | Combination of magnets for generating a uniform external magnetic field | |
| US4761584A (en) | Strong permanent magnet-assisted electromagnetic undulator | |
| US3883761A (en) | Electrostatic extraction method and apparatus for cyclotrons | |
| CN201158701Y (zh) | 耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 | |
| CN103440953A (zh) | 一种超导波荡器磁体 | |
| US11948742B2 (en) | Systems and methods for enhancing electrical energy storage | |
| KR101378384B1 (ko) | 사이클로트론 | |
| CN109166779B (zh) | 一种相对论磁控管用永磁磁路系统 | |
| CN213628292U (zh) | 一种新型磁力固定器 | |
| CN207765438U (zh) | 一种可调节高阻抗小型化高压二极管 | |
| US11430589B2 (en) | Hybrid magnet structure | |
| US20120193227A1 (en) | Magnet array for a physical vapor deposition system | |
| CN103972005A (zh) | 电子枪用电子束流收束装置 | |
| CN102623133B (zh) | 一种用于烧结钕铁硼磁体多极充磁的方法 | |
| CN216353639U (zh) | 一种磁保持继电器的充磁夹具 | |
| CN219370722U (zh) | 一种烧结钕铁硼磁体加工充磁装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130327 Termination date: 20130919 |