CN202668308U - 抛光机 - Google Patents

抛光机 Download PDF

Info

Publication number
CN202668308U
CN202668308U CN 201220248840 CN201220248840U CN202668308U CN 202668308 U CN202668308 U CN 202668308U CN 201220248840 CN201220248840 CN 201220248840 CN 201220248840 U CN201220248840 U CN 201220248840U CN 202668308 U CN202668308 U CN 202668308U
Authority
CN
China
Prior art keywords
polishing
motor
patrix
die
panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 201220248840
Other languages
English (en)
Inventor
冷志红
蔡灵玲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KUNSHAN MINGBEN PHOTOELECTRIC CO Ltd
Original Assignee
KUNSHAN MINGBEN PHOTOELECTRIC CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KUNSHAN MINGBEN PHOTOELECTRIC CO Ltd filed Critical KUNSHAN MINGBEN PHOTOELECTRIC CO Ltd
Priority to CN 201220248840 priority Critical patent/CN202668308U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN202668308U publication Critical patent/CN202668308U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

本实用新型涉及一种抛光机,包括电机、支架、弯管、抛光上模、抛光下模和工作台,所述电机设置在支架的顶部,所述电机的伸出杆连接抛光上模,在抛光上模的上方设有抛光液进液机构,该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管,所述抛光下模设置在工作台上,该抛光下模的中心套接有传动轴,该传动轴底部连接到工作台内的电机,其特征在于:所述抛光上模的表面覆有一层抛光面板,在抛光面板上开设有凹槽,在所述抛光面板上还开设有通孔。本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理,开设的凹槽防止完成抛光后的晶片吸附在抛光上模表面,且有利于抛光液的流动,很大程度上提高了晶片的抛光效果。

Description

抛光机
技术领域:
本实用新型涉及一种抛光机,尤其涉及一种防止晶片被吸附在抛光上模表面的抛光机。
背景技术:
在我们现有的技术中,用来对光学低通滤波器晶片进行抛光处理的抛光机,采用的是将需要抛光的晶片摆放在抛光下模上,通过内部电机带动传动轴转动,从而带动抛光下模呈行星运行模式转动,通过抛光上模对晶片进行抛光处理,且,在抛光的过程中需要不断的由弯管处注入抛光液,这样,在完成抛光工序时,抛光后的晶片很容易由于抛光液的粘性导致晶片被粘接吸附在抛光上模的表面,从而影响抛光质量。
发明内容:
本实用新型解决的技术问题是提供一种有利于抛光液流动,并防止晶片被吸附在抛光上模表面的抛光机。
本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是:一种抛光机,包括电机、支架、弯管、抛光上模、抛光下模和工作台,所述电机设置在支架的顶部,所述电机的伸出杆连接抛光上模,在抛光上模的上方设有抛光液进液机构,该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管,所述抛光下模设置在工作台上,该抛光下模的中心套接有传动轴,该传动轴底部连接到工作台内的电机,所述抛光上模的表面覆有一层抛光面板,在抛光面板上开设有凹槽,在所述抛光面板上还开设有通孔。
进一步的,为了方便抛光液的流动,所述凹槽是由横向槽和竖向槽交错组成的,且横向槽和竖向槽的宽度相等。
更进一步的,为了有利于抛光液能全面进入到抛光上模和抛光下模之间,所述通孔的个数至少为五个,且所述通孔在抛光面板上的分布是无规律的。
本实用新型的有益效果是:本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理,开设的凹槽防止完成抛光后的晶片吸附在抛光上模表面,且有利于抛光液的流动,很大程度上提高了晶片的抛光效果。
附图说明:
下面结合附图对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型结构的示意图;
图2是本实用新型中抛光上、下模的示意图;
图3是本实用新型中抛光上模的表面示意图。
图中:1、电机  2、支架  3、弯管  4、抛光上模  41、抛光面板  42、凹槽  43、通孔  5、抛光下模  6、工作台  7、传动轴。
具体实施方式:
如图1~3所示一种抛光机,包括电机1、支架2、弯管3、抛光上模4、抛光下模5和工作台6,所述电机1设置在支架2的顶部,所述电机1的伸出杆连接抛光上模4,在抛光上模4的上方设有抛光液进液机构,该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管3,抛光液经由弯管3流入到抛光上模和抛光下模内,所述抛光下模5设置在工作台6上,该抛光下模5的中心套接有传动轴7,该传动轴7底部连接到工作台6内的电机,所述抛光上模4的表面覆有一层抛光面板41,在抛光面板41上开设有凹槽42,在所述抛光面板41上还开设有通孔43,该通孔43的主要作用是将抛光液更流畅的引到抛光上模和抛光下模之间。
进一步的,为了方便抛光液的流动,所述凹槽42是由横向槽和竖向槽交错组成的,且横向槽和竖向槽的宽度相等。
更进一步的,为了有利于抛光液能全面进入到抛光上模和抛光下模之间,所述通孔43的个数至少为五个,且所述通孔43在抛光面板41上的分布是无规律的。
本抛光机用于光学低通滤波器晶片的抛光处理,开设的凹槽42防止完成抛光后的晶片被吸附在抛光上模表面,且有利于抛光液的流动,很大程度上提高了晶片的抛光效果。
需要强调的是,以上是本实用新型的较佳实施列而已,并非对此实用新型在外观上作任何形式的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (3)

1.一种抛光机,包括电机(1)、支架(2)、弯管(3)、抛光上模(4)、抛光下模(5)和工作台(7),所述电机(1)设置在支架(2)的顶部,所述电机的伸出杆连接抛光上模(4),在抛光上模(4)的上方设有抛光液进液机构,该抛光液进液机构主要包括沿伸出杆为轴心阵列分布的弯管(3),所述抛光下模(5)设置在工作台(6)上,该抛光下模的中心套接有传动轴(7),该传动轴(7)底部连接到工作台内的电机,其特征在于:所述抛光上模(4)的表面覆有一层抛光面板(41),在抛光面板(41)上开设有凹槽(42),在所述抛光面板(41)上还开设有通孔(43)。
2.根据权利要求1所述的抛光机,其特征在于:所述凹槽(42)是由横向槽和竖向槽交错组成的,且横向槽和竖向槽的宽度相等。
3.根据权利要求1所述的抛光机,其特征在于:所述通孔(43)的个数至少为五个,且所述通孔(43)在抛光面板上的分布是无规律的。
CN 201220248840 2012-05-30 2012-05-30 抛光机 Expired - Fee Related CN202668308U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201220248840 CN202668308U (zh) 2012-05-30 2012-05-30 抛光机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201220248840 CN202668308U (zh) 2012-05-30 2012-05-30 抛光机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN202668308U true CN202668308U (zh) 2013-01-16

Family

ID=47489241

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201220248840 Expired - Fee Related CN202668308U (zh) 2012-05-30 2012-05-30 抛光机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN202668308U (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108081148A (zh) * 2016-11-23 2018-05-29 镇江亚昆机械有限公司 一种具有润滑功能的抛光机
CN114833660A (zh) * 2022-05-20 2022-08-02 江苏爱矽半导体科技有限公司 一种晶圆减薄设备及其使用方法
CN116673700A (zh) * 2023-06-26 2023-09-01 深圳市维高模塑有限公司 一种滤水网智能化一体成型设备及生产方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108081148A (zh) * 2016-11-23 2018-05-29 镇江亚昆机械有限公司 一种具有润滑功能的抛光机
CN114833660A (zh) * 2022-05-20 2022-08-02 江苏爱矽半导体科技有限公司 一种晶圆减薄设备及其使用方法
CN116673700A (zh) * 2023-06-26 2023-09-01 深圳市维高模塑有限公司 一种滤水网智能化一体成型设备及生产方法
CN116673700B (zh) * 2023-06-26 2024-02-20 深圳市维高模塑有限公司 一种滤水网智能化一体成型设备及生产方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN206366917U (zh) 一种平面磨床冷却装置
CN203062455U (zh) 一种石油筛管内外管壁打磨加工处理装置
CN104889125B (zh) 一种油缸内壁清洗装置
CN202668308U (zh) 抛光机
CN108381376B (zh) 一种超声研磨蓝宝石镜片的加工装置
CN102229067A (zh) 一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置
CN107900807A (zh) 一种大型管件外表面打磨车
CN203611111U (zh) 一种车轮正面抛光装置
CN106670817A (zh) 一种机械零件精加工装置
CN202088036U (zh) 一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置
CN205799111U (zh) 汽车轴磨削加工处理装置
CN206066152U (zh) 一种螺杆抛光机旋转磨削单元
CN202030653U (zh) 门式钻孔机
CN202180426U (zh) 单晶硅棒端面研磨盘
CN204525097U (zh) 内孔抛光机
CN201632917U (zh) 一种直线打蜡装置
CN204505024U (zh) 抛光机磨头中间给液装置
CN203579338U (zh) 一种抛光轮磨面机
CN202667186U (zh) 一种微型精密钢球清洗抛光自动生产线
CN206549572U (zh) 多工位分散机
CN206010701U (zh) 一种机针磨尖机
CN201950550U (zh) 全自动弧形凹面宝石研磨机
CN207930417U (zh) 一种大型管件外表面打磨车
CN205799256U (zh) 一种先进制造打磨处理系统
CN206010813U (zh) 一种上吸式扫光机

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130116

Termination date: 20130530