CN202601704U - 一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置。现有技术未对清洗所用的氢氟酸进行回收利用而直接作为废液处理，从而造成了成本浪费，另外增加了操作人员受氢氟酸危害的风险。本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置包括第一氢氟酸槽和第二氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和第一连接管道流入第一氢氟酸槽。本实用新型有效降低了成本，并降低了操作人员受氢氟酸危害的风险。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳电池制造领域，具体涉及一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置。
背景技术
在晶体硅太阳电池行业中，氢氟酸(HF)因能去除硅片表面的氧化物而获得了广泛的应用，例如作为清洗剂或配合氧化剂对硅片进行腐蚀。氢氟酸是一种较危险的酸，其易与人体骨骼中的钙离子反应，从而对人体造成严重的伤害，因而在配置或更换氢氟酸溶液时操作人员需谨慎操作。氢氟酸废液需要进行严格处理后才能排放，现通常通过氢氧化钙溶液(石灰水)与氟离子形成氟化钙沉淀，但该种处理可能使氟离子的浓度仍达不到废水排放的要求，还需要通过硫酸铝或聚合氯化铝或膜过滤工艺等进行进一步处理。
现晶体硅太阳电池行业的清洗装置可能具有多个氢氟酸槽，其浓度会存在一些差别，现有技术中对该些不同槽中的氢氟酸在使用一定周期后均作为废液并加以处理后排放，从而造成原材料的浪费，另外增加了操作人员配置或更换氢氟酸的次数，从而增加了操作人员受氢氟酸危害的风险。
因此，如何提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置来对一些可回收利用的氢氟酸进行回收利用，从而降低成本和操作人员的安全风险，已成为业界亟待解决的技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，通过所述清洗装置可节约成本，并降低操作人员受氢氟酸危害的风险。
为实现上述目的，本实用新型将提供一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，所述清洗装置包括第一氢氟酸槽和第二氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和第一连接管道流入第一氢氟酸槽。
在一较佳实施例中，所述第二氢氟酸槽具有连接至溢流管道且接收溢流氢氟酸的缓存区，所述缓存区通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽。
在一较佳实施例中，所述第一氢氟酸槽中氢氟酸浓度为6-7％，用于去除磷硅玻璃。
在一较佳实施例中，所述第二氢氟酸槽中氢氟酸浓度为8-9％，用于去除金属和二氧化硅。
在一较佳实施例中，所述清洗装置在所述第一氢氟酸槽与第二氢氟酸槽间还具有湿法刻蚀槽。
在一较佳实施例中，所述湿法刻蚀槽中的刻蚀液为氢氟酸与硝酸的混合溶液。
在一较佳实施例中，所述清洗装置在所述第一氢氟酸槽与第二氢氟酸槽间还具有多个水洗槽。
在一较佳实施例中，所述清洗装置还包括第三氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第二氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第三氢氟酸槽具有第二溢流管道，所述第二溢流管道通过向下倾斜设置的第二连接管道连接至第二氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第二溢流管道和第二连接管道流入第二氢氟酸槽。
在一较佳实施例中，所述清洗装置还可包括第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第四氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第一氢氟酸槽具有第三溢流管道，所述第三溢流管道通过向下倾斜设置的第三连接管道连接至第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第三溢流管道和第三连接管道流入第四氢氟酸槽中。
与现有技术中未对清洗所用的氢氟酸进行回收利用而直接作为废液处理，从而造成了成本浪费，另外增加了操作人员受氢氟酸危害的风险相比，本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置包括第一氢氟酸槽和第二氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和连接管道流入第一氢氟酸槽。本实用新型通过将浓度较高的氢氟酸槽中的氢氟酸通过溢流的方式回收利用至浓度较低的氢氟酸槽，从而降低了成本，降低了操作人员受氢氟酸危害的风险。
附图说明
图1为本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置的组成结构示意图。
具体实施方案
下面结合具体实施例及附图来详细说明本实用新型的目的及功效。
参见图1，本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置用于清洗管式扩散后硅片上的磷硅玻璃(PSG)，并对硅片边缘及背面的PN结进行刻蚀，所述清洗设备通过棍轮传输硅片，所述清洗设备包括第一氢氟酸槽1、刻蚀槽2、第一水洗槽3、碱洗槽4、第二水洗槽5、第二氢氟酸槽6和第三水洗槽7，所述第二氢氟酸槽6中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽1中氢氟酸的浓度。
需说明的是，水洗槽的数量可依据需求进行设置，例如可在刻蚀槽2和碱洗槽4之间设置多个水洗槽，也可在碱洗槽4和第二氢氟酸槽6设置多个水洗槽。
在本实施例中，所述第一氢氟酸槽1中氢氟酸浓度为6-7％，用于去除磷硅玻璃；所述第二氢氟酸槽6中氢氟酸浓度为8-9％，用于去除金属和二氧化硅；所述湿法刻蚀槽中的刻蚀液为氢氟酸与硝酸的混合溶液。
所述第二氢氟酸槽6具有第一溢流管道8，所述第一溢流管道8通过向下倾斜设置的第一连接管道9连接至第一氢氟酸槽1，所述第二氢氟酸槽6中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道8和第一连接管道9流入第一氢氟酸槽1。所述预设液位为从第二氢氟酸槽6的槽底至第一溢流管道8入口的距离。所述清洗装置对第二氢氟酸槽6进行补液时，所述第二氢氟酸槽6中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道8和第一连接管道9流入第一氢氟酸槽1。
在本实用新型其他实施例中，所述第二氢氟酸槽6可具有连接至第一溢流管道8且接收溢流氢氟酸的缓存区，所述缓存区通过向下倾斜设置的第一连接管道9连接至第一氢氟酸槽1。
在本实用新型其他实施例中，所述清洗装置还可包括第三氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第二氢氟酸槽6中氢氟酸的浓度，所述第三氢氟酸槽具有第二溢流管道，所述第二溢流管道通过向下倾斜设置的第二连接管道连接至第二氢氟酸槽6，所述第三氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第二溢流管道和第二连接管道流入第二氢氟酸槽6。第二溢流管道和第二连接管道分别与第一溢流管道8和第一连接管道9类似，在此不再赘述。
在本实用新型其他实施例中，所述清洗装置还可包括第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽6中的氢氟酸浓度大于第四氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第一氢氟酸槽6具有第三溢流管道，所述第三溢流管道通过向下倾斜设置的第三连接管道连接至第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽6中超过预设液位的氢氟酸通过第三溢流管道和第三连接管道流入第四氢氟酸槽中。第三溢流管道和第三连接管道分别与第一溢流管道8和第一连接管道9类似，在此不再赘述。
当使用本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置时，通过棍轮传输将硅片传送至第一氢氟酸槽1去除磷硅玻璃，之后将硅片传送至刻蚀槽2中刻蚀去除正面区域外的PN结，之后将硅片传送至第一水洗槽3进行水洗，之后进入碱洗槽4进行几十秒的短时腐蚀，接着进入第二水洗槽5进行清洗，然后进入第二氢氟酸槽6去除碱金属和二氧化硅，最后进入第三水洗槽7对硅片进行清洗；当第二氢氟酸槽6使用一段时间后，对其进行补液，第二氢氟酸槽6中的一部分液体溢流进第一溢流管道8之后通过第一连接管道9流入第一氢氟酸槽1。
综上所述，本实用新型的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置包括第一氢氟酸槽1和第二氢氟酸槽6，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和连接管道流入第一氢氟酸槽。本实用新型通过将浓度较高的氢氟酸槽中的氢氟酸通过溢流的方式回收利用至浓度较低的氢氟酸槽，从而降低了成本，降低了操作人员受氢氟酸危害的风险。
Claims (10)
1.一种可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，所述清洗装置包括第一氢氟酸槽和第二氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第一氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，其特征在于，所述第二氢氟酸槽具有第一溢流管道，所述第一溢流管道通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和第一连接管道流入第一氢氟酸槽。
2.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述第二氢氟酸槽具有连接至第一溢流管道且接收溢流氢氟酸的缓存区，所述缓存区通过向下倾斜设置的第一连接管道连接至第一氢氟酸槽。
3.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述第一氢氟酸槽中氢氟酸浓度为6-7％，用于去除磷硅玻璃。
4.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述第二氢氟酸槽中氢氟酸浓度为8-9％，用于去除金属和二氧化硅。
5.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置在所述第一氢氟酸槽与第二氢氟酸槽间还具有湿法刻蚀槽。
6.如权利要求5所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述湿法刻蚀槽中的刻蚀液为氢氟酸与硝酸的混合溶液。
7.如权利要求1或5所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置在所述第一氢氟酸槽与第二氢氟酸槽间还具有多个水洗槽。
8.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置对第二氢氟酸槽进行补液，所述第二氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第一溢流管道和第一连接管道流入第一氢氟酸槽。
9.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括第三氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第二氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第三氢氟酸槽具有第二溢流管道，所述第二溢流管道通过向下倾斜设置的第二连接管道连接至第二氢氟酸槽，所述第三氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第二溢流管道和第二连接管道流入第二氢氟酸槽。
10.如权利要求1所述的可进行氢氟酸回收利用的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还可包括第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽中的氢氟酸浓度大于第四氢氟酸槽中氢氟酸的浓度，所述第一氢氟酸槽具有第三溢流管道，所述第三溢流管道通过向下倾斜设置的第三连接管道连接至第四氢氟酸槽，所述第一氢氟酸槽中超过预设液位的氢氟酸通过第三溢流管道和第三连接管道流入第四氢氟酸槽中。
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| CN105185873A (zh) * | 2015-10-23 | 2015-12-23 | 乐山新天源太阳能科技有限公司 | 太阳能电池片生产工艺 |
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