CN202438485U - 一种重复利用水资源的硅片清洗系统及其清洗槽 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种重复利用水资源的硅片清洗系统及其清洗槽，包括初洗槽和漂洗槽，还包括：用于连通初洗槽的进水口和漂洗槽的出水口的通道；用于将漂洗槽的液体流回初洗槽的液体回流装置，液体回流装置与通道相连。工作时，通过液体回流装置将漂洗槽的液体沿通道流回到初洗槽，这样就避免了将漂洗槽里的液体直接倒掉，使液体重复利用，减少了水资源的浪费，降低了污水处理带来的成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池的技术领域，更具体地说，涉及一种重复利用水资源的硅片清洗系统及其清洗槽。
背景技术
半导体器件生产中硅片必须经严格的清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面的污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。硅片清洗槽是太阳能电池行业广泛使用的清洗设施。硅片清洗是晶体硅片加工、太阳能电池加工的关键工序，清洗硅片水消耗量在企业排放量中占有相当重要的比例，一直是影响企业减排的瓶颈。
当前，太阳能电池行业使用的硅片清洗设备，大多都是国外引进的设备，有些国内设备，但一般也都借助了国外设计理念，即：计算机程序控制给排水。除药液槽外，其他几个初洗、药液洗、清洗、漂洗槽的水，都是从下给水，从上溢流。最后漂洗槽的水虽然还是清澈见底，但是由于工艺的需要，就不得不将其放掉，哗哗的清水全部流入水沟，不仅白白造成水资源的浪费，还给工厂污水处理带来了麻烦和成本。
综上所述，如何减少水资源的浪费，以降低污水处理带来的成本，成为目前本领域技术人员亟待解决的问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型提供了一种重复利用水资源的硅片清洗槽，减少水资源的浪费，以降低污水处理带来的成本。
为了达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种重复利用水资源的硅片清洗槽，包括初洗槽和漂洗槽，还包括：
用于连通所述初洗槽的进水口和所述漂洗槽的出水口的通道；
用于将漂洗槽的液体流回初洗槽的液体回流装置，所述液体回流装置与所述通道相连。
优选地，上述的重复利用水资源的硅片清洗槽中，所述初洗槽的进水口的高度低于所述漂洗槽的出水口的高度。
优选地，上述的重复利用水资源的硅片清洗槽中，所述液体回流装置为逆流阀。
优选地，上述的重复利用水资源的硅片清洗槽中，所述液体回流装置为水泵。
一种重复利用水资源的硅片清洗系统，其特征在于，具有上任一项所述的清洗槽。
从上述的技术方案可以看出，本实用新型提供的重复利用水资源的硅片清洗槽，包括初洗槽和漂洗槽，还包括用于连通初洗槽的进水口和漂洗槽的出水口的通道，以及用于将漂洗槽的液体流回初洗槽的液体回流装置，且液体回流装置与通道相连。工作时，通过液体回流装置将漂洗槽的液体沿通道流回到初洗槽，这样就避免了将漂洗槽里的液体直接倒掉，使液体重复利用，减少了水资源的浪费，降低了污水处理带来的成本。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的重复利用水资源的硅片清洗系统的结构示意图；
图2为本实用新型实施例提供的控制重复利用水资源的硅片清洗系统的电气图。
上图中：
第一电机1、第二电机2、滑轨3、机械手4、初洗槽5、漂洗槽6、通道7。
具体实施方式
本实用新型提供了一种重复利用水资源的硅片清洗槽，减少水资源的浪费，以降低污水处理带来的成本。
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参考附图1-图2，其中，图1为本实用新型实施例提供的重复利用水资源的硅片清洗系统的结构示意图；图2为本实用新型实施例提供的控制重复利用水资源的硅片清洗系统的电气图。
太阳能硅片的清洗过程：首先对硅片进行初洗，然后将硅片进行药液洗和超声波洗，最后在漂洗槽6里进行漂洗将残留在硅片上的药液带走。由于对硅片的初洗只是将表面的污染物洗掉，对清洗液的水质的要求较低，硅片经过药液洗后进入到漂洗槽6里将硅片表面上附着的药液清洗掉，对水质的要求比较高，硅片在漂洗槽6漂洗后，漂洗槽6里的水质还能满足初洗槽5对水质的标准，若把漂洗槽6里的水回流到初洗槽5里可以节省大量的水，同时还可以降低处理污水产生的成本，因此本实用新型提供了一种重复利用水资源的硅片清洗槽。为了能够实现漂洗槽6里的水回流到初洗槽5，本实用新型将初洗槽5的进水口和漂洗槽6的出水口通过通道7连通，使漂洗槽6里的水能够沿着通道7回流到初洗槽5里。为了给漂洗槽6里的水提供动力，还设置了用于将漂洗槽6里的水回流到初洗槽5的水回流装置，且将水回流装置与通道7相连，这样通过水回流装置的工作可以使漂洗槽6里的水通过通道7回流到初洗槽5，待 初洗槽5里的水质不能达到初洗标准时，再将初洗槽5里的水由底部的出水口放掉，这样既可以节省水资源而且降低了污水处理的成本。
为了便于漂洗槽6里的水回流到初洗槽5里，本实用新型将初洗槽5的进水口的高度设置的低于漂洗槽6的出水口的高度，当漂洗槽6里的水位达到一定高度后，打开漂洗槽6的出水口，漂洗槽6里的水沿着通道7进入到初洗槽5，在初洗槽5对硅片进行清洗。
本实用新型实施例中提供的水回流装置为逆流阀，当漂洗槽6里的水位达到一定高度时，漂洗槽6与初洗槽5之间形成了高度差，在逆流阀的两端形成压力差，因此逆流阀打开，漂洗槽6里的水经过逆流阀进入到初洗槽5。当漂洗槽6里的水位的高度降到一定位置时，逆流阀两端的压力差不能打开逆流阀，阻止水从初洗槽5向漂洗槽6流动，即只允许水从漂洗槽6向初洗槽5流动。
当水回流装置为水泵时，通过水泵的工作将漂洗槽6里的水通过管道抽到初洗槽5里，为了防止初洗槽5里的水倒流，本领域技术人员可根据实际情况将水泵的抽水管的高度设置成所需要的高度。当漂洗槽6里的水位的高度达到一定时，此时打开水泵，将漂洗槽6里的水抽到初洗槽5，完成漂洗槽6里的水的回流，实现对水的重复利用。
本实用新型还提供了一种具有上述清洗槽的重复利用水资源的硅片清洗系统，还包括：用于抓取硅片的机械手4、用于驱动机械手4上下移动的第二电机2、用于驱动机械手4水平运动的第一电机1、用于第一电机1滑行的滑轨3和传感器。
工作时，打开设备电源启动清洗工作程序；然后打开漂洗槽6的注水阀门向漂洗槽6开始注水，当漂洗槽6的水位达到设定高度后漂洗槽里的水通过水回流装置流回到初洗槽5；按照一定比例向第一药液槽8和第二药液槽9内注水和药液达到工艺水位；在第一电机1的驱动下，机械手4携带待清洗的硅片水平运动，遇到制动开关后停止，此时机械手4正对初洗槽5，然后第二电机2驱动携带硅片的机械手4向下移动，将待清洗的硅片伸入初洗槽5内的一定位置时，触发延时开关，第二电机2停止并停滞100s左右，对硅片进行初步的清洗 以洗掉硅片表面的杂质，然后第二电机2继续工作，将机械手4提起。由第一电机1驱动将机械手4输送到第一药液槽8的正上方，然后由第二电机2驱动将硅片送入到第一药液槽8内并停滞120s进行药洗，然后第二电机2继续工作将机械手4提起。然后通过第一电机1和第二电机2的驱动将机械手4送入到第二药液槽9内并停滞120s进行药洗，然后将机械手4取出，再输送到漂洗槽6进行漂洗，最后将硅片风干即可转入下道工序。
由于经过两次药洗后硅片的表面质量以满足要求，但是表面会附着药液的残留液，因此在药液之后进行了漂洗，以清洗掉硅片表面的残留液。对于硅片的初步清洗只是将硅片表面附着的杂质清洗掉，对水质的要求比较低，因此本实用新型将漂洗槽6里的对硅片进行漂洗后的水通过水回流装置回流到初洗槽5，避免了漂洗槽6里的水直接溢流走造成的浪费，同时由于漂洗槽6是对硅片上残留药液进行的漂洗，因此漂洗槽6里的水中会有少量的药液，而且这些药液可以提高初洗的效果。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (5)
1.一种重复利用水资源的硅片清洗槽，包括初洗槽和漂洗槽，其特征在于，还包括：
用于连通所述初洗槽的进水口和所述漂洗槽的出水口的通道；
用于将漂洗槽的液体流回初洗槽的液体回流装置，所述液体回流装置与所述通道相连。
2.根据权利要求1所述的重复利用水资源的硅片清洗槽，其特征在于，所述初洗槽的进水口的高度低于所述漂洗槽的出水口的高度。
3.根据权利要求2所述的重复利用水资源的硅片清洗槽，其特征在于，所述液体回流装置为逆流阀。
4.根据权利要求1所述的重复利用水资源的硅片清洗槽，其特征在于，所述液体回流装置为水泵。
5.一种重复利用水资源的硅片清洗系统，其特征在于，具有如权利要求1-4任一项所述的清洗槽。
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