CN202517364U - 半圆弧板抛光装置 - Google Patents

Abstract

半圆弧板抛光装置，包括打磨机主体，打磨机主体包括抛光磨盘，该打磨机主体配设有支撑被抛光物件的支撑装置，支撑装置设于该抛光磨盘下方；该支撑装置包括主架体，主架体设有若干平行排布的可绕轴转动的横杆。该抛光装置适于加工任意弧度的普通弧板，适用性更广，且产品的加工效果更为均匀，产品的加工质量得到有效提高；该装置还有效地减少了产品的加工时间，加工效率提高了4～6倍，有效地提高了生产效率和降低了生产成本；此外，该装置结构简单、加工步骤较为简易，动力需求较少，进一步地降低了生产成本。

Description

半圆弧板抛光装置

技术领域

本实用新型涉及一种抛光装置，特别是一种用于加工半圆石材弧板的抛光装置。

背景技术

现有的石材弧板打磨抛光装置多包括打磨机主体和被加工石材的固定装置。打磨机主体多是固定或者是可以定向移动，而被加工石材固定于固定装置，固定装置绕轴摆动，从而实现打磨机对石材弧板外弧面的抛光打磨。现有的该技术存在着下述问题：固定装置需要较为复杂的固定机构，要全面打磨外弧面，需要二次固定弧板；且当弧板（如半圆弧板）的弧度跨度较大时，固定装置绕轴转动幅度相应增大，这就需要较大的机械动力；通常弧度大于120度时弧板两侧沿处的打磨加工存在着较大的困难。

发明内容

本实用新型提供一种半圆弧板抛光装置，以克服现有的弧板抛光装置存在的操作复杂、设备结构复杂、设备动力耗费大、加工大弧度的弧板存在较大困难等问题。

本实用新型采用如下技术方案：

半圆弧板抛光装置，包括打磨机主体，打磨机主体包括抛光磨盘，该打磨机主体配设有支撑被抛光物件的支撑装置，支撑装置设于该抛光磨盘下方；该支撑装置包括主架体，主架体设有若干平行排布的可绕轴转动的横杆。

上述主架体包括底座和连设于底座的若干支撑杆，上述横杆两端分别连设有一支撑杆；支撑杆顶面朝向被抛光物件地斜向设置，支撑杆顶面还设有放置上述横杆的凹槽以及设于凹槽上方的压制横杆的套环。上述底座设有定向滑槽，上述支撑杆底端可滑动地连设于该滑槽；滑槽设有若干贯穿槽壁的定位孔，支撑杆底部对应设有定位螺栓及螺栓孔。

上述主架体设有电机，电机通过机带传动连接上述横杆。上述主架体设有防护上述电机的盖板。

上述横杆套设有若干垫圈，若干垫圈沿横杆长度方向平行排布。

上述打磨机主体设有淋水管，淋水管出口设有上述抛光磨盘斜上方。

由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：该抛光装置适于加工任意弧度的普通弧板，适用性更广，且产品的加工效果更为均匀，产品的加工质量得到有效提高；该装置还有效地减少了产品的加工时间，加工效率提高了4～6倍，有效地提高了生产效率和降低了生产成本；此外，该装置结构简单、加工步骤较为简易，动力需求较少，进一步地降低了生产成本。

附图说明

图1为抛光装置立体结构示意图。

图2为抛光装置立体结构分解示意图。

具体实施方式

下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。

参照图1、图2，半圆弧板抛光装置，包括打磨机主体1，打磨机主体1包括抛光磨盘11，该打磨机主体1配设有支撑被抛光物件3的支撑装置2，支撑装置2设于该抛光磨盘11下方；该支撑装置2包括主架体21，主架体21设有若干平行排布的可绕轴转动的横杆211。如图1、图2所示，将所要进行加工的弧板进行拼接并粘合形成圆柱形，圆柱形被抛光物件3放置于上述的支撑装置2上，设置并启动打磨机主体1即可对被抛光物件3进行加工。该抛光装置适于加工任意弧度的普通弧板，适用性更广，且产品的加工效果更为均匀，产品的加工质量得到有效提高；该装置还有效地减少了产品的加工时间，加工效率提高了4～6倍，有效地提高了生产效率和降低了生产成本；此外，该装置结构简单、加工步骤较为简易，动力需求较少，进一步地降低了生产成本。

上述主架体21包括底座212和连设于底座212的若干支撑杆213，上述横杆211两端分别连设有一支撑杆213；支撑杆213顶面朝向被抛光物件3地斜向设置，支撑杆213顶面还设有放置上述横杆211的凹槽以及设于凹槽上方的压制横杆211的套环。为了可以加工不同半径的被加工弧板，上述底座212设有定向滑槽，上述支撑杆213底端可滑动地连设于该滑槽；滑槽设有若干贯穿槽壁的定位孔214，支撑杆213底部对应设有定位螺栓215及螺栓孔；根据被加工弧板的半径调节适当的对应支撑杆213之间的距离，进而通过定位螺栓215对支撑杆213进行定位。

上述主架体21设有电机22，电机22通过机带传动连接上述横杆211；电机22启动，经过减速齿轮组传动带动横杆211定向匀速转动，这使得弧板的加工表面更为均匀，产品效果更好。

另外，为了减少打磨抛光时产生的大量灰尘，上述打磨机主体1设有淋水管12，淋水管12出口设有上述抛光磨盘11斜上方；上述主架体21设有防护上述电机22的盖板221，盖板221既可以保护电机22免受撞击破坏，也可以防止水及灰尘等侵袭电机22。

上述横杆211套设有若干垫圈216，若干垫圈216沿横杆211长度方向平行排布；垫圈216既可以减少支撑装置2与被加工弧板接触处刮伤、磨损等情况的发生，也增大了弧板与支撑装置2的接触摩擦，使得横杆211可以更好地带动弧板转动。

上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

Claims (7)

1.半圆弧板抛光装置，包括打磨机主体，打磨机主体包括抛光磨盘，其特征在于：所述打磨机主体配设有支撑被抛光物件的支撑装置，支撑装置设于所述抛光磨盘下方；所述支撑装置包括主架体，主架体设有若干平行排布的可绕轴转动的横杆。

2.如权利要求1所述的半圆弧板抛光装置，其特征在于：所述主架体包括底座和连设于底座的若干支撑杆，所述横杆两端分别连设有一支撑杆；支撑杆顶面朝向被抛光物件地斜向设置，支撑杆顶面还设有放置所述横杆的凹槽以及设于凹槽上方的压制横杆的套环。

3.如权利要求2所述的半圆弧板抛光装置，其特征在于：所述底座设有定向滑槽，所述支撑杆底端可滑动地连设于该滑槽；滑槽设有若干贯穿槽壁的定位孔，支撑杆底部对应设有定位螺栓及螺栓孔。

4.如权利要求1所述的半圆弧板抛光装置，其特征在于：所述主架体设有电机，电机通过机带传动连接所述横杆。

5.如权利要求3所述的半圆弧板抛光装置，其特征在于：所述主架体设有防护所述电机的盖板。

6.如权利要求1所述的半圆弧板抛光装置，其特征在于：所述横杆套设有若干垫圈，若干垫圈沿横杆长度方向平行排布。

7.如权利要求1所述的半圆弧板抛光装置，其特征在于：所述打磨机主体设有淋水管，淋水管出口设有所述抛光磨盘斜上方。

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