CN202350533U - 一种新型温度均化装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型温度均化装置，包括基底、基底上的凹槽。本温度均化装置可以在窑炉中使用，一方面能够提高窑炉中高温区物料受热温度的均匀性，另一方面能够扩展窑炉高温区的面积，有利于满足大批量、均匀性良好的工业生产及实验室应用的要求。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种新型温度均化装置，具体地讲涉及一种提高窑炉高温区温度均匀性、扩展高温区面积的装置。
背景技术
目前工业生产及实验室应用的窑炉包括隧道炉、管式炉、马弗炉、中罩炉等，这些设备在加热过程中都存在热场分布不均匀、恒温区范围过小等问题，不利于制备大批量的均匀的产品。当前解决热场分布不均匀问题的主要方法是缩小加热区尺寸，但这样会导致恒温区进一步缩小，从而影响生产、实验效率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题：提供一种新型温度均化装置，一方面能够提高窑炉高温区物料受热温度的均匀性，另一方面能够扩展高温区面积。
本实用新型解技术方案：一种新型温度均化装置，包括基底、基底上的凹槽。
所述基底为圆柱体、长方体或其它可稳定支撑的形状。
所述基底至少含有元素Li、Be、Na、Mg、Al、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Mo、Rh、Pd、Ag、Cd、Sn、Sb、Ba、La、Ce、Pr、W、Pt、Au、Pb、Bi中的一种或几种。
所述凹槽为圆柱体、长方体、椎体、半球体或其它与物料容器形状相似或相近的形状中的一种或几种。
所述凹槽为一个或多个。
本温度均化装置中可以放置容器，也可以直接放置物料，能够增加窑炉中高温区的物料的量，同时能够使装置内物料在窑炉的高温区均匀受热，有利于满足大批量、均匀性良好的工业生产及实验室应用要求。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的结构示意图。
图2为本实用新型实施例2的结构示意图。
图3为本实用新型实施例3的结构示意图。
图4为本实用新型实施例4的结构示意图。
图5为本实用新型实施例5的结构示意图。
具体实施方式
下面通过具体的实施例及附图将有助于理解本实用新型，但不限制本实用新型的内容。
实施例1
一种新型温度均化装置，包括基底1、基底1上的凹槽2，基底1为铜制圆柱体，凹槽2为圆柱体。
实施例2
一种新型温度均化装置，包括基底1、基底1上的凹槽2，基底1为镍铬合金制方体，凹槽2为圆柱体。
实施例3
一种新型温度均化装置，包括基底1、基底1上的凹槽2，基底1为铝合金制方体，凹槽2为方体。
实施例4
一种新型温度均化装置，包括基底1、基底1上的凹槽2，基底1为碳钢制方体，凹槽2为五个圆柱体、两个方体、一个三菱柱体。
实施例5
一种新型温度均化装置，包括基底1、基底1上的凹槽2，基底1为镍铬合金制方体，凹槽2为圆柱体。
将新型温度均化装置放入窑炉中，由于基底的良好导热性，使得窑炉原来的恒温区延长为基底所在区域，温度均化装置中物料受热均匀良好。
Claims (6)
1.一种新型温度均化装置，其特征在于包括基底（1）、基底（1）上的凹槽（2）。
2.根据权利要求1所述的一种新型温度均化装置，其特征在于所述基底（1）具有可稳定支撑的形状。
3.根据权利要求2所述的一种新型温度均化装置，其特征在于所述基底（1）为圆柱体、长方体、锥体或半球体。
4.根据权利要求1所述的一种新型温度均化装置，其特征在于所述凹槽（2）的形状与物料容器形状一致。
5.根据权利要求4所述的一种新型温度均化装置，其特征在于所述凹槽（2）为圆柱体、长方体、椎体或半球体中的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的一种新型温度均化装置，其特征在于所述凹槽（2）为一个或多个。
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| CN202350533U true CN202350533U (zh) | 2012-07-25 |
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Country Status (1)
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9643282B2 (en) | 2014-10-17 | 2017-05-09 | Kennametal Inc. | Micro end mill and method of manufacturing same |
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2011
- 2011-09-29 CN CN2011203783946U patent/CN202350533U/zh not_active Expired - Lifetime
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