CN202323096U - 密闭式电化学抛光系统 - Google Patents
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Abstract
一种密闭式电化学抛光系统,包括至少一电解槽(1)、副槽(2)以及配液槽(5),通过循环机构分别连接于电解槽(1)和副槽(2)使其相互连通,副槽(2)与配液槽(5)之间设置有使其互相连通的循环机构;电解槽(1)密封于一壳体(6)内,壳体(6)顶端设有抽风罩(61),副槽(2)设有将其密封的槽盖(21),配液槽(5)设有将其密封的盖体(51);壳体(6)一侧壁嵌设一钢化玻璃门(62)以及设于壳体(6)内引导钢化玻璃门(62)升降的导轨(63)。本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统有效降低了车间的噪音强度,且能够及时将电解过程中产生的有害气体和异味及时抽出处理,避免了有害物质危害人体健康。
Description
技术领域
本实用新型涉及电化学抛光领域,更具体地说,涉及一种密闭式电化学抛光系统。
背景技术
电化学抛光是以被抛工件为阳极,不溶性金属为阴极,两极同时浸入到电解槽中,通以直流电而产生有选择性的阳极溶解,从而达到工件表面光亮度增大的效果。电化学抛光广泛应用于不锈钢制品的自行车配件、门窗、五金配件、复合管、医疗器械、水处理设备等领域,特别是对于一些异形件,机械抛光无法操作的工件,有很好的取代作用。目前的电化学抛光系统包括盛有电解液的电解槽、与电解槽内电解液循环流动的副槽、以及为副槽补充电解液的配液槽;但是,目前的电解槽、副槽、以及配液槽是与大气连通的,即,采用开放式箱体结构;采用这样的开放式箱体结构进行抛光,会造成一定强度的噪音污染;电解槽内的工件在电解过程中产生有毒有害物质未经处理就直接排放于车间内或者大气中,不但污染空气,而且对车间工作人员身体造成危害。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述电解槽、副槽、以及配液槽采用开放式箱体结构进行抛光,会造成一定强度的噪音污染;电解槽内的工件在电解过程中产生有毒有害物质未经处理而直接排放于车间内或者大气中,污染空气、对车间工作人员身体造成危害的缺陷,提供一种避免电解过程中有毒物质直接排放于车间或大气中的密闭式电化学抛光系统。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种密闭式电化学抛光系统,包括盛有电解液的电解槽、用于调节电解液的副槽、以及为所述副槽补充电解液的配液槽,一种密闭式电化学抛光系统,通过循环机构分别连接于所述电解槽和所述副槽使其相互连通,所述副槽与所述配液槽之间亦设置有使其互相连通的循环机构,
所述密闭式电化学抛光系统还包括将所述电解槽密封于其内的壳体和设置于所述壳体顶端的抽风罩,所述副槽设有将其密封的槽盖,所述配液槽设有将其密封的盖体;所述壳体一侧壁嵌设一钢化玻璃门以及设于所述壳体内引导所述钢化玻璃门升降的导轨。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述循环机构包括磁力泵以及连接于所述磁力泵的水管,所述水管分别连接于所述电解槽、所述副槽以及所述配液槽上。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述钢化玻璃门连接一直线电机。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述钢化玻璃门外侧设有红外光栅。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述壳体内装设有一提升装置,所述提升装置包括设置于所述壳体外的两电机、分别连接于所述电机转轴上的平行的两竖直导杆、一端分别连接于所述导杆上的并排的水平提升杆以及分别连接在所述提升杆另一端的夹具,所述导杆与所述提升杆之间设有锥齿轮。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述壳体外设置一内设控制电路的电解槽控制柜,所述电解槽控制柜连接于交流电源上,所述电机和驱动所述钢化玻璃门的直流电机电连接至所述电解槽控制柜内的控制电路。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述抽风罩外端连接一排气管,排气管连接于一气体净化装置。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述电解槽与所述副槽之间还设置有溢流管,所述溢流管一端伸入所述电解槽上端,另一端伸入所述副槽内,所述溢流管伸入所述电解槽内的一端高于所述副槽液面高度内。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述副槽上设有盖合于其上的槽盖,所述槽盖上设有伸入所述副槽液面以下的若干电加热棒、伸入液面下的搅拌机、液面报警装置以及排气球阀,所述副槽一侧壁竖直设置有透明式液位管。
在本实用新型所述的密闭式电化学抛光系统中,所述副槽外设置一内设控制电路的副槽控制箱,所述电加热棒、搅拌机和液面报警装置电连接于所述副槽控制箱的控制电路上。
实施本实用新型的密闭式电化学抛光系统,具有以下有益效果:通过将电解槽密闭于一壳体内,且副槽和配液槽分别用槽盖、盖体密封,有效降低了车间的噪音强度;在壳体顶端设置有抽风罩,能够及时将电解过程中产生的有害气体和异味及时抽出处理,避免了有害物质危害人体健康。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:
图1是本实用新型密闭式电化学抛光系统的一种实施例的结构示意图;
图2是图1所示密闭式电化学抛光系统的俯视图。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。
如图1所示,本实施例中的密闭式电化学抛光系统包括盛有电解液的至少一电解槽1、用于调节电解液的副槽2以及为副槽2补充电解液的配液槽5。通过若干循环机构将前述电解槽1连接于副槽2且电解槽1与副槽2相互连通,副槽2与配液槽5之间亦设置有使其互相连通的循环机构,实现电解槽1与副槽2之间、副槽2与配液槽5电解液的循环流动,从而可使电解槽1内的电解液的温度和密度、均匀度等参数始终保持在最佳值范围内。该循环机构包括磁力泵3以及连接于磁力泵3上的水管31,水管31连接于所述电解槽1、副槽2以及配液槽5上。
请参阅图1,电解槽1与副槽2之间还设置有溢流管4,溢流管4一端伸入电解槽1上端,另一端伸入副槽2内;为了破坏虹吸作用,溢流管4伸入电解槽1内的一端高于副槽2液面高度内;溢流管4用于将电解槽1内过量的电解液溢流至副槽2内,防止电解液从电解槽1内溢出。
请参阅图1和图2,本实用新型密闭式电化学抛光系统还包括一将电解槽1密封于其内的壳体6,壳体6顶端设有抽风罩61,抽风罩61外端可连接一排气管(图未示),可将排气管连接于一简易的活性炭气体过滤装置上再排出车间外;或者将排气管连接至一碱性或者酸性溶液进行中和后排出。可以理解的,排气管可接任何能够净化电化学抛光过程产生的气体的气体净化装置。
请续参阅图1,壳体6一侧壁嵌设一钢化玻璃门62以及设于壳体6内引导钢化玻璃门62升降的导轨63。钢化玻璃门62可通过直线电机驱动,亦可通过一般的电机驱动,使其在导轨63导引下作上下往复运动。钢化玻璃门62外侧设有红外光栅64,红外光栅64用于保护工作人员眼镜等,提高本实用新型密闭式电化学抛光系统的安全性。
请参阅图1和图2,壳体6内装设有一提升装置65,提升装置65包括设置于壳体6外的两电机651、分别连接于电机651转轴上的平行的两竖直导杆652、一端分别连接于导杆652上的并排的水平提升杆653以及分别连接在提升杆653另一端的夹具654。电机651与壳体6连接处设有密封装置,该密封装置可以是抗腐蚀的橡胶圈或者垫圈等。可以通过锥齿轮实现导杆652与提升杆653之间的动力传导和方向切换,即,电机651带动导杆652转动,提升杆653在锥齿轮作用下在竖直方向作上下往复运动。夹具654夹持工件,在电解槽1内进行电化学抛光,副槽2既可对电解槽1内的电解液进行温度、均匀度等及时地进行调节以满足电化学抛光的要求,又可以对电解槽1内的电解液进行及时地补充。
请参阅图1和图2,壳体6外设置一内设控制电路的电解槽控制柜11,电解槽控制柜11连接于交流电源上,电机651和驱动钢化玻璃门62的直流电机可电连接至电解槽控制柜11内的控制电路。如此,可实现对提升装置65和钢化玻璃门62的自动控制。电解槽1内还设置一打气搅拌机构12,打气搅拌机构12一端置于电解槽1的液面下部,另一端露出电解液液面外;通过向电解液内打气,能够保证抛光液的密度均匀性,从而提高抛光效果和效率。
如图1所示,所述副槽2上设有盖合于其上的槽盖21,槽盖21上设有伸入副槽2液面以下的若干电加热棒22、伸入液面下的搅拌机23、以及液面报警装置24。电解热棒22用于对副槽2内的电解液进行加热,以确保副槽2内的电解液的温度始终处于工作温度;搅拌机23用于搅拌副槽2内的电解液,以确保副槽2内的电解液的浓度的均匀性,从而使抛光效果更佳;液面报警装置24用于防止副槽2内的电解液高度、温度等高于设定值,当电解液达到临界值时,液面报警装置24便发出警报,工作人员便可及时控制电解液的量。
副槽2一侧壁竖直设置有透明式液位管25,该透明式液位管25两端弯折穿过副槽2的侧壁伸入电解槽内,这样既可随时观测副槽2内的电解液使用情况,例如,可监视副槽2内的电解液的量,以便从配液槽5内及时补充电解液至副槽2内。槽盖21上还设有一排气球阀26,能够及时排除副槽2内加热过程中产生的气体。副槽2外设置一内设控制电路的副槽控制箱27,可将电加热棒22、搅拌机23和液面报警装置24电连接于副槽控制箱27的控制电路上。
如图2所示,配液槽5上亦设置有一密封配液槽5的盖体51。电解液在配液槽5内进行配置,电解槽1、副槽2以及配液槽5所有连接处均用密封装置密封,避免电解过程中有毒物质或有毒气体挥发至车间或其他工作场所。
可以理解的,本实用新型密闭式电化学抛光系统的副槽2上可以通过磁力泵3连接相互独立工作的多个电解槽1,从而提高生产效率;一般设置一至四个电解槽1,较佳者,设置两电解槽1。
本实用新型密闭式电化学抛光系统的工作原理详述如下:
打开钢化玻璃门64,利用夹具654上将待抛光工件夹持于阳极上,关闭钢化玻璃门62;启动提升装置65,将工件送至电解槽1内,根据实际生产需要将工件的待抛光表面或者整个工件与电解液接触进行电化学抛光。在工件抛光过程中,抽风罩61处于抽风状态;打气搅拌机构12、电加热棒22、搅拌机23、液面报警装置24均处于工作状态,位于电解槽1与副槽2之间的磁力泵3实现电解液的循环流动,配液槽5与副槽2之间的磁力泵3能够及时补充副槽2中消耗的电解液。工件抛光结束后,提升装置65将工件提起,钢化玻璃门64自动开启,将工件取出。
如上所述,本实用新型密闭式电化学抛光系统通过将电解槽1密闭于一壳体6内,且副槽2和配液槽5分别用槽盖21、盖体51密封,有效降低了车间的噪音强度;在壳体6顶端设置有抽风罩61,能够及时将电解过程中产生的有害气体和异味及时抽出处理,避免了有害物质危害人体健康。
上面结合附图对本实用新型的实施例进行了描述,但是本实用新型并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下,在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,这些均属于本实用新型的保护之内。
Claims (10)
1.一种密闭式电化学抛光系统,包括盛有电解液的至少一电解槽(1)、用于调节电解液的副槽(2)、以及为所述副槽(2)补充电解液的配液槽(5),通过循环机构分别连接于所述电解槽(1)和所述副槽(2)使其相互连通,所述副槽(2)与所述配液槽(5)之间亦设置有使其互相连通的循环机构,
其特征在于,所述密闭式电化学抛光系统还包括将所述电解槽(1)密封于其内的壳体(6)和设置于所述壳体(6)顶端的抽风罩(61),所述副槽(2)设有将其密封的槽盖(21),所述配液槽(5)设有将其密封的盖体(51);所述壳体(6)一侧壁嵌设一钢化玻璃门(62)以及设于所述壳体(6)内引导所述钢化玻璃门(62)升降的导轨(63)。
2.根据权利要求1所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述循环机构包括磁力泵(3)以及连接于所述磁力泵(3)上的水管(31),所述水管(31)分别连接于所述电解槽(1)、所述副槽(2)以及所述配液槽(5)上。
3.根据权利要求2所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述钢化玻璃门(62)连接一直线电机。
4.根据权利要求3所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述钢化玻璃门(62)外侧设有红外光栅(64)。
5.根据权利要求4所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述壳体(6)内装设有一提升装置(65),所述提升装置(65)包括设置于所述壳体(6)外的两电机(651)、分别连接于所述电机(651)转轴上的平行的两竖直导杆(652)、一端分别连接于所述导杆(652)上的并排的水平提升杆(653)以及分别连接在所述提升杆(653)另一端的夹具(654),所述导杆(652)与所述提升杆(653)之间设有锥齿轮。
6.根据权利要求5所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述壳体(6)外设置一内设控制电路的电解槽控制柜(11),所述电解槽控制柜(11)连接于交流电源上,所述电机(651)和驱动所述钢化玻璃门(62)的直流电机电连接至所述电解槽控制柜(11)内的控制电路。
7.根据权利要求1所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述抽风罩(61)外端连接一排气管,所述排气管连接于一气体净化装置。
8.根据权利要求1所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述电解槽(1)与所述副槽(2)之间还设置有溢流管(4),所述溢流管(4)一端伸入所述电解槽(1)上端,另一端伸入所述副槽(2)内,所述溢流管(4)伸入所述电解槽(1)内的一端高于所述副槽(2)液面高度内。
9.根据权利要求1所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述副槽(2)上设有盖合于其上的槽盖(21),所述槽盖(21)上设有伸入所述副槽(2)液面以下的若干电加热棒(22)、伸入液面下的搅拌机(23)、液面报警装置(24)以及排气球阀(26),所述副槽(2)一侧壁竖直设置有透明式液位管(25)。
10.根据权利要求9所述的密闭式电化学抛光系统,其特征在于,所述副槽(2)外设置一内设控制电路的副槽控制箱(27),所述电加热棒(22)、搅拌机(23)和液面报警装置(24)电连接于所述副槽控制箱(27)的控制电路上。
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GR01 | Patent grant | ||
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Assignee: Dongguan Hekeda Industrial Equipment Co. Ltd. Assignor: Shenzhen HKD Plating Equipment Co., Ltd. Contract record no.: 2013440000195 Denomination of utility model: Sealed electrochemical polishing system Granted publication date: 20120711 License type: Exclusive License Record date: 20130510 |
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