CN202307810U - 提高方块电阻均匀性的扩散炉管 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种提高方块电阻均匀性的扩散炉管，具有炉体，炉体内具有内腔，并且炉体的一端具有一根第一进气管和一根用于排放炉体内废气的尾气管，尾气管的一端与外界连通，另一端设置在炉体的内腔内，炉体的另一端具有一根第二进气管，第一进气管的一端和第二进气管的一端均与液态扩散源的源瓶连通，第一进气管的另一端和第二进气管的另一端均与内腔连通，并且第一进气管和第二进气管的气体出口相对于内腔对称设置。本实用新型在扩散炉管两端对称设置进气管，使扩散更加均匀，工艺上减少了小氮的用量，即减少了三氯氧磷的用量，从而节约成本；提高了扩散后方块电阻的片内和片间的均匀性；扩散通磷时间减少，为进一步提升产量做铺垫。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池制造领域，特别涉及一种提高方块电阻均匀性的扩散炉管。
背景技术
目前，大多厂家都选用P型硅片来制作太阳能电池，并且一般用三氯氧磷液态源作为扩散源，进行磷扩散形成N型层。扩散过程中发生的反应如下：4POCl3+3O2(过量)→2P2O5+6Cl2(气)，2P2O5+5Si→5SiO2+4P。扩散这一工艺工程是在扩散炉的反应室内进行的，为了确保扩散工艺的稳定性，即不同批次的硅片通过扩散后，所得到的PN结的结深及掺杂浓度等参数保证一致，必须确保反应腔体内部的气体压力保持稳定。扩散炉管通常具有一个进气口和一个与进气口位于扩散设备同一端的尾气口，并通过一根由尾气口延伸至扩散炉管炉口位置的尾气管对废气进行排放，由于扩散设备具有一定的长度，反应内腔的压力不平衡，从而使扩散设备中各个位置的反应不均匀，影响扩散效果。
目前对反应室的气压控制主要有两种方式：1、通过人工手动调节尾气阀门来控制压力的大小，该方式费时费力，且不够准确；2、通过控制充入反应室的氮气量来控制压力，该方法浪费氮气，且增加了能耗。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：为了解决上述不足，本实用新型提供一种可提高方块电阻均匀性的扩散炉管。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种提高方块电阻均匀性的扩散炉管，具有炉体，所述的炉体内具有内腔，并且炉体的一端具有一根第一进气管和一根用于排放炉体内废气的尾气管，所述的尾气管的一端与外界连通，另一端设置在炉体的内腔内，炉体的另一端具有一根第二进气管，所述的第一进气管的一端和第二进气管的一端均与液态扩散源的源瓶连通，第一进气管的另一端和第二进气管的另一端均与内腔连通，并且第一进气管和第二进气管的气体出口相对于内腔对称设置。
本实用新型的有益效果是，本实用新型提高方块电阻均匀性的扩散炉管，扩散炉管两端对称设置进气管，使扩散更加均匀，工艺上减少了小氮的用量，即减少了三氯氧磷的用量，从而节约成本；提高了扩散后方块电阻的片内和片间的均匀性；扩散通磷时间减少3分钟，为进一步提升产量做铺垫。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型提高方块电阻均匀性的扩散炉管最优实施例的结构示意图。
图中1、炉体，11、第一进气管，12、尾气管，13、第二进气管，2、内腔。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
如图1所示，一种提高方块电阻均匀性的扩散炉管，具有炉体1，炉体1内具有内腔2，并且炉体1的一端具有一根第一进气管11和一根用于排放炉体内废气的尾气管12，尾气管12的一端与外界连通，另一端设置在内腔2中，炉体1的另一端具有一根第二进气管13，第一进气管11的一端和第二进气管13的一端均与液态扩散源的源瓶连通，第一进气管11的另一端和第二进气管13的另一端均与内腔2连通，并且第一进气管11和第二进气管13的气体出口相对于内腔2对称设置。
以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (1)
1.一种提高方块电阻均匀性的扩散炉管，具有炉体(1)，所述的炉体(1)内具有内腔(2)，并且炉体(1)的一端具有一根第一进气管(11)和一根用于排放炉体内废气的尾气管(12)，所述的尾气管(12)的一端与外界连通，另一端设置在内腔(2)中，其特征在于：炉体(1)的另一端具有一根第二进气管(13)，所述的第一进气管(11)的一端和第二进气管(13)的一端均与液态扩散源的源瓶连通，第一进气管(11)的另一端和第二进气管(13)的另一端均与内腔(2)连通，并且第一进气管(11)和第二进气管(13)的气体出口相对于内腔(2)对称设置。
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| CN2011204424029U CN202307810U (zh) | 2011-11-10 | 2011-11-10 | 提高方块电阻均匀性的扩散炉管 |
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Publications (1)
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| CN (1) | CN202307810U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107201549A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-09-26 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种可提升炉口硅片方阻均匀性的扩散炉 |
| CN117089825A (zh) * | 2023-06-01 | 2023-11-21 | 无锡松煜科技有限公司 | 一种流体分布均匀的镀覆腔室及镀覆方法 |
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2011
- 2011-11-10 CN CN2011204424029U patent/CN202307810U/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN107201549A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-09-26 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种可提升炉口硅片方阻均匀性的扩散炉 |
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