CN202259324U - 无栅线p型晶体硅太阳能电池 - Google Patents

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刘鹏
姜言森
张春燕
贾河顺
徐振华
任现坤
王兆光
李玉花
张丽丽
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Abstract

本实用新型属于太阳能电池片领域,具体涉及一种无栅线的P型晶体硅太阳能电池,采用透明导电膜取代传统栅线状银电极,从电池片顶层收集光电流。本实用新型中的P型晶体硅太阳能电池的结构,由向阳面依次包括:正面银电极/减反射膜/透明导电膜/a-Si:H薄膜/N++型发射极区/P型晶体硅/P++背场区/背铝/背面银电极。本实用新型大大降低了电池片的电极遮挡损失,减少了电池制作过程中对贵金属银的使用量,降低了P型晶体硅太阳能电池的单瓦生产成本,可以大规模量产。

Description

无栅线P型晶体硅太阳能电池
技术领域
本实用新型属于太阳能电池片技术领域,具体涉及一种无栅线P型晶体硅太阳能电池。 
背景技术
传统的晶体硅太阳能电池的顶层电极为栅线状电极,除了用于焊接的主栅线外,还有无数条细栅线。这种栅线状电极,含银量高达80%,同时,栅线对光的遮挡也高达6-8%,大大降低了电池片的效率。 
近几年,随着贵金属价格的高涨,以及行业对电池片低成本和高效率的要求,目前减少晶体硅对金属银的使用量,降低顶层电极的遮挡损失成为太阳能电池领域研究的热点。现在的太阳电池还存在以下问题:1、非晶硅薄膜的缺陷较多,增加了薄膜体内的载流子复合中心密度,影响光生电流的收集及传输;2、正面的栅线设计使电池受光面积减少,从而降低短路电流,影响太阳电池最终的转化效率。 
发明内容
本实用新型的目的就是为减少晶体硅太阳能电池对金属银的使用量,降低晶体硅太阳能电池的单瓦成本,提高发电效率,而设计的一种无栅线P型晶体硅太阳能电池。 
本实用新型的技术方案为:一种无栅线P型晶体硅太阳能电池,所述硅片上表面,设有一层厚度小于100nm的a-Si:H薄膜;所述a-Si:H薄膜外侧依次设有一层厚度大于50nm的透明导电膜和一层厚度小于1000nm的减反射膜。 
所述的透明导电膜为ITO或ZnO金属氧化物导电薄膜。 
所述的受光面减反射膜为SiO2、Si3N4、Al2O3、Ta2O5或TiO2,折射率为1.5~2.5。 
所述的N型晶体硅为单晶硅、太阳能级或金属级多晶硅、带状硅,其厚度为50~300um,掺杂浓度为1×1010~5×1017/cm3。 
本实用新型的具体步骤为:                                     
(1)P型硅片经过制绒、磷扩散、刻蚀边缘、磷硅玻璃去除;
(2)在去除磷硅玻璃的硅片上表面,先沉积一层厚度小于100nm的a-Si:H薄膜,然后再沉积一层厚度大于50nm的透明导电膜,再沉积一层厚度小于1000nm的减反射膜;
(3)完成减反射膜沉积的硅片,依次完成背面银电极印刷、背铝印刷、正面银电极印刷、烧结等步骤,得到无栅线P型晶体硅太阳能电池片。
本实用新型的有益效果为:通过采用透明导电膜取代传统的栅线状银电极,从电池片的顶层收集光电流,降低了电池片对贵金属银的使用量,降低了晶体硅太阳能电池的单瓦成本;将传统晶体硅太阳能电池的光遮挡损失由原来的6-8%降低至3%以下;通过引入富含氢的非晶硅薄膜,解决了透明导电膜钝化效果差的问题,完成晶体硅的表面钝化和体钝化。本实用新型工艺控制简单,容易实现大规模量产。 
附图说明:
图1为本实用新型的结构示意图;
其中,1-正面银电极,2-减反射膜,3-透明导电膜,4-富含氢a-Si:H薄膜,5-N++型发射极区,6-P型晶体硅,7-P++背场区,8-背铝,9-背面银电极。
具体实施方式:
为了更好地理解本实用新型,下面结合附图来详细解释本实用新型的实施方式。
具体实施方式如图1所示,一种无栅线P型晶体硅太阳能电池,所述硅片上表面,设有一层厚度小于100nm的a-Si:H薄膜;所述a-Si:H薄膜外侧依次设有一层厚度大于50nm的透明导电膜和一层厚度小于1000nm的减反射膜。所述的透明导电膜为ITO或ZnO金属氧化物导电薄膜。所述的受光面减反射膜为SiO2、Si3N4、Al2O3、Ta2O5或TiO2,折射率为1.5~2.5。所述的N型晶体硅为单晶硅、太阳能级或金属级多晶硅、带状硅,其厚度为50~300um,掺杂浓度为1×1010~5×1017/cm3。 
本实用新型通过以下步骤制造的:首先,P型硅片在经过制绒、磷扩散、刻蚀边缘、磷硅玻璃去除后、采用PECVD在硅片顶层沉积一层厚度为5nm的a-Si:H薄膜4,然后采用磁控溅射的方法沉积一层厚度为150nm的ITO透明导电膜3,最后在沉积一层厚度为85nm的SiNx减反射膜2;将完成减反射膜2沉积的硅片,依次再完成背面银电极9印刷、背铝8印刷、正面银电极1印刷、烧结等步骤,最终得到无栅线P型晶体硅太阳能电池片。 

Claims (4)

1.一种无栅线P型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述硅片上表面,设有一层厚度小于100nm的a-Si:H薄膜;所述a-Si:H薄膜外侧依次设有一层厚度大于50nm的透明导电膜和一层厚度小于1000nm的减反射膜。
2.根据权利要求1所述的无栅线P型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述的透明导电膜为ITO或ZnO金属氧化物导电薄膜。
3.根据权利要求1所述的无栅线P型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述的受光面减反射膜为SiO2、Si3N4、Al2O3、Ta2O5或TiO2,折射率为1.5~2.5。
4.根据权利要求1所述的无栅线P型晶体硅太阳能电池,其特征在于:所述的N型晶体硅为单晶硅、太阳能级或金属级多晶硅、带状硅,其厚度为50~300um,掺杂浓度为1×1010~5×1017/cm3
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