CN202257025U - 紫外纳米压印软模版固定及对准组件 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种紫外纳米压印软模版固定及对准组件，其包括相对应的上平板(2)和下平板(3)，上平板(2)的上端面设有上真空孔(6)，上平板(2)的下端设有与上真空孔(6)相连通的上凹槽(4.1)，下平板(3)的上端设有下凹槽(4.2)，下平板(3)的下端面还设有与下凹槽(4.2)相连通的下真空孔(5)，上平板(2)和下平板(3)相紧密接触时，上凹槽(4.1)和下凹槽(4.2)组合成真空槽(4)。本实用新型可以方便地对紫外纳米压印软模版进行固定，并使其与压印基片精确对准，大大提高了紫外纳米压印的成品率。

Description

紫外纳米压印软模版固定及对准组件

技术领域

本专利涉及一种紫外纳米压印软模版固定及对准组件，用于固定紫外纳米压印软模版，并将其与压印基片对准。

背景技术

随着光刻技术的发展，图形制作精度不断提高，集成电路集成度也不断提高。高精度密集图形的制作也对制作工艺也提出了更高的要求。紫外纳米压印作为一种全新的高精度图形加工技术，受到广泛关注。它是将具有纳米图案的模版以机械力压印在涂有高分子材料的基片上，该高分子材料受到紫外光照射会发生聚合而固化定型，压印时使压印机械力持续一段时间，待图形充分转移后对高分子材料进行紫外曝光，使其固化，从而获得等比例压印复制的纳米图案。紫外纳米压印工艺过程十分简单，其分辨率只与模版图案的精度有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制，可达很高的加工精度。

在进行紫外纳米压印时，压印模版与基片需要进行对准，以获得高成品率。模版与基片对准的常用方法是利用掩模对准机，将模版和基片分别固定，通过光学成像进行对准。紫外纳米压印模版可以是塑性材料的软模版，通常的固定刚性模版的方法不再适用于固定软模板。美国专利5669303号中给出一种常用的解决方案，首先将软模板固定于一环状固定装置上，利用光学方法将其与基片对准后，通过逐步施加压力，使软模板与基片逐步接触，然后进行压印。该方法中，逐步施压过程会使软模板形变，使得对准精度下降，严重时会破坏软模板上的图形，而且当软模版过小时，该固定方法也无法对其进行固定。纳米压印中没有对准或对准不精确，会造成压印成品率大幅下降，所以需要一种能通过光学方法完成对准的，固定软模板且不会导致其形变的固定及对准组件。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种用于掩模对准机的紫外纳米压印软模版固定及对准组件。本实用新型能解决紫外纳米压印软模版在掩模对准机上进行固定及对准的问题。

本实用新型所采用的技术方案是：紫外纳米压印软模版固定及对准组件，其包括相对应的上平板和下平板，上平板的上端面设有上真空孔，上平板的下端设有与上真空孔相连通的上凹槽，下平板的上端设有下凹槽，下平板的下端面还设有与下凹槽相连通的下真空孔，上平板和下平板相紧密接触时，上凹槽和下凹槽组合成真空槽。

所述的组件，下真空孔的下端或下方设有紫外纳米压印软模版，紫外纳米压印软模版的下端或下方相应位置设有压印基片，压印基片位于工作台上。

所述的组件，上平板上端面紧密接触有模版固定夹具，上平板侧端面紧密接触有固定夹，模版固定夹具的下端与上真空孔对应的位置设有夹具真空槽，夹具真空槽与上真空孔相连通。

所述的组件，模版固定夹具与上平板之间的接触面上设有气密垫圈，夹具真空槽与上真空孔的开口边缘均通过气密垫圈进行密封。

所述的组件，下真空孔位于下平板的下端面中央。

所述的组件，上平板和下平板均采用透明固体材料。

本实用新型的优点：通过在所述掩模对准机中增加软模版对准组件，并利用所述掩模对准机的对准功能，可以方便地对紫外纳米压印软模版进行固定，并使其与压印基片精确对准，大大提高了紫外纳米压印的成品率。

附图说明

图1是所述软模版固定及对准组件的部件图。

图2是所述软模版固定及对准组件与所述掩模对准机中的模版固定夹具截面图。

图3是本专利中一实施例中所述利用软模版固定及对准组件对准过程示意图。

图中，1：气密垫圈；2：上平板；3：下平板；4：真空槽；4.1：上凹槽；4.2：下凹槽；5：下真空孔；6：上真空孔；7：模版固定夹具；8：固定夹；9：粘合后的平板；10：夹具真空槽；11：观察窗口；12：紫外纳米压印软模版；13：压印基片；14：工作台。

具体实施方式

本实用新型的组件由上、下两块具有真空孔和真空槽的平板紧密粘合而成，所述上平板中的真空孔位置对应于掩模对准机中模版固定夹具上的真空槽处，所述下平板中的真空孔位于平板中央，所述上、下平板中的真空槽与各自真空孔相通并相互对应构成真空传递通道。

进一步的，所述组件中平板的材料为透明固体材料。

进一步的，所述组件中还包括气密垫圈，所述气密垫圈固定于所述平板上，所述气密垫圈位置对应于所述模版固定夹具真空槽外侧。

所述软模版固定及对准组件固定于所述掩模对准机的模版固定夹具上，用于紫外纳米压印的软模版被真空吸力吸附于所述平板下表面中心的真空孔处。

为使本专利内容更加清楚易懂，下面结合说明书附图详细介绍实施例。然而本专利还可以以不同形式体现，不应解释为限制于这里所述的实施例。

其次，本专利用示意图进行了详细的表述，在详述本专利时，为了便于说明，示意图不依照一般比例局部放大，不应以此作为本专利的限定。

图1为本专利中所述软模版固定及对准组件的部件。图2是所述软模版固定及对准组件与所述掩模对准机中的模版固定夹具截面图。本专利提供一种用于掩模对准机的紫外纳米压印软模版固定及对准组件。其特征是，所述组件由上平板2、下平板3两块具有真空孔5和对应的真空槽4.1、4.2的平板紧密粘合而成，所述上平板2中的真空孔6位置对应于掩模对准机中模版固定夹具上的真空槽10处，所述下平板3中的真空孔5位于平板中央，所述上平板2、下平板3紧密粘合后形成的真空槽4与各自真空孔5、6相通并相互对应构成真空传递通道。

请参考图2至图3，在本专利一实施例中采用掩模对准机的模版固定夹具7固定软模版固定及对准组件9，所述组件9上部的真空孔6位于所述模版固定夹具7的真空槽10处。开启真空后，真空吸力经过所述模版固定夹具7的真空槽，由所述组件9中的真空传递通道传递至所述组件9下表面中心的真空孔处，且软模版12被真空吸力吸附于该位置。需要与软模版对准的基片13放置于所述掩模对准机的工作台14上，所述工作台在X轴，Y轴，Z轴均可以移动，并且可以调整自身在XY平面内的角度。

进行对准时，首先将软模版12与事先旋涂了压印胶的基片13分别固定于软模版固定及对准组件9与工作台14上。沿Z轴调整所述工作台14使所述基片13接近所述软模版12，利用显微镜，通过模版固定夹具7中的观察窗口11可以同时观察到所述基片13与所述软模版12上的对准标记。调整所述工作台在X轴位置、Y轴位置以及XY平面内的角度，使所述基片13与所述软模版12上的对准标记重合。标记重合后，沿Z轴移动工作台，使所述基片13与所述掩模版12接触并贴合，在软模版与基片紧密贴合后关闭真空，使所述软模版12脱离所述软模版固定及对准组件9，沿反方向移动工作台，取出贴合的基片13与软模版12，完成对准过程。

利用上述软模版固定及对准组件9，使掩模对准机可以完成软模版12的固定及与压印基片13的对准，大大提高了紫外纳米压印的成品率。

进一步的，所述软模版固定及对准组件9中的上平板2与下平板3均采用透明固体材料。这样才能保证能从模版固定夹具7的观察窗口11中观察到软模版12与基片13上的对准标记。

进一步的，所述软模版固定及对准组件9中还包括气密垫圈1，所述气密垫圈1固定于所述组件9上，所述气密垫圈1位置对应于所述模版固定夹具7的真空槽10内、外两侧。气密垫圈1的加入能保证真空吸力能有效地通过所述组件9中的真空通道传递至其下表面。

Claims (6)

1.紫外纳米压印软模版固定及对准组件，其特征在于：其包括相对应的上平板(2)和下平板(3)，上平板(2)的上端面设有上真空孔(6)，上平板(2)的下端设有与上真空孔(6)相连通的上凹槽(4.1)，下平板(3)的上端设有下凹槽(4.2)，下平板(3)的下端面还设有与下凹槽(4.2)相连通的下真空孔(5)，上平板(2)和下平板(3)相紧密接触时，上凹槽(4.1)和下凹槽(4.2)组合成真空槽(4)。

2.根据权利要求1所述的组件，其特征在于：下真空孔(5)的下端或下方设有紫外纳米压印软模版(12)，紫外纳米压印软模版(12)的下端或下方相应位置设有压印基片(13)，压印基片(13)位于工作台(14)上。

3.根据权利要求1所述的组件，其特征在于：上平板(2)上端面紧密接触有模版固定夹具(7)，上平板(2)侧端面紧密接触有固定夹(8)，模版固定夹具(7)的下端与上真空孔(6)对应的位置设有夹具真空槽(10)，夹具真空槽(10)与上真空孔(6)相连通。

4.根据权利要求3所述的组件，其特征在于：模版固定夹具(7)与上平板(2)之间的接触面上设有气密垫圈(1)，夹具真空槽(10)与上真空孔(6)的开口边缘均通过气密垫圈(1)进行密封。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的组件，其特征在于：下真空孔(5)位于下平板(3)的下端面中央。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的组件，其特征在于：上平板(2)和下平板(3)均采用透明固体材料。

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