CN202217649U - 基板洗净装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型的目的是提供一种基板洗净装置，该基板洗净装置是设置面积小且具有通用性的装置。本实用新型为光蚀刻技术所使用的光掩模等的基板洗净装置，包括：设置于装置上部的基板设置部、设置于装置中间部的干燥部、设置于装置下部的洗净部以及在所述基板设置部、所述干燥部、所述洗净部之间垂直地搬送基板的搬送机构，所述干燥部具备一对用来去除附着于基板的洗净液的气刀，所述洗净部包括：至少一对洗净喷嘴，对所述基板喷射洗净液；一对旋转刷子，剥除所述基板的附着物；以及洗净槽机构，具备1个以上的洗净槽和使该洗净槽能够在洗净位置与待机位置之间移动的移动机构。

Description

基板洗净装置

技术领域

本实用新型涉及在配线基板、电路基板的制造步骤中，光蚀刻所使用的光掩模等的基板洗净装置。

背景技术

光蚀刻所使用的光掩模需要洗净在曝光时附着的抗蚀剂等污渍，以往已提供了各式各样的洗净装置。就洗净方法而言，有利用旋转刷子去除污染、浸渍在洗净槽的洗净液中的方法、对基板高压喷射洗净液的方法、或者将上述各方法合并使用的方法等。此外，存在洗净时的粒子附着在基板上、洗净完成时在基板表面上产生水痕等问题，提供了解决上述问题的洗净装置。

专利文献1：日本公开公报特开2003-29394号公报

专利文献2：日本公开公报特开2007-317802号公报

然而，现有的装置，单纯地将多个洗净液浸渍槽及洗净机构依洗净步骤的顺序排列，为了更进一步提高洗净能力而增加洗净步骤，从而装置无法避免地大型化。此外，在上述的制造时，使用光掩模的配线基板、电路基板是大型的，从而光掩模也大型化，对应于该状况洗净装置也大型化。

发明内容

本实用新型提供一种在配线基板、电路基板的制造现场、研究所、光掩模的试作现场等能有效率地洗净光掩模，并且小型又具有通用性的基板洗净装置。

为了解决所述课题，本实用新型的基板洗净装置是光蚀刻技术所使用的光掩模等的基板洗净装置，其特征在于，包括：设置于装置上部的基板设置部、设置于装置中间部的干燥部、设置于装置下部的洗净部、以及在所述基板设置部、所述干燥部、所述洗净部之间垂直地搬送基板的搬送机构，

所述干燥部具备一对用来去除附着于基板的洗净液的气刀，所述洗净部包括：至少一对洗净喷嘴，对所述基板喷射洗净液；一对旋转刷子，剥除所述基板的附着物；以及洗净槽机构，具备1个以上的洗净槽和使该洗净槽能够在洗净位置与待机位置之间移动的移动机构。

在用来将基板搭载于搬送机构的基板设置部的正下方，设置有干燥部和洗净部，通过在基板设置部、干燥部与洗净部之间垂直地搬送基板，能够降低装置的设置面积。

本实用新型的特征在于：所述基板设置部、所述干燥部、所述洗净部分别由分隔板隔开。

通过以分隔板将基板设置部、干燥部、洗净部隔开而使基板设置部、干燥部、洗净部成为独立的空间，洗净部的洗净液飞沫不会污染干燥部，此外干燥部的洗净液飞沫不会污染基板设置部。

本实用新型的特征在于：所述一对洗净喷嘴、所述一对旋转刷子、所述一对气刀分别相对于搬送基板的垂直方向的垂直面而对称设置。

由于可以从基板的两面对垂直搬送的基板进行各洗净处理，因此装置不会变大，且能够进行有效率的洗净。

本实用新型的特征在于：所述洗净部具备覆盖所述待机位置的上部的盖。

当洗净槽位于待机位置时，由于具有覆盖待机位置的上部的盖，因此能够防止洗净废液或飞沫从洗净位置落入洗净槽内。

本实用新型的特征在于：所述一对旋转刷子含有能够变更该一对旋转刷子的间隔的间隔变更装置。

由于可以调整相对置的旋转刷子的间隔，因此能够对应于基板厚度的差异，此外，使刷毛压力的调整变得可能。

实用新型的效果

本装置由于由上述的构造形成，因此尽管能进行有效率的洗净，但是不会使装置变大，并且能够形成小型且具有通用性的基板洗净装置。

附图说明

图1是本装置的正面外观图。

图2是本装置的右侧面外观图。

图3是本装置的概略正面剖面图。

图4是本装置的概略右侧面剖面图。

标号说明

1：基板洗净装置

2：基板

3：操作面板

4：控制部

5：作业面板

6：分隔壁

7：缝隙

10：基板设置部

11：门

12：分隔板

13：缝隙

20：干燥部

21：气刀(air knife)

22：分隔板

23：缝隙

30：洗净部

32：洗净喷嘴

33：洗净喷嘴

35：洗净刷子

37：盖

39：观窗口

40：洗净槽机构

41：台车

42：洗净槽

43：洗净槽

45：移动装置

50：洗净位置

51：待机位置

具体实施方式

以下，针对本实用新型的实施方式，参考图面进行说明，说明书中所表示的左右方向及上下方向，是指图1中的本装置正面图中的左右及上下方向，前后方向是指与图1的纸面垂直的方向。

基板洗净装置1如图1～图4所示，在装置的上部分设置有基板设置部10，该基板设置部10用来将洗净的光掩模等基板2组装于基板承座61，并取下洗净已完成的基板2；在装置的下部设置有洗净部30，该洗净部30设置有用来洗净基板2的多个洗净机构；在其中间部设置有干燥部20，该干燥部20用来执行洗净后的基板2的沥干而促使基板2干燥。

将装置的控制部4设置于装置的左侧部分，装置上部前面作为操作面板3。控制部4的后部设置有搬送机构60的移动装置62等的、设置于本装置的各机构的驱动装置。

基板设置部10的正面成为双开的门11(double door；指左右对称地安装有两片门板的门)，通过将门11开启，能够将基板2搭载于基板承座61。

至少基板设置部10的门11与基板设置部10右侧面是由透明玻璃或亚克力(acrylic)材料构成，从而能够透视装置内部。

在设置于装置左上面的操作面板3上设置有：电源开关、紧急用电源切断开关、作业面板5等，能够利用作业面板5来执行基板2的洗净目录的选择、指示、决定、起动、停止等。

干燥部20设置于基板设置部10的正下方，基板设置部10与干燥部20由分隔板12隔开。在分隔板12上设置有缝隙13，该缝隙13当基板2通过搬送机构60而移动于基板设置部10与干燥部20之间时使该移动成为可能。

在干燥部20上组装有一对气刀21，该一对气刀21被组装成：相对于垂直搬送基板2的垂直面呈对称，且在空气喷射口略微朝下的状态下相对置。气刀21从其喷射口对基板表面喷吹刀状的薄层气流，而将残留于洗净后的基板表面的清洗液、微细的粒子等喷飞而去除，且在干燥后不会残留水痕。各气刀21是利用空气软管等连接于外部的压缩空气来源，能够从空气喷射口喷射气流。空气来源也可以设置于装置内。

洗净部30设置于干燥部20的正下方，干燥部20与洗净部30由分隔板22隔开。在分隔板22上设置有缝隙23，该缝隙23当基板2通过搬送机构60而移动于干燥部20与洗净部30之间时使该移动成为可能。在洗净部30的侧面(装置右侧面)上设置有观窗口39，能够观察洗净部30的内部。

搬送机构60包括：基板承座61，搭载基板2；以及移动装置62，使基板承座61穿过分隔板12的缝隙13和分隔板22的缝隙23，垂直地移动于基板设置部10、干燥部20、洗净部30之间。移动装置62设置于装置的左侧空间部，该空间部通过分隔壁6而与基板设置部10、干燥部20、洗净部30隔开。在分隔壁6上设置有缝隙7，该缝隙7使下述的动作变得可能：利用移动装置62使基板2从基板设置部10通过干燥部20后垂直移动至洗净部30。基板承座61的臂部63贯穿缝隙7并将移动装置62与基板承座61连结起来。

基板承座61包括：凹字状的框架及组装于其内侧面的3个基板支承构件。在3个基板支承构件上切开有缝隙，通过将基板2插入该缝隙，能够通过3个基板支承构件将基板2保持于基板承座61。

洗净部30在将由搬送机构60所搬送的基板2搭载于基板承座61的状态下执行洗净。在洗净部30上，相对于作为搬送基板2的移动路径的垂直面呈对称状地设置有1对洗净刷子35以及2对洗净喷嘴32、33，该2对洗净喷嘴32、33从上部留有间隔；在洗净部30的底部设置有具有2个洗净槽42、43的洗净槽机构40。

2对洗净喷嘴32、33在高度方向上留有间隔并设置于分隔板22的下方。1对洗净喷嘴具备4个喷射口，各2个喷射口组装成夹着搬送基板2的移动路径相对置。各2个喷射口分别在左右方向上留有间隔。

位于上部的洗净喷嘴32利用药液或洗净剂洗净基板2后，对基板表面喷射用来冲洗该药液、洗净液的清洗液(纯水等)。4个喷射口相对于基板表面保持略微朝下的角度而被组装，并形成以下构造：一边在基板2上下移动，一边保持向下的角度喷射清洗液，来使附着物容易脱落而且清洗后清洗液难以附着于基板表面。

位于下部的洗净喷嘴33在利用药液洗净基板2后，为了冲洗该附着的药液或未完全洗净的抗蚀剂，而对基板表面喷射洗净液(表面活性剂)。洗净喷嘴33也相对于基板表面保持略微向下的角度地组装有4个喷射口，并形成以下构造：一边在基板2上下移动，一边保持向下的角度喷射清洗液，来使附着物容易脱落而且洗净后清洗液难以附着于基板表面。

1对洗净刷子35为旋转式的圆筒刷子构造，是将圆筒刷子35b组装于旋转轴35a的构件。洗净刷子35，能够通过旋转轴35a而自由旋转，并且夹着搬送基板的垂直面而相对置地被组装。各个旋转轴35a的两端部由能够移动的轴承机构35c所支承，该能够移动的轴承机构35c被组装于洗净部的相对置的左右两侧面。

1对洗净刷子35为了能够变更彼此相对置的间隔而具备间隔变更装置35d。间隔变更装置35d设置于装置左侧的空间部，通过穿过设置于分隔壁6的缝隙来移动用来支承旋转轴35a的轴承机构35c，从而变更相对置设置的洗净刷子35的间隔。因此，装置右侧的轴承机构35c也被组装成可以滑动。

1对洗净刷子35能够通过变更其间隔，而对应于要洗净的基板2的厚度差异。此外，即使是相同厚度的基板，也能变更刷子对基板表面的洗刷压力。或者，也可以将该间隔设成最大，使基板2在不接触洗净刷子35而进行搬送。

搭载于基板承座61的基板2通过利用移动装置62而在1对洗净刷子35之间在垂直方向上上下移动，从而被洗净。圆筒刷子35b的前端部通过洗刷并剥除来去除浸渍于药液及喷射洗净液时所无法去除的基板表面的污渍。在利用洗净刷子35洗净时，也可以是洗净喷嘴33喷射洗净液，并且边夹杂着洗净液边进行洗净。在该情况下，基板2在洗净喷嘴33与洗净刷子35的高度间反复地上下移动并执行洗净。

洗净槽机构40包括：2个洗净槽42、43；载置洗净槽42、43且能够移动的台车41；以及使台车移动的移动装置45。台车41设置于洗净部30的底面，并具有：用来搭载2个洗净槽42、43的架台；以及组装于架台下的4个车轮。

盖37将洗净部30的中心侧设成倾斜面，在洗净部30的前部下侧，架设于相对置的左右侧面，并将洗净部30划分成洗净位置50与待机位置51。台车41载置2个洗净槽42、43，并在用来洗净基板2的洗净位置50与从洗净位置50脱离的盖37下方的待机位置51之间移动。

移动装置45设置在通过分隔壁6与洗净部30隔开的装置左侧空间部的下部，并通过连结装置而连结于台车41从而促使台车41移动。移动机构45也可以设置于洗净部内。

洗净槽42、43贮存着用来去除附着于基板2的抗蚀剂等的药液。通过使一方的洗净槽42移动至基板2的搬送路径上，可以如图3、图4的虚线所示那样，使基板2浸渍于洗净槽42所贮存的药液。药液是氨溶液等碱性洗净液。另一方的洗净槽43为预备槽，可视需要而贮留并使用需要的洗净液或者清洗液。

在洗净部30中，为了使洗净液在洗净基板2时飞散，主要的开口、缝隙部可视需要而设成密闭或者遮蔽构造。流至洗净部30底部的废液通过未图示的排水口流至外部的废液装置。也可以在装置内设置废液处理装置与废液槽。

接着，说明在上述构造的基板洗净装置1中基板2的洗净步骤的一例。一开始，打开基板设置部10的门11并将基板2搭载于基板承座61。将门11关闭，并在利用作业面板5确认了洗净步骤后，按压起动的开关。

基板2由移动装置62从基板设置部10被搬送至洗净部30，并在一对洗净刷子35之间上下移动。由此，较大的附着物被剥除而落下至洗净部30的底面。此时，由于洗净槽42、43在待机位置51待机，因此落下的附着物不会进入洗净槽42、43。

接下来，搭载于台车41的贮存有洗净液的洗净槽42通过移动装置45而从待机位置51移动至洗净位置50的基板移动路径上。基板2通过移动装置62下降并进入至洗净槽42内而浸渍于药液，从去除抗蚀剂等附着物。

基板2被浸渍于洗净槽42的氨水溶液等药液而去除抗蚀剂等附着物，之后上升，并在洗净喷嘴32的高度位置朝两面喷射清洗液而冲洗药液。此时洗净槽42、43移动至待机位置51，落下的洗净废液不会进入洗净槽42、43。

接着，基板2在洗净喷嘴33的高度位置朝两面喷射洗净液(表面活性剂等)而洗净。此时，也可以与位于洗净喷嘴33下部的洗净刷子一起洗净基板2。之后，基板2再次上升至洗净喷嘴32的高度位置，并再次以清洗液洗净其两面。

接着，基板2移动至干燥部20的气刀31的高度位置，对基板2的两面喷吹刀状的薄层气流。通过一边使基板2从下方上升至上方，一边略微朝下地向基板面喷吹气流，从而将附着于表面的清洗液朝下喷飞，该飞沫不会附着且不会残留水痕，从而基板2得以干燥。

经干燥部20干燥后的基板2通过移动装置62从干燥部20移动至基板设置部10，从而完成洗净。也可以通过透明构件即装置右侧面盖及门11确认基板2的洗净结果，再次起动需要的步骤。

根据如同基板洗净装置1的构造，作为被洗净物的基板2由于将其移动路径设成垂直方向，因此不会使装置面积变大，能够变得小型化。此外，由于在基板2移动的移动路径的垂直面上对称地设置多个洗净机构，因此能以相同的条件同时对基板2的两面进行洗净。由于用来浸渍基板2的洗净槽能够移动至洗净位置50和避开该位置的待机位置51，因此设置于上部的洗净机构的废液、飞沫不会进入洗净槽，能高效率地使用洗净槽。由于能够自由地选择需要的多个洗净机构来执行洗净，因此与将洗净槽、洗净机构依步骤顺序排列的装置相比，能够增加通用性。

Claims (5)

1.一种基板洗净装置，是光蚀刻技术所使用的光掩模等的基板洗净装置，其特征在于，包括：

基板设置部，设置于装置上部；

干燥部，设置于装置中间部；

洗净部，设置于装置下部；以及

搬送机构，在所述基板设置部、所述干燥部、所述洗净部之间垂直地搬送基板，

所述干燥部具备用来去除附着于基板的洗净液的一对气刀，

所述洗净部具备：

至少一对洗净喷嘴，对所述基板喷射洗净液；

一对旋转刷子，剥除所述基板的附着物；以及

洗净槽机构，具备1个以上的洗净槽、和使该洗净槽在洗净位置与待机位置之间移动的移动机构。

2.如权利要求1所述的基板洗净装置，其特征在于：

所述基板设置部、所述干燥部、所述洗净部分别由分隔板隔开。

3.如权利要求2所述的基板洗净装置，其特征在于：

所述一对洗净喷嘴、所述一对旋转刷子、所述一对气刀分别相对于搬送基板的垂直方向的垂直面而对称地设置。

4.如权利要求3所述的基板洗净装置，其特征在于：

所述洗净部具备覆盖所述待机位置的上部的盖。

5.如权利要求4所述的基板洗净装置，其特征在于：

所述一对旋转刷子含有能够变更该一对旋转刷子的间隔的间隔变更装置。

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