CN202174508U - 合成铜盘研磨盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种合成铜盘研磨盘，包括合成铜盘研磨盘本体，其特征在于所述合成铜盘研磨盘本体表面设置若干起伏的凹槽，所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白。该盘可以实现高精度抛光、光学实验，同时有效的提高设备产能，可以显著提高工件的磨削速率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种研磨盘，特别涉及一种合成铜盘研磨盘。
背景技术
特殊工件对于其表面的平整度有要求，如LED芯片、LED衬底、LED显示屏光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等，通常这些工件表面的平整工艺需要研磨盘，再配以研磨液进行抛光。
由于研磨盘需要与研磨液配合使用，需要定期对研磨盘进行清洗，在对大量工件进行磨削的过程中，会降低磨削速率，并且现有的研磨盘安装不便，没有专门的用于安装的配件，造成工件平整的整个流程的生产效率降低，提高了生产成本。
发明内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种合成铜盘研磨盘，可以有效的提高研磨盘与研磨液配合使用之后的工件磨削效率，从而提高整个工件制备的生产效率。
本实用新型是通过以下的技术方案实现的：
一种合成铜盘研磨盘，包括合成铜盘研磨盘本体，所述合成铜盘研磨盘本体表面设置若干起伏的凹槽，所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白。
所述环形空白内部设置安装孔。
所述安装孔两边设置排污孔。
本实用新型的有益效果为：本实用新型适用于大多数工件的磨削，如LED芯片、LED衬底、LED显示屏光学晶体、硅片、化合物晶体、液晶面板、宝石、陶瓷、锗片、金属工件等，应用广泛；提高工件的磨削速率，从而提高整个工件制备的过程。
附图说明
图1是本实用新型合成铜盘研磨盘的结构示意图
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型做进一步说明。
如图1，是本实用新型合成铜盘研磨盘的结构示意图，包括合成铜盘研磨盘本体1，所述合成铜盘研磨盘本体1表面设置若干起伏的凹槽2，所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白3。环形空白3为研磨盘其他部件的安装起到了预留空间作用，可以根据磨削的工件不同，对本实用新型进行改进，从而更适合每个产品的不同特点，提高生产效率。
所述环形空白3内部设置安装孔4；所述安装孔4两边设置排污孔501和502，方便安装和排料，并且可以添加更多辅助部件。
本实用新型除了凹槽2的设计，还可以将其设计成由内至外盘旋的螺纹，更好的排污。
Claims (3)
1.一种合成铜盘研磨盘，包括合成铜盘研磨盘本体，其特征在于所述合成铜盘研磨盘本体表面设置若干起伏的凹槽，所述合成铜盘研磨盘中心位置设置环形空白。
2.如权利要求1所述的合成铜盘研磨盘，其特征在于所述环形空白内部设置安装孔。
3.如权利要求1或2所述的合成铜盘研磨盘，其特征在于所述安装孔两边设置排污孔。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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