CN202157112U - 一种阴极电弧的磁场调节装置 - Google Patents
一种阴极电弧的磁场调节装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202157112U CN202157112U CN2011202011337U CN201120201133U CN202157112U CN 202157112 U CN202157112 U CN 202157112U CN 2011202011337 U CN2011202011337 U CN 2011202011337U CN 201120201133 U CN201120201133 U CN 201120201133U CN 202157112 U CN202157112 U CN 202157112U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cathode
- cathode arc
- magnetic field
- arc
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型揭示了一种阴极电弧的磁场调节装置，包括一阴极底座，所述阴极底座的上表面开设有上凹槽，所述上凹槽内固定连接有一阴极电弧靶，所述阴极底座的下表面开设有与所述上凹槽对应的下凹槽，所述下凹槽内放置有一磁铁，所述磁铁固定连接在一升降支架上。本实用新型在阴极电弧镀膜过程中，根据靶面的消耗情况将磁场后移，并通过调整带刻度的调节螺栓，可精确地控制每次调整的距离，从而保持靶面磁场强度的一致性，弧电流稳定，沉积速率相等，膜层性能均匀；结构简单，调节方便、灵活，镀膜效果好。
Description
技术领域
本实用新型属于金属镀膜领域，尤其涉及一种用于阴极电弧镀膜的磁场调节装置。
背景技术
在物理气相沉积（PVD）领域通常采用的阴极电弧镀膜，是通过阴极（靶）和阳极（真空室）之间在低电压和高电流的放电过程，将材料直接电离。目前，常用的阴极电弧镀膜技术是在阴极背后配置磁场，使蒸发后的离子获得霍尔(hall)加速效应，有利于离子增大能量轰击量体，采用这种电弧蒸发离化源镀膜，离化率较高。电弧点在靶面上高速运动，当靶面使用后，表面材料被消耗掉，靶面与磁场表面的距离发生改变；随着靶面消耗后的跑道距离越来越深，电弧所跑的靶表面的磁场强度会得越来越强，如果不对磁铁位置作调整，会产生弧电流不稳，沉积速率变化，膜层性能改变等问题。
发明内容
鉴于上述现有技术存在的缺陷，本实用新型的目的是提出一种用于调节靶材与磁体之间距离的磁场调节装置。
本实用新型的目的将通过以下技术方案得以实现：
一种阴极电弧的磁场调节装置，包括一阴极底座，所述阴极底座的上表面开设有上凹槽，所述上凹槽内固定连接有一阴极电弧靶，所述阴极底座的下表面开设有与所述上凹槽对应的下凹槽，所述下凹槽内放置有一磁铁，所述磁铁固定连接在一升降支架上，所述磁铁在升降支架的带动下在所述下凹槽内上下移动，以使所述磁铁的端面与所述阴极电弧靶的工作端面之间的距离始终一致。
优选的，上述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其中：所述升降支架通过螺栓连接在所述阴极底座的下表面上，所述升降支架与阴极底座之间通过旋紧或旋松螺栓实现相对所述阴极底座的上下移动。
优选的，上述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其中：所述螺栓上带有长度的刻度标识。
优选的，上述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其中：所述刻度标识的最小单元为0.5mm。
优选的，上述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其中：所述上凹槽与所述阴极电弧靶之间通过螺纹固定连接，可以方便更换阴极电弧靶。
本实用新型在阴极电弧镀膜过程中，根据靶面的消耗情况将磁场后移，并通过调整带刻度的调节螺栓，可精确地控制每次调整的距离，从而保持靶面磁场强度的一致性，弧电流稳定，沉积速率相等，膜层性能均匀。本实用新型结构简单，调节方便、灵活，镀膜效果好。
以下便结合实施例附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述，以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。
附图说明
图1是本实用新型实施例1的横向剖视图；
图2是本实用新型实施例1的纵向剖视图；
图3是本实用新型实施例1的升降支架的结构示意图；
图4是本实用新型实施例1的升降支架的剖视图；
图5是本实用新型实施例1的螺栓的结构示意图。
具体实施方式
实施例1
本实施例的一种阴极电弧的磁场调节装置，如图1~图4所示，包括阴极底座1，阴极底座1的上表面开设有上凹槽2，上凹槽2内固定连接有阴极电弧靶3，上凹槽2与阴极电弧靶3之间通过螺纹固定连接，可以方便更换阴极电弧靶3。阴极底座1的下表面开设有与上凹槽2对应的下凹槽4，下凹槽4内放置有磁铁5，磁铁5固定连接在一升降支架6上，磁铁5在升降支架6的带动下在下凹槽4内上下移动，以使磁铁5的端面与阴极电弧靶3的工作端面之间的距离始终一致。升降支架6通过带有长度的刻度标识的螺栓7连接在阴极底座1的下表面上，升降支架6与阴极底座1之间通过旋紧或旋松螺栓7实现相对阴极底座1的上下移动。如图5所示，螺栓7上的刻度标识的最小单元为0.5mm。
应用本实施例，随着阴极电弧靶3的靶材表面不断被消耗，磁铁5的端面与阴极电弧靶3的工作端面之间的距离发生变化，如图2所示，A为消耗后的跑道底部距离。为了保持阴极电弧靶3的工作端面的磁场强度一致，通过旋转带刻度标识的螺栓7带动磁铁5做精确的位置调整，如图2所示，B为磁铁5的调整距离，B=A，以使和靶材消耗的跑道相一致，保持阴极电弧靶3的工作端面磁场强度的一致；调节的行程在0mm ~10mm之间，每次调节的最小值为0.5mm。本实施例保持阴极电弧靶3的工作端面磁场强度的一致性，弧电流稳定，沉积速率相等，膜层性能均匀；结构简单，调节方便、灵活，镀膜效果好
本实用新型尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种阴极电弧的磁场调节装置，包括一阴极底座，所述阴极底座的上表面开设有上凹槽，所述上凹槽内固定连接有一阴极电弧靶，其特征在于：所述阴极底座的下表面开设有与所述上凹槽对应的下凹槽，所述下凹槽内放置有一磁铁，所述磁铁固定连接在一升降支架上。
2.根据权利要求1所述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其特征在于：所述升降支架通过螺栓连接在所述阴极底座的下表面上，所述升降支架与阴极底座之间通过旋紧或旋松螺栓实现相对所述阴极底座的上下移动。
3.根据权利要求2所述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其特征在于：所述螺栓上带有长度的刻度标识。
4.根据权利要求3所述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其特征在于：所述刻度标识的最小单元为0.5mm。
5.根据权利要求1所述的一种阴极电弧的磁场调节装置，其特征在于：所述上凹槽与所述阴极电弧靶之间通过螺纹固定连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011202011337U CN202157112U (zh) | 2011-06-15 | 2011-06-15 | 一种阴极电弧的磁场调节装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011202011337U CN202157112U (zh) | 2011-06-15 | 2011-06-15 | 一种阴极电弧的磁场调节装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202157112U true CN202157112U (zh) | 2012-03-07 |
Family
ID=45764754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2011202011337U Expired - Fee Related CN202157112U (zh) | 2011-06-15 | 2011-06-15 | 一种阴极电弧的磁场调节装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN202157112U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102226269A (zh) * | 2011-06-15 | 2011-10-26 | 星弧涂层科技(苏州工业园区)有限公司 | 阴极电弧的磁场调节装置 |
| CN103849846A (zh) * | 2014-03-07 | 2014-06-11 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁体用调节机构 |
| CN111699275A (zh) * | 2017-12-01 | 2020-09-22 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 包含定位标记的物理气相沉积系统和用于调节该物理气相沉积系统中的坩埚与衬底之间的距离的方法 |
-
2011
- 2011-06-15 CN CN2011202011337U patent/CN202157112U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102226269A (zh) * | 2011-06-15 | 2011-10-26 | 星弧涂层科技(苏州工业园区)有限公司 | 阴极电弧的磁场调节装置 |
| CN103849846A (zh) * | 2014-03-07 | 2014-06-11 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁体用调节机构 |
| CN103849846B (zh) * | 2014-03-07 | 2015-12-09 | 东莞鑫泰玻璃科技有限公司 | 磁体用调节机构 |
| CN111699275A (zh) * | 2017-12-01 | 2020-09-22 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 包含定位标记的物理气相沉积系统和用于调节该物理气相沉积系统中的坩埚与衬底之间的距离的方法 |
| CN111699275B (zh) * | 2017-12-01 | 2022-02-25 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 物理气相沉积系统和用于调节该物理气相沉积系统中的坩埚与衬底之间的距离的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102226269A (zh) | 阴极电弧的磁场调节装置 | |
| CN202157112U (zh) | 一种阴极电弧的磁场调节装置 | |
| CN103572240B (zh) | 一种镀膜装置 | |
| CN201661602U (zh) | 一种可调式滚珠丝杠线性导轨 | |
| CN206157219U (zh) | 靶面磁场强度可调节的旋转阴极 | |
| CN204295748U (zh) | 一种棒料切割机的棒料压紧装置 | |
| CN202307784U (zh) | 一种磁控溅射用平面阴极 | |
| CN204661819U (zh) | 一种阴极电弧源 | |
| CN204138760U (zh) | 一种阴极电弧离子镀磁场调节装置 | |
| CN207596948U (zh) | 一种磁场可变电弧调整沉积装置 | |
| CN201890924U (zh) | 一种等离子真空陶瓷镀膜装置 | |
| CN206127410U (zh) | 一种磁控溅射镀膜装置 | |
| CN104451578A (zh) | 一种直流耦合型高能脉冲磁控溅射方法 | |
| CN106399962A (zh) | 一种提高磁控溅射镀膜均匀性及稳定性的靶材基座 | |
| CN203908677U (zh) | 一种电动调节型分光计 | |
| CN204812833U (zh) | 一种快递寄存柜底座 | |
| CN204160315U (zh) | 一种超细长棍磨削设备 | |
| CN209836294U (zh) | 物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置 | |
| CN204210160U (zh) | 波形金属板印刷定位装置 | |
| CN203999797U (zh) | 一种可变磁通量分布的直流磁控溅射机磁通管 | |
| CN205236831U (zh) | 包边模可调式导正销机构 | |
| CN205254338U (zh) | 一种led智能玻璃激光刻蚀机 | |
| CN205230820U (zh) | 一种用于电容器的定位板 | |
| CN206418193U (zh) | 溅镀旋转靶磁棒总成 | |
| CN204939633U (zh) | 一种精密选镀治具 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 215022 No. 81, new road, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, China Patentee after: New technology of star arc coating material (Suzhou) Limited by Share Ltd Address before: 215022 No. 81, new road, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, China Patentee before: Stararc Coating Technologies (Suzhou) Co., Ltd. |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120307 Termination date: 20190615 |