CN202144476U - 导电玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型适用于太阳能光电材料技术领域,提供了一种导电玻璃。该导电玻璃包括超薄玻璃,位于该超薄玻璃上的二氧化硅层,位于该二氧化硅层上的导电膜,该超薄玻璃为化学钢化超薄玻璃。本实用新型导电玻璃制备方法,所制备的导电玻璃强度高,表面应力大而且平整,制备步骤操作简单,成本低廉,生产效益高,非常适于工业化生产。
Description
技术领域
本实用新型属于太阳能光电材料技术领域,尤其涉及一种导电玻璃。
背景技术
目前,普通TCO玻璃采用的都是物理钢化方法,而物理钢化的温度往往超过玻璃的软化温度,造成玻璃表面的平整度降低,外观质量也更差,质量也不高。由于作为薄膜电池的前电极,TCO玻璃需要暴露在室外,需要有一定的表面硬度,克服恶劣天气的影响。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型实施例提供一种导电玻璃,解决现有技术的导电玻璃表面应力差、强度低的技术问题。
本实用新型是这样实现的,
一种导电玻璃,包括超薄玻璃,位于该超薄玻璃上的二氧化硅层,位于该二氧化硅层上的导电膜,该超薄玻璃为化学钢化超薄玻璃。
进一步,所述二氧化硅层的厚度为50-100纳米;
进一步,所述导电膜的厚度为600-1300纳米。
本实用新型实施例导电玻璃,强度高,表面应力大而且平整,该导电玻璃的制备步骤操作简单,成本低廉,生产效益高。
附图说明
图1是本实用新型实施例导电玻璃结构图;
图2是本实用新型实施例导电玻璃制备方法流程图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
本实用新型实施例提供一种导电玻璃,请参阅图1,图1显示该导电玻璃结构图,包括超薄玻璃1,位于该超薄玻璃2上的二氧化硅层2,位于该二氧化硅层2上的导电膜3,该超薄玻璃1是化学钢化超薄玻璃。
进一步地,该二氧化硅层2的厚度为50-100纳米;
进一步地,该导电膜3的厚度为600-1300纳米。
请参阅图2,图2显示本实用新型导电玻璃的制备方法流程图,包括如下步骤:
步骤S01,配制盐浴溶液
将硝酸钾加热至300-350℃并维持,加入氯化钾、三氧化二铝及硅藻土,搅拌得到玻璃盐浴溶液,该玻璃盐浴溶液中,该氯化钾的重量百分含量为0.8-10%,该三氧化二铝的重量百分含量为0.5-15%,该硅藻土的重量百分含量为0.5-10%,余量为硝酸钾;
步骤S02,化学钢化处理
将超薄玻璃加热至200-300℃并放入300-500℃的玻璃盐浴溶液中,浸泡3-8小时,退火处理,得到化学钢化超薄玻璃;
步骤S03,制备硅保护膜
通过磁控溅射在该化学钢化超薄玻璃上形成二氧化硅层;
步骤S04,制备导电膜
通过磁控溅射在该二氧化硅层上形成导电膜,得到导电玻璃。
本实用新型实施例导电玻璃制备方法,通过在上述条件下将玻璃进行化学钢化,使得导电玻璃的表面应力大大增强,实现了导电玻璃强度的显著提升。
具体地,步骤S01中,将硝酸钾加入至熔盐槽中,加热至300-350℃,将硝酸钾熔融成液体,并且维持该温度;将氯化钾、三氧化二铝及硅藻土加入至硝酸钾熔融液体中,搅拌使其分散均匀,得到玻璃盐浴溶液;该玻璃盐浴溶液中,氯化钾的重量百分含量为0.8-10%,优选为5-8%;三氧化二铝的重量百分含量为0.5-15%,优选为5-13%;硅藻土的重量百分含量为0.5-10%,优选为6-10%;余量为硝酸钾溶液。本玻璃盐浴溶液中,硝酸钾是反应物,氯化钾、三氧化二铝及硅藻土作为催化剂,适量的催化剂使玻璃的化学稳定性增强。
具体地,步骤S02中,取超薄玻璃,该超薄玻璃的厚度小于4微米,清洗后干燥处理,并且将超薄玻璃加热至200-300℃,将前述玻璃盐浴溶液的温度调整至300-500℃,然后将该加热后的超薄玻璃放入至温度调整后的玻璃盐浴溶液中,浸泡3-8小时,该浸泡的温度为300-500℃,温度的不同适用于不同厚度的玻璃。浸泡过程中,玻璃中钠离子与盐浴溶液中的钾离子进行交换,使玻璃表面的压应力增强,而平整度和外观没有变化;三氧化二铝起到改善化学稳定性,降低玻璃析晶倾向以及提高玻璃硬度的作用,硅藻土可以提高化学耐久性。通过在化学钢化步骤中加入催化剂,可以提高玻璃表面离子交换浓度和交换深度,反应时间缩短,从而更有利于增强化学钢化玻璃的机械强度,钢化后的玻璃平整度好,其强度是普通玻璃的6-10倍,且外观质量好;钢化后得到的薄膜导电玻璃,其弯曲强度大于150MPa,表面应力达到300-600MPa,应力层厚度为12-50μm。
浸泡完成后,将超薄玻璃放入至300-500℃的退火炉中退火处理,退火至室温,然后清洗,即得到化学钢化超薄玻璃。
具体地,步骤S03中,将该化学钢化超薄玻璃放入至磁控溅射设备中,作为衬底,以二氧化硅为靶材,进行磁控溅射,在该化学钢化超薄玻璃上沉积二氧化硅层,阻挡钠离子的扩散,该二氧化硅层的厚度为50-100纳米。
具体地,步骤S04中,将沉积了二氧化硅层的超薄玻璃放入至磁控溅射设备中,作为衬底,以金属或陶瓷氧化物作为靶材,进行磁控溅射,在该二氧化硅层上沉积导电膜,即得到本实用新型实施例的导电玻璃。该金属没有限制,例如,金、银、铜、铝、镁等;该导电膜的厚度为600-1300纳米。
本实用新型实施例导电玻璃制备方法,所制备的导电玻璃强度高,表面应力大而且平整,制备步骤操作简单,成本低廉,生产效益高,非常适于工业化生产。
以下结合具体实施例对上述导电玻璃制备方法进行详细阐述。
实施例一
将硝酸钾溶液加热至300℃并维持该温度,加入氯化钾、三氧化二铝及硅藻土,搅拌得到玻璃盐浴溶液,该玻璃盐浴溶液中,该氯化钾的重量百分含量为5-8%,该三氧化二铝的重量百分含量为5-13%,该硅藻土的重量百分含量为6-10%,其余为硝酸钾溶液;
取一块1400×1100×3.2mm的浮法玻璃,经过清洗、干燥后,并预热到200-300℃,放入配制好的硝酸钾盐浴溶液中,将温度调整至400℃,充分浸渍8小时后,放入400℃退火炉退火至室温,得到化学钢化成品玻璃;
将该化学钢化玻璃为衬底,放入磁控溅射设备中,进行磁控溅射沉积厚度为50-100钠米的SiO2层;
以该沉积了二氧化硅层的化学钢化玻璃为衬底,放入磁控溅射设备中,进行磁控溅射沉积厚度为600-1300钠米的透明导电膜,并经过冷却,进入刻蚀机对玻璃刻蚀,最后得到化学钢化透明导电玻璃。弯曲强度大于150MPa,表面应力达到400MPa,应力层厚度为25μm。
实施例二
将硝酸钾溶液加热至350℃并维持该温度,加入氯化钾、三氧化二铝及硅藻土,搅拌得到玻璃盐浴溶液,该玻璃盐浴溶液中,该氯化钾的重量百分含量为5-8%,该三氧化二铝的重量百分含量为5-13%,该硅藻土的重量百分含量为6-10%,其余为硝酸钾溶液;
取一块1400×1100×2.0mm的浮法玻璃,经过清洗、干燥后,并预热到200-300℃,放入配制好的硝酸钾盐浴溶液中,将温度调整至350℃充分浸渍8小时后,放入350℃退火炉退火至室温,得到化学钢化成品玻璃;
将该化学钢化玻璃为衬底,放入磁控溅射设备中,进行磁控溅射沉积厚度为50-100钠米的SiO2层;
以该沉积了二氧化硅层的化学钢化玻璃为衬底,放入磁控溅射设备中,进行磁控溅射沉积厚度为600-1300钠米的透明导电膜,并经过冷却,进入刻蚀机对玻璃刻蚀,最后得到化学钢化透明导电玻璃。弯曲强度大于150MPa,表面应力达到350MPa,应力层厚度为15μm。
实施例三
将硝酸钾溶液加热至320℃并维持该温度,加入氯化钾、三氧化二铝及硅藻土,搅拌得到玻璃盐浴溶液,该玻璃盐浴溶液中,该氯化钾的重量百分含量为5-8%,该三氧化二铝的重量百分含量为5-13%,该硅藻土的重量百分含量为6-10%,其余为硝酸钾溶液;
取一块1400×1100×1.1mm的浮法玻璃,经过清洗、干燥后,并预热到270℃,放入配制好的硝酸钾盐浴溶液中,将温度调整至300℃,充分浸渍8小时后,放入300℃退火炉退火至室温,得到化学钢化成品玻璃;
将该化学钢化玻璃为衬底,放入磁控溅射设备中,进行磁控溅射沉积厚度为50-100钠米的SiO2层;
以该沉积了二氧化硅层的化学钢化玻璃为衬底,放入磁控溅射设备中,进行磁控溅射沉积厚度为600-1300钠米的透明导电膜,并经过冷却,进入刻蚀机对玻璃刻蚀,最后得到化学钢化透明导电玻璃。弯曲强度大于150MPa,表面应力达到300MPa,应力层厚度为12μm。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种导电玻璃,包括超薄玻璃,其特征在于,所述导电玻璃还包括位于所述超薄玻璃上的二氧化硅层,位于所述二氧化硅层上的导电膜,所述超薄玻璃为化学钢化超薄玻璃。
2.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述二氧化硅层的厚度为50-100纳米。
3.如权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述导电膜的厚度为600-1300纳米。
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