CN201962074U - 多晶硅还原炉 - Google Patents

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赵振元
罗明树
刘胜春
王明云
江元升
蒋玉梅
王毅勃
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Abstract

本实用新型公开了一种多晶硅还原炉，包括有炉罩、底盘、加热碳棒、进料管和出料管，其中，炉罩安装在底盘上，底盘上安装有至少三组的加热碳棒，炉罩内还设有进料管相连通的喷头，且喷头至少为三个呈并列分布在进料管上，所述喷头末端安装有叶片式湍流发生器。出料管安装在底盘上。本实用新型中物料经叶片式湍流发生器后形成湍流喷出，这样便能使进入炉内的进料能充分的扩散开来，从而与加热碳棒有充分的接触面，使得加热更加均匀而充分，大大提高氢化转化率。

Description

多晶硅还原炉
技术领域
本实用新型涉及多晶硅生产中的配套设备，具体涉及一种多晶硅还原炉。
背景技术
现有的多晶硅还原炉（即将四氯化硅转为三氯氢硅转化炉）多采用单喷头加料方式（将氢气四氯化硅以一定比例混合后由一根喷头进入氢化炉），这种单喷头加料方式往往会造成进料扩散面积小，喷料不均匀，而且还与碳棒接触时间短，使得加热碳棒加热不均匀不充分，从而导致收率较低。
实用新型内容
鉴于上述不足之处，本实用新型的目的在于提供一种结构简单，能产生湍流，使得喷料均匀扩散能使加热碳棒加热均匀而充分，且氢化转化率大大提高收率也大大提高的多晶硅还原炉。
为了达到上述目的，本实用新型采取了以下技术方案：一种多晶硅还原炉，包括有炉罩、底盘、加热碳棒、进料管和出料管，所述炉罩安装在底盘上，底盘上安装有至少三组的加热碳棒，所述炉罩内还设有与进料管相连通的喷头，且喷头至少为三个呈并列分布在进料管上，所述出料管安装在底盘上，所述喷头末端安装有叶片式湍流发生器。所述叶片式湍流发生器由壳体、内芯和叶片组成，所述内芯设置在壳体轴心部，所述叶片宽端连接在壳体内周面上，窄端连接在内芯外周面上，且均匀排列于壳体内周面和内芯外周面，所述的叶片与水平面夹角呈30度。
本实用新型的有益效果在于：本实用新型采用多喷头并组合叶片式湍流发生器的结构，使其能产生湍流的进料方式，使得进料充分扩散，再配合多组加热碳棒，使得进料与碳棒接触时间长、加热均匀而充分，大大提高氢化转化率。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图。
图2是叶片式湍流发生器结构示意图。
图3是图2的主视剖面结构示意图。
图4是图2的内部结构示意图。
图5是图2 的叶片结构示意图。
图中：1.炉罩； 2.底盘； 3.加热碳棒； 4.进料管； 5.出料管； 6.喷头； 7.叶片式湍流发生器； 8.壳体； 9.内芯； 10.叶片。
具体实施方式
下面我们将结合附图对本实用新型做进一步的说明：
如图1所示，一种多晶硅还原炉，包括有炉罩1、底盘2、加热碳棒3、进料管4和出料管5，其中，炉罩1安装在底盘2上，底盘2上安装有至少三组的加热碳棒3，炉罩1内还设有进料管4相连通的喷头6，且喷头6至少为三个呈并列分布在进料管4上，喷头末端安装有叶片式湍流发生器7，叶片式湍流发生器7由壳体8、内芯9和叶片10组成，内芯9设置在壳体8轴心部，叶片10宽端连接在壳体8内周面上，窄端连接在内芯9外周面上，且均匀排列于壳体8内周面和内芯9外周面，叶片10与水平面夹角呈30度。物料经叶片式湍流发生器7后形成湍流喷出，这样便能使进入炉内的进料能充分的扩散开来，从而与加热碳棒3有充分的接触面，使得加热更加均匀而充分。出料管5安装在底盘上。

Claims (2)

1.一种多晶硅还原炉，包括有炉罩（1）、底盘（2）、加热碳棒（3）、进料管（4）和出料管（5），所述炉罩（1）安装在底盘（2）上，底盘（2）上安装有至少三组的加热碳棒（3），所述炉罩（1）内还设有与进料管（4）相连通的喷头（6），且喷头（6）至少为三个呈并列分布在进料管（4）上，所述出料管（5）安装在底盘（2）上，其特征在于：所述喷头末端安装有叶片式湍流发生器（7）。
2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉，其特征在于：所述叶片式湍流发生器（7）由壳体（8）、内芯（9）和叶片（10）组成，所述内芯（9）设置在壳体（8）轴心部，所述叶片（10）宽端连接在壳体（8）内周面上，窄端连接在内芯（9）外周面上，且均匀排列于壳体（8）内周面和内芯（9）外周面，所述的叶片（10）与水平面夹角呈30度。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103588207A (zh) * 2013-11-15 2014-02-19 新特能源股份有限公司 一种炉内气体介质强制循环式多晶硅还原炉
CN104677105A (zh) * 2015-02-25 2015-06-03 内蒙古鄂尔多斯电力冶金股份有限公司氯碱化工分公司 一种还原炉

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