CN201918172U - 适用于fpga电路的非对称结构配置sram - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种适用于FPGA电路的非对称结构配置SRAM,该非对称结构SRAM由六个晶体管组成,分别为M1、M2、M3、M4、M5、M6:M1、M2为两个存取晶体管;M3和M5、M4和M6构成两个CMOS反相器;两个CMOS反相器背对背连接,形成一个CMOS锁存器;两个反相器的晶体管采用不同的宽长比(W/L),设计成非对称。采用该非对称结构SRAM,完成了FPGA电路配置功能,同时有效的改善了FPGA电路上电启动和配置的性能。本实用新型结构简单,占用版图面积小,上电预置状态稳定,数据读写可靠,在基于SRAM配置的FPGA电路中具有很强的实用性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种适用于FPGA电路的非对称结构配置SRAM,属于CMOS集成电路设计技术领域。
背景技术
FPGA,Filed Programmable Gate Array,现场可编程逻辑阵列;SRAM,Static Random Access Memory,静态随机存取存储器。
与传统的ASIC电路相比,基于SRAM配置的FPGA电路具有功能强大,开发过程投资小、周期短,可反复编程修改,保密性好,开发工具智能化等特点。随着电子工艺技术的不断进步,低成本的FPGA器件得到了越来越广泛的应用。同时,为了满足越来越复杂的系统功能,FPGA电路不断增大规模、提高集成度,电路密度从数万系统门发展到数千万系统门。基于SRAM配置的FPGA器件,在系统应用中,因为系统的噪声、供电不足等一些不稳定因素:电路会发生上电无法启动、静态功耗高、配置失败、配置功能不正常等故障;当电路处在恶劣的工作环境下,比如高温、低温、振动等,这些故障更容易发生。通过对电路进行详细的测试和充分的验证,这些故障的发生和FPGA电路中配置SRAM 单元有着密切的联系。
在现有的FPGA电路中,配置SRAM单元的六个晶体管都采用相同的尺寸,这种SRAM单元满足了FPGA电路配置数据的要求,但存在两个明显的不足:第一,FPGA电路上电启动时,SRAM单元存储数据不确定,容易导致FPGA电路内部出现逻辑冲突,出现大电流,导致电路启动失败;第二,FPGA电路进行配置时,对大量的SRAM单元进行写数据,电路动态电流大,容易导致配置失败。
发明内容
本实用新型针对现有的FPGA电路因SRAM单元上电状态不确定和配置电流大而无法正常工作,设计了一种非对称结构的SRAM,应用在FPGA电路中,完成了FPGA电路配置功能,同时有效的改善了FPGA电路上电启动和配置性能。
按照本实用新型提供的技术方案,所述适用于FPGA电路的非对称结构配置SRAM,包括:第一NMOS管、第二NMOS管、第三NMOS管、第四NMOS管、第五PMOS管、第六PMOS管;第一NMOS管源端、第三NMOS管漏端、第四NMOS管栅端、第五PMOS管漏端和第六PMOS管栅端相连并连接第一数据输出端口,第二NMOS管漏端、第三NMOS管栅端、第四NMOS管漏端、第五PMOS管栅端和第六PMOS管漏端相连并连接第二数据输出端口,第一NMOS管栅端和第二NMOS管栅端相连并连接数据存储控制端口,第一NMOS管漏端连接第一配置数据输入端口,第二NMOS管源端连接第二配置数据输入端口,第五PMOS管源端、第六PMOS管源端接电源,第三NMOS管源端、第四NMOS管源端接地;所述第三NMOS管与第四NMOS管采用不同的宽长比,第五PMOS管与第六PMOS管采用不同的宽长比。
所述适用于FPGA电路的非对称结构配置SRAM采用0.25μm CMOS工艺制造时,各晶体管长宽比为:第一NMOS管(M1),0.6 μm /0.24 μm;第二NMOS管(M2),0.6 μm /0.24 μm;第三NMOS管(M3),0.8 μm /0.24 μm;第四NMOS管(M4),0.6 μm /0.24 μm,第五PMOS管(M5),0.6 μm /0.24 μm;第六PMOS管(M6),0.8 μm /0.24 μm。
本实用新型的优点是:本实用新型为非对称结构的六晶体管SRAM,实现锁存器功能两个反相器采用不同的尺寸,即采用不同的宽长比。该非对称结构SRAM有效的弥补了上述现有SRAM的不足,改善了FPGA电路上电启动和配置的性能。本实用新型结构简单,占用版图面积小,上电预置状态稳定,数据读写可靠,在基于SRAM配置的FPGA电路中具有很强的实用性。
附图说明
图1为实用新型非对称结构SRAM单元原理图。
图2-1、图2-2为实用新型非对称结构SRAM单元版图。
图3为FPGA电路中n×m SRAM阵列示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
如图1所示,本实用新型非对称结构配置SRAM由六个晶体管组成:第一NMOS管M1、第二NMOS管M2、第三NMOS管M3、第四NMOS管M4、第五PMOS管M5、第六PMOS管M6;第一NMOS管M1源端、第三NMOS管M3漏端、第四NMOS管M4栅端、第五PMOS管M5漏端和第六PMOS管M6栅端相连并连接第一数据输出端口D1,第二NMOS管M2漏端、第三NMOS管M3栅端、第四NMOS管M4漏端、第五PMOS管M5栅端和第六PMOS管M6漏端相连并连接第二数据输出端口D2,第一NMOS管M1栅端和第二NMOS管M2栅端相连并连接数据存储控制端口WL,第一NMOS管M1漏端连接第一配置数据输入端口BL,第二NMOS管M2源端连接第二配置数据输入端口BLN,第五PMOS管M5源端、第六PMOS管M6源端接电源VDD,第三NMOS管M3源端、第四NMOS管M4源端接地GND;所述第三NMOS管M3与第四NMOS管M4采用不同的宽长比,第五PMOS管M5与第六PMOS管M6采用不同的宽长比,设计成非对称。
其中第一NMOS管M1、第二NMOS管M2为两个存取晶体管;第三NMOS管M3和第五PMOS管M5、第四NMOS管M4和第六PMOS管M6构成两个CMOS反相器;两个CMOS反相器背对背连接,形成一个CMOS锁存器;两个CMOS反相器的晶体管采用不同的宽长比(W/L),设计成非对称。该SRAM有五个端口:配置数据输入端口BL和BLN;数据存储控制端口WL,控制配置数据存储在SRAM单元中;SRAM数据输出端口D1和D2,对FPGA电路内部逻辑资源进行配置。
该非对称结构SRAM具有两个稳定的工作状态,对应逻辑“0”和逻辑“1”;电路在上电后,SRAM被预置在一个稳定的工作状态。在FPGA电路中,配置SRAM单元串联成列,分布在整个电路中:SRAM单元通过配置数据输入端口BL、BLN串联成列,数据存储控制端口WL信号控制每一行SRAM单元的开启状态,配置数据通过SRAM数据输出端口D1、D2控制FPGA电路内部逻辑状态,实现逻辑功能。FPGA电路上电后,所有SRAM单元会预置在一个稳定的工作状态,在这种状态下,电路内部逻辑不冲突;FPGA电路配置时,数据存储控制端口WL的信号打开所有SRAM单元,配置数据由上而下写入SRAM单元中,同时,数据存储控制端口WL的信号由下而上逐行关闭SRAM单元,保证配置数据被存储在SRAM单元中;FPGA电路工作时,配置数据通过SRAM数据输出端口D1、D2控制FPGA电路内部逻辑状态,实现逻辑功能。
如图2所示是在FPGA电路中采用的非对称结构SRAM单元版图。该FPGA电路中采用0.25μm CMOS工艺设计制造,电路中SRAM单元六个晶体管长宽比设计为:M1,0.6 μm /0.24 μm;M2,0.6 μm /0.24 μm;M3,0.8 μm /0.24 μm;M4,0.6 μm /0.24 μm,M5,0.6 μm /0.24 μm;M6,0.8 μm /0.24 μm。采用该尺寸结构,FPGA电路上电后,SRAM单元被预置在一个稳定的工作状态:端口D1拉低,对应逻辑“0”;端口D2拉高,对应逻辑“1”。FPGA电路进行功能配置时,配置数据能够准确的存储在SRAM单元中,完成电路的配置。
如图3所示,在FPGA电路中,配置SRAM单元呈阵列分布。图中是一个n×m的阵列,表示该FPGA电路共有n帧配置数据,每一帧配置数据含m位。FPGA电路配置时,端口WL控制信号初始状态全打开,每一帧配置数据由上而下写入SRAM单元中,通过由下而上依次关闭端口WL控制信号,配置数据被存储在每行的SRAM单元中;FPGA电路工作时,存储在SRAM单元中的配置数据通过端口D1、D2控制FPGA电路内部逻辑状态,实现逻辑功能。
本实用新型非对称结构SRAM单元,占用版图面积小,上电预置状态稳定,数据读写可靠,在基于SRAM配置的FPGA电路中具有很强的实用性。我单位研制的FPGA电路中,使用该SRAM结构,在0.25μm CMOS工艺中,采用上述晶体管尺寸,电路经应用验证:FPGA电路上电启动,稳定可靠;配置数据写入,准确;配置完成后,电路功能正常,电路各项性能指标稳定可靠。
Claims (2)
1. 适用于FPGA电路的非对称结构配置SRAM,其特征是包括:第一NMOS管(M1)、第二NMOS管(M2)、第三NMOS管(M3)、第四NMOS管(M4)、第五PMOS管(M5)、第六PMOS管(M6);第一NMOS管(M1)源端、第三NMOS管(M3)漏端、第四NMOS管(M4)栅端、第五PMOS管(M5)漏端和第六PMOS管(M6)栅端相连并连接第一数据输出端口(D1),第二NMOS管(M2)漏端、第三NMOS管(M3)栅端、第四NMOS管(M4)漏端、第五PMOS管(M5)栅端和第六PMOS管(M6)漏端相连并连接第二数据输出端口(D2),第一NMOS管(M1)栅端和第二NMOS管(M2)栅端相连并连接数据存储控制端口(WL),第一NMOS管(M1)漏端连接第一配置数据输入端口(BL),第二NMOS管(M2)源端连接第二配置数据输入端口(BLN),第五PMOS管(M5)源端、第六PMOS管(M6)源端接电源(VDD),第三NMOS管(M3)源端、第四NMOS管(M4)源端接地(GND);所述第三NMOS管(M3)与第四NMOS管(M4)采用不同的宽长比,第五PMOS管(M5)与第六PMOS管(M6)采用不同的宽长比。
2.如权利要求1所述适用于FPGA电路的非对称结构配置SRAM,其特征是采用0.25μm CMOS工艺制造时,各晶体管长宽比为:第一NMOS管(M1),0.6 μm /0.24 μm;第二NMOS管(M2),0.6 μm /0.24 μm;第三NMOS管(M3),0.8 μm /0.24 μm;第四NMOS管(M4),0.6 μm /0.24 μm,第五PMOS管(M5),0.6 μm /0.24 μm;第六PMOS管(M6),0.8 μm /0.24 μm。
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