CN201908156U - 扩散炉尾气压力平衡系统 - Google Patents

扩散炉尾气压力平衡系统 Download PDF

Info

Publication number
CN201908156U
CN201908156U CN2010206660341U CN201020666034U CN201908156U CN 201908156 U CN201908156 U CN 201908156U CN 2010206660341 U CN2010206660341 U CN 2010206660341U CN 201020666034 U CN201020666034 U CN 201020666034U CN 201908156 U CN201908156 U CN 201908156U
Authority
CN
China
Prior art keywords
magnetic valve
solenoid valve
balancing system
tail gas
end pipeline
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2010206660341U
Other languages
English (en)
Inventor
崔慧敏
陈加朋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qingdao Sunred Electronic Equipment Co., Ltd.
Original Assignee
QINGDAO RADAR ELECTRONICS CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by QINGDAO RADAR ELECTRONICS CO Ltd filed Critical QINGDAO RADAR ELECTRONICS CO Ltd
Priority to CN2010206660341U priority Critical patent/CN201908156U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN201908156U publication Critical patent/CN201908156U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Control Of Fluid Pressure (AREA)

Abstract

本实用新型所述的扩散炉尾气压力平衡系统,主要包括真空反应室、压力传感器、信号线、PLC控制器、电磁阀、电磁阀后端管道、真空泵、电磁阀前端管道;其中真空反应室与电磁阀前端管道相连,电磁阀设置在电磁阀前端管道与电磁阀后端管道之间,电磁阀后端管道与真空泵相连;压力传感器设置在电磁阀前端管道上,压力传感器通过信号线与PLC控制器相连,PLC控制器通过信号线与电磁阀相连;本实用新型的优点在于方便、快捷、准确、高效、节约成本且对反应室内气压进行自动控制。

Description

扩散炉尾气压力平衡系统
技术领域
本实用新型涉及扩散炉,尤其涉及扩散炉尾气压力平衡系统。
背景技术
扩散炉是用于半导体扩散(掺杂)工艺的一种专用设备,其原理是:在高温环境下,通过分子的热运动,让磷(P)、铝(AL)、镓(Ga)、硼(B)等杂质元素进入纯净的硅片内部,形成PN结。扩散这一工艺过程是在扩散炉的反应室内进行的,为了确保扩散工艺的稳定性,即不同批次的硅片通过扩散后,所得到的PN结的结深及掺杂浓度等参数保证一致,必须确保反应腔体内部的气体压力保持稳定。
目前对反应室的气压控制主要有如下两种方法:1、通过人工手动调节尾气阀门来控制压力的大小,该方式的缺陷在于费时费力,且不够准确;2、通过控制充入反应室的氮气的量来控制压力,该方法的不足之处在于浪费氮气,且增加了能耗。
发明内容
为了克服上述缺点,本实用新型提供了一种可以方便、快捷、准确、高效、节约成本且对反应室内气压进行自动控制的扩散炉尾气压力平衡系统。
本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统,主要包括真空反应室、压力传感器、信号线、PLC控制器、电磁阀、电磁阀后端管道、真空泵、电磁阀前端管道;其中真空反应室与电磁阀前端管道相连,电磁阀设置在电磁阀前端管道与电磁阀后端管道之间,电磁阀后端管道与真空泵相连;压力传感器设置在电磁阀前端管道上,压力传感器通过信号线与PLC控制器相连,PLC控制器通过信号线与电磁阀相连。
工作时,通过压力传感器测量真空室内的气压P,将气压信号传入PLC控制器,PLC控制器将测得的气压值与预设的标准值P进行比较,若P>P标,则PLC控制器发出增大电磁阀流通截面的信号,减小电磁阀的流阻,从而减小真空室内的气压;若P<P标,则PLC控制器发出减小电磁阀流通截面的信号,增大电磁阀的流阻,从而增大真空室内的气压。
本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统,具有以下优点:
1、本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统,可以实时地对真空室压力进行检测和控制,可以精确的将压力控制在用户设定的压力值上,具有很高的精度。
2、本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统,实现了气压的自动控制,免去了工人手动调节阀门的工序,节省了时间。
3、本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统,采用截流的方式来控制,避免了填充氮气所带来的浪费,节约了生产成本。
本实用新型所述尾气压力平衡系统也适用于太阳能电池片生产用的PECVD(等离子增强型化学气相沉积)设备。
为了获得更好的效果,本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统中,所述电磁阀为蝶阀。
附图说明
图1为本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统的结构示意图。
图中编号说明:
1-真空反应室;2-压力传感器;3-PLC控制器;4-电磁阀;5-电磁阀后端管道;6-真空泵;7-电磁阀前端管道;8-信号线。
具体实施方式
结合图1,对本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统的结构示意图进行详细说明。
如图1所示,本实用新型所述扩散炉尾气压力平衡系统,为自动控制系统,它包括真空反应室1、压力传感器2、PLC控制器3、 蝶阀4、蝶阀后端管道5、真空泵6、蝶阀前端管道7。
其中,真空反应室1与蝶阀前端管道7相连,蝶阀4接在蝶阀前端管道7与蝶阀后端管道5之间,蝶阀后端管道5与真空泵6相连,压力传感器2安装在蝶阀前端管道7上,用于测量真空反应室1的气压,压力传感器2的信号线与PLC控制器3相连,PLC控制器3的蝶阀控制信号线与蝶阀4相连。
通过压力传感器测量真空室内的气压P,将气压信号传入PLC控制器,PLC控制器将测得的气压值与预设的标准值P进行比较,若P>P标,则PLC控制器发出增大蝶阀流通截面的信号,减小蝶阀的流阻,从而减小真空室内的气压;若P<P标,则PLC控制器发出减小蝶阀流通截面的信号,增大蝶阀的流阻,从而增大真空室内的气压。

Claims (2)

1. 一种扩散炉尾气压力平衡系统,其特征在于它主要包括真空反应室、压力传感器、信号线、PLC控制器、电磁阀、电磁阀后端管道、真空泵、电磁阀前端管道;其中真空反应室与电磁阀前端管道相连,电磁阀设置在电磁阀前端管道与电磁阀后端管道之间,电磁阀后端管道与真空泵相连;压力传感器设置在电磁阀前端管道上,压力传感器通过信号线与PLC控制器相连,PLC控制器通过信号线与电磁阀相连。
2. 根据权利要求1所述的扩散炉尾气压力平衡系统,其特征在于所述电磁阀为蝶阀。
CN2010206660341U 2010-12-17 2010-12-17 扩散炉尾气压力平衡系统 Expired - Fee Related CN201908156U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010206660341U CN201908156U (zh) 2010-12-17 2010-12-17 扩散炉尾气压力平衡系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010206660341U CN201908156U (zh) 2010-12-17 2010-12-17 扩散炉尾气压力平衡系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN201908156U true CN201908156U (zh) 2011-07-27

Family

ID=44300361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2010206660341U Expired - Fee Related CN201908156U (zh) 2010-12-17 2010-12-17 扩散炉尾气压力平衡系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN201908156U (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102965736A (zh) * 2012-10-24 2013-03-13 上海超日(洛阳)太阳能有限公司 一种液态源扩散炉的安防装置及其使用方法
CN103710758A (zh) * 2013-12-31 2014-04-09 北京七星华创电子股份有限公司 一种负压扩散炉反应腔室压力控制系统及控制方法
CN106012025A (zh) * 2016-07-22 2016-10-12 桂林电子科技大学 一种扩散炉气体浓度及扩散方式的自动控制装置
CN107475693A (zh) * 2017-08-23 2017-12-15 上海华力微电子有限公司 一种常压炉管工艺压力控制装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102965736A (zh) * 2012-10-24 2013-03-13 上海超日(洛阳)太阳能有限公司 一种液态源扩散炉的安防装置及其使用方法
CN103710758A (zh) * 2013-12-31 2014-04-09 北京七星华创电子股份有限公司 一种负压扩散炉反应腔室压力控制系统及控制方法
CN103710758B (zh) * 2013-12-31 2016-06-29 北京七星华创电子股份有限公司 一种负压扩散炉反应腔室压力控制系统及控制方法
CN106012025A (zh) * 2016-07-22 2016-10-12 桂林电子科技大学 一种扩散炉气体浓度及扩散方式的自动控制装置
CN107475693A (zh) * 2017-08-23 2017-12-15 上海华力微电子有限公司 一种常压炉管工艺压力控制装置
CN107475693B (zh) * 2017-08-23 2019-06-28 上海华力微电子有限公司 一种常压炉管工艺压力控制装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN201908156U (zh) 扩散炉尾气压力平衡系统
CN101724899A (zh) 少子寿命大于等于1000微秒的n型太阳能硅单晶生长工艺
CN104409339A (zh) 一种硅片的p扩散方法和太阳能电池的制备方法
CN203159746U (zh) 一种扩散炉炉腔压力自动平衡控制系统
CN102213362A (zh) 超纯氨免污染充装方法
CN204668282U (zh) 一种高温低压扩散装置
CN204144271U (zh) 一种具有背面钝化结构的单晶硅太阳能电池
CN202786503U (zh) 多晶铸锭炉气路分配装置
CN202519366U (zh) 多晶硅太阳能光伏电池硅片的扩散用进气管路
CN202281741U (zh) 金属粉末透气性检测设备
CN103257209A (zh) 一种扩散炉的气流均匀性检测装置
CN202390575U (zh) 多晶炉真空计定位装置及采用该定位装置的多晶炉
CN202252235U (zh) 菱形阀的流量测量与控制装置
CN204224260U (zh) 泥磷回收节能控制装置
CN201408773Y (zh) 晶体硅太阳能电池扩散炉
CN202224678U (zh) 一种新型多面体对称夹具
CN205088334U (zh) 一种自动控制硅晶炉生产的气体控制设备
CN105576082A (zh) 一种提高多晶硅电池pecvd工序产能的方法
CN205691383U (zh) 一种电站锅炉多管式多功能采样枪
CN204097561U (zh) 一种碳化硅化学气相沉积设备
CN216698398U (zh) 应用高方阻选择性发射极技术的太阳能电池片的制备装置
CN203883027U (zh) 一种扩散炉用硼扩散炉管
CN202096777U (zh) 一种太阳能扩散炉废气截流液化装置
CN203690331U (zh) 用于太阳能电池膜面开窗工艺的装置
CN202808625U (zh) 石灰竖窑的环形补风装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: QINGDAO SAIRUIDA EQUIPMENT MANUFACTURING CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: QINGDAO SAIRUIDA ELECTRONIC TECHNOLOGY CO., LTD.

Effective date: 20111021

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20111021

Address after: 318-24 266000, Pioneer Center, hi tech Industrial Development Zone, Shandong, Qingdao

Patentee after: Qingdao Sunred Equipment Manufacturing Co., Ltd.

Address before: 318-24 266000, Pioneer Center, hi tech Industrial Development Zone, Shandong, Qingdao

Patentee before: Qingdao Radar Electronics Co., Ltd.

C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: QINGDAO SUNRED ELECTRONIC EQUIPMENT CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: QINGDAO SAIRUIDA EQUIPMENT MANUFACTURING CO., LTD.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 318-24 266000, Pioneer Center, hi tech Industrial Development Zone, Shandong, Qingdao

Patentee after: Qingdao Sunred Electronic Equipment Co., Ltd.

Address before: 318-24 266000, Pioneer Center, hi tech Industrial Development Zone, Shandong, Qingdao

Patentee before: Qingdao Sunred Equipment Manufacturing Co., Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110727

Termination date: 20151217

EXPY Termination of patent right or utility model