CN201908130U - 超大产能pecvd设备 - Google Patents

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Inventor
王鹏
崔慧敏
李丙科
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Qingdao Sunred Electronic Equipment Co., Ltd.
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QINGDAO RADAR ELECTRONICS CO Ltd
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Abstract

本实用新型所述的超大产能PECVD设备，主要包括硅片、石墨舟、炉体；其中石墨舟为7列，设置于炉体内，硅片设置于石墨舟的槽内；本实用新型所述的超大产能PECVD设备，其石墨舟在原有的基础上增加了1列，炉体的口径和长度也在原来的基础上增大了，同时与之相关的其他外部零件也进行了修改，配备了难于制造的当今最大口径的石英管，在气路设计上也配备了与适应的气路件；本实用新型使太阳能电池片生产的效率得到提高，适应了快速发展的太阳能光伏发电产业的发展。

Description

超大产能PECVD设备
技术领域
本实用新型涉及PECVD设备，具体涉及一种超大产能PECVD设备。
背景技术
目前用于太阳能电池片生产的PECVD（等离子增强型化学气相沉积）设备的产能有限，对于尺寸为125 mm×125 mm的硅片，每管可以装载196或252片；对于156 mm×156 mm的硅片，每管装载156或216片。然而，这一有限的产能与快速发展的太阳能光伏发电产业不相匹配，研发和生产具有超大产能的PECVD设备已经成为必然趋势。
发明内容
为了克服现有PECVD设备产能低的弊端，本实用新型提供了一种超大产能PECVD设备。
本实用新型所述的超大产能CVD设备，主要包括硅片、石墨舟、炉体；其中石墨舟为7列，设置于炉体内，硅片设置于石墨舟的槽内。
本实用新型所述的超大产能PECVD设备，其石墨舟在原有的基础上增加了1列，炉体的口径和长度也在原来的基础上增大了，同时与之相关的其他外部零件也进行了修改，配备了难于制造的当今最大口径的石英管，在气路设计上也配备了与适应的气路件。
本实用新型所述的超大产能PECVD设备，石墨舟用于太阳能电池芯片生产的“沉积减反射膜”工序，在密闭的真空炉体内，填充了工艺气体（硅烷和氨气），它们被射频电离成了等离子体，这些等离子体的化学性能很强，很容易发生反应，在硅片上沉积出所希望的薄膜。石墨舟内的硅片在炉体内均匀的分布，气体可以在硅片表面均匀地沉积。炉体的容积和石墨舟的槽数决定了PECVD的产能，因此本实用新型通过增加炉体容积和石墨舟槽的数量从而达到提高产能的效果。
附图说明
图1为本实用新型所述超大产能PECVD设备的结构示意图。
1-硅片；2-石墨舟；3-炉体。
具体实施方式
图1为本实用新型所述超大产能PECVD设备的实施例。
本实用新型所述的PECVD设备新型开关炉门包括主要包括硅片1、石墨舟2、炉体3；其中石墨舟2为7列，设置于炉体3内，硅片1设置于石墨舟2的槽内。
本实用新型设备就可以在满足生产工艺要求的的情况下，容纳更多的硅片，提高设备的生产能力。对于125 mm×125 mm的硅片，每管可以装载288或320片；对于156 mm×156 mm的硅片，每管装载252或280片。

Claims (1)

1.一种超大产能PECVD设备，主要包括硅片、石墨舟、炉体，其特征在于所述石墨舟为7列，设置于炉体内，硅片设置于石墨舟的槽内。
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Patentee after: Qingdao Sunred Equipment Manufacturing Co., Ltd.

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Owner name: QINGDAO SUNRED ELECTRONIC EQUIPMENT CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: QINGDAO SAIRUIDA EQUIPMENT MANUFACTURING CO., LTD.

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Granted publication date: 20110727

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