CN201887061U - 单晶制绒片架压条装置 - Google Patents

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李建飞
祝耀华
于海娇
王守志
李扬
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Abstract

本实用新型提供了一种单晶制绒片架压条装置,包括:第一压条;第二压条,与第一压条相互平行;第三压条,一端连接在第一压条的中点区域,另一端连接在第二压条的中点区域;所述第三压条中设置有通孔。本实用新型实施例提供的单晶制绒片架压条装置中,在压条中设置了通孔,通孔能够疏导压条处制绒液的流动,使压条处制绒液的流动与周边区域相同,进而使硅片压条处的腐蚀速率与其它区域相同,避免了硅片上压条印的形成,进而解决了硅片在PECVD制程中产生色斑的缺陷。

Description

单晶制绒片架压条装置
技术领域:
本实用新型涉及单晶硅太阳能电池制造技术领域,尤其涉及一种单晶制绒片架压条装置。
背景技术:
单晶硅太阳能电池制造工艺流程第一道工序通常为单晶硅表面织构化,为了得到良好的“金字塔”状的绒面陷光结构,现有已经成熟的方法是利用低浓度的氢氧化钠(氢氧化钾)、IPA(异丙醇)、硅酸钠(硅酸钾)按一定比例形成制绒液,将硅片放入该制绒液中腐蚀以达到制绒的目的。通过硅片制绒,可以有效地增强硅片对入射太阳光的吸收,从而提高光生电流密度。
常规的硅片制绒工艺实施过程中,需要将硅片放置于专用的制绒片架中,为防止硅片在制绒液中浮起,需要使用压条装置将硅片固定在片架中,这样势必影响压条处制绒液的流动,使压条处硅片的腐蚀速率与周边大不相同,导致硅片制绒后压条处存在明显压条印,进而对后续的PECVD(等离子体增强化学气象淀积)工序造成影响,使硅片对应的压条处形成明显的色斑。为此,现有技术中的常用解决方案为:增加IPA使用量,借助IPA的高挥发性增加溶液的流动性,或者为设备增加鼓泡系统和循环系统来增加制绒液的流动性,以减弱压条印。
然而,现有技术的解决方案中,并没有从根本上解决制绒腐蚀中出现的压条印问题,同时无论是增加IPA用量还是增加鼓泡和循环系统,都增加了单晶硅太阳能电池的成本,不利于大规模的推广和应用。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型申请的目的在于提供单晶制绒片架压条装置,以解决硅片在制绒腐蚀中出现的压条印问题,并无需增加IPA用量或增加鼓泡和循环系统,以降低单晶硅太阳能电池的成本。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:
一种单晶制绒片架压条装置,包括:
第一压条;
第二压条,与第一压条相互平行;
第三压条,一端连接在第一压条的中点区域,另一端连接在第二压条的中点区域;
所述第三压条中设置有通孔。
优选的,
第三压条中的通孔设置在第三压条与硅片接触位置相对应的位置。
优选的,
所述第三压条垂直与第一压条和第二压条。
优选的,
所述通孔为圆形,其直径为1毫米至2毫米。
优选的,
所述通孔为正方形,其边长为1毫米至2毫米。
优选的,
所述通孔为椭圆形、正多边形或不规则多边形。
优选的,
所述第三压条中设置有多个不同形状的通孔;
所述通孔为圆形、椭圆形、正多边形或不规则多边形。
优选的,
所述第三压条中设置有多个通孔;
相邻的两个通孔之间的距离相同或不同。
优选的,
所述通孔之间的间距,与硅片接触第三压条的各个位置之间的间距相匹配。
本实用新型实施例提供的单晶制绒片架压条装置中,在压条中设置了通孔,通孔能够疏导压条处制绒液的流动,使压条处制绒液的流动与周边区域相同,进而使硅片压条处的腐蚀速率与其它区域相同,避免了硅片上压条印的形成,进而解决了硅片在PECVD制程中产生色斑的缺陷。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的单晶制绒片架压条装置结构示意图;
图2为本实用新型实施例一提供的单晶制绒片架压条装置结构示意图;
图3为本实用新型实施例二提供的单晶制绒片架压条装置结构示意图。
具体实施方式
现有技术中的单晶硅太阳能电池生产过程中,在制绒步骤中容易出现硅片压条处存在明显压条印,使后续制程中硅片的压条处形成明显的色斑。其一种解决方法是增加IPA用量或增加鼓泡和循环系统,但这种方案会增加单晶硅太阳能电池的成本,不利于大规模的推广和应用。
为此,本实用新型实施例提供了一种单晶制绒片架压条装置,包括:第一压条;第二压条,与第一压条相互平行;第三压条,一端连接在第一压条的中点区域,另一端连接在第二压条的中点区域;所述第三压条中设置有通孔。
本实用新型实施例提供的单晶制绒片架压条装置中,在压条中设置了通孔,通孔能够疏导压条处制绒液的流动,使压条处制绒液的流动与周边区域相同,进而使硅片压条处的腐蚀速率与其它区域相同,避免了硅片上压条印的形成,进而解决了硅片在PECVD制程中产生色斑的缺陷。
以上是本实用新型的核心思想,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例一:
参见图1所示,为现有技术中的一种单晶制绒片架压条装置示意图,101为第一压条,102为第二压条,103为第三压条。其中,第三压条103为与硅片相接触的压条,在硅片制绒步骤中,存在硅片与第三压条103相接触的区域形成压条印的缺陷。
为此,本实施例提供了一种单晶制绒片架压条装置,参见图2所示,为该装置的一种结构示意图,该装置具体包括:
第一压条201;
第二压条202,与第一压条201相互平行;
第三压条203,一端连接在第一压条201的中点区域,另一端连接在第二压条202的中点区域;
所述第三压条203中设置有通孔2031。
其中,因压条装置需要将硅片固定在制绒片架中,为了进一步的提高第三压条203与硅片接触处的制绒液的流动速率,本实施例中,所述通孔2031可以设置在第三压条203与硅片接触位置相对应的位置。所述各个通孔之间的间距,与硅片接触压条的各个位置之间的间距相匹配。
具体的,如图2所示,所述第三压条203还可以垂直于第一压条201和第二压条202。
此外,所述通孔可以为圆形,其直径为1毫米至2毫米。所述通孔还可以为边长为1毫米至2毫米的正方形。所述通孔还可以为椭圆形、正多边形或不规则多边形。本实施例中,所述通孔的大小可以根据所述第三压条的宽度做相应的调整,并不局限于一个特定的范围之内。
本实用新型实施例提供的单晶制绒片架压条装置中,在压条中设置了通孔,通孔能够疏导压条处制绒液的流动,使压条处制绒液的流动与周边区域相同,进而使硅片压条处的腐蚀速率与其它区域相同,避免了硅片上压条印的形成,进而解决了硅片在PECVD制程中产生色斑的缺陷。
实施例二:
参见图3所示,为本实施例提供的单晶制绒片架压条装置示意图一种结构示意图,该装置具体包括:
第一压条301;第二压条302,与第一压条301相互平行;
第三压条303,一端连接在第一压条301的中点区域,另一端连接在第二压条302的中点区域;所述第三压条303中设置有通孔3031。
其中,第三压条303垂直于第一压条301和第二压条302。
如图3所示,本实施例中,所述第三压条303中可以设置有多个不同形状的通孔3031,具体包括椭圆形的通孔和矩形通孔。
所述通孔3031可以为圆形、椭圆形、正多边形或不规则多边形。
本实施例中,所述通孔可以均匀的设置于第三压条上,即相邻的两个通孔之间的距离相同;还可以根据第三压条与硅片的接触位置,设置通孔的分布,即相邻的两个通孔之间的距离可以不相同。本实施例中,所述各个通孔之间的间距,与硅片接触压条的各个位置之间的间距相匹配。
本实用新型实施例提供的单晶制绒片架压条装置中,在压条中设置了通孔,通孔能够疏导压条处制绒液的流动,使压条处制绒液的流动与周边区域相同,进而使硅片压条处的腐蚀速率与其它区域相同,避免了硅片上压条印的形成,进而解决了硅片在PECVD制程中产生色斑的缺陷。
本实用新型说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种单晶制绒片架压条装置,其特征在于,包括:
第一压条;
第二压条,与第一压条相互平行;
第三压条,一端连接在第一压条的中点区域,另一端连接在第二压条的中点区域;
所述第三压条中设置有通孔。
2.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
第三压条中的通孔设置在第三压条与硅片接触位置相对应的位置。
3.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
所述第三压条垂直与第一压条和第二压条。
4.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
所述通孔为圆形,其直径为1毫米至2毫米。
5.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
所述通孔为正方形,其边长为1毫米至2毫米。
6.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
所述通孔为椭圆形、正多边形或不规则多边形。
7.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
所述第三压条中设置有多个不同形状的通孔;
所述通孔为圆形、椭圆形、正多边形或不规则多边形。
8.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:
所述第三压条中设置有多个通孔;
相邻的两个通孔之间的距离相同或不同。
9.根据权利要求1所述的单晶制绒片架压条装置,其特征在于:所述通孔之间的间距,与硅片接触第三压条的各个位置之间的间距相匹配。 
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